「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(316ページ目) - Weblio英語例文検索

The shape of a peripheral part 33a of metal electrode 33 to be formed is will not be affected by the shape of burrs 32 that are adhere to an aperture 30 of mask for vapor deposition 28, and thus a slotted part 33b corresponding to the burrs 32 is hard to be formed at a peripheral part 33a of the metal electrode 33.例文帳に追加

このとき、形成される金属電極３３の外周縁部３３ａの形状は、蒸着用マスク２８の開口部３０に付着したバリ３２の形状に影響されることがなく、その結果、金属電極３３の外周縁部３３ａにバリ３２に対応する切り込み部３３ｂが形成されにくくなる。 - 特許庁

To provide a slit yarn free of any sharp corner at its cross-sectional part and improved in durability through ensuring the end portions of a metallic vacuum deposition layer or a resin coating layer not to contact with the outside, to provide a method for producing the same, and to provide a laser cutting device for use in producing the same.例文帳に追加

断面部分に鋭利な角部を有さず、また金属蒸着層や樹脂コート層等の端部を外部と接触させないようにすることで耐性を向上させることを可能としたスリット糸及びスリット糸の製造方法、並びに該スリット糸の製造に用いるレーザ裁断装置を提供する。 - 特許庁

To provide a production apparatus that reduces a production cost by increasing the usability of EL materials, when producing a full-color flat panel display which uses luminescent colors of red, green and blue, and is provided with a vapor deposition device which is one of production devices capable of forming a film for an EL layer with superior uniformity and throughput.例文帳に追加

赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、ＥＬ材料の利用効率を高めることによって製造コストを削減し、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループットの優れた製造装置の一つである蒸着装置を備えた製造装置を提供する。 - 特許庁

The surface area of the amorphous carbon material gets larger by setting the average diameter of the amorphous carbon material at 10 μm or less, and even if an inactive coat is formed on the surface of the negative electrode by elusion and deposition of manganese, high temperature cycle characteristics can be improved without causing high temperature cycle deterioration, because the entire surface area is large.例文帳に追加

非晶質炭素材の平均粒径を１０μｍ以下とすることで非晶質炭素材の表面積が大きくなり、正極からのマンガン溶出／析出により負極表面に不活性被膜が形成されても全体の表面積が大きいので、高温サイクル劣化を起こさず高温サイクル特性を改善できる。 - 特許庁

From the observation of the structure under a scanning electron microscope, a target material for deposition of an optical recording medium protective layer has a structure which consists of, in the ratio to the whole, 4-20 mass % SiO2 constituting a network continuous phase and the balance essentially ZnS distributed as a disperse phase filling the meshes of the continuous phase.例文帳に追加

光記録媒体保護層形成用ターゲット材が、走査型電子顕微鏡による組織観察で、全体に占める割合で４〜２０質量％のＳｉＯ_2が網目状連続相を構成し、残りが実質的に前記連続相の網目を埋めた分散相として分布するＺｎＳからなる組織を有する。 - 特許庁

To provide a board for recording head capable of suppressing increase in size of the board being produced in a film deposition process by suppressing increase in wiring size while increasing the number of recording elements being driven simultaneously in order to realize enhancement of recording performance, and to provide a recording head employing that board and a recorder employing that recording head.例文帳に追加

記録性能の向上を実現するために同時駆動する記録素子の数を増やしながら、配線幅の増加を抑え成膜プロセスで作られる基板サイズの増大を抑えることができる記録ヘッド用基板、その基板を用いた記録ヘッド、及びその記録ヘッドを用いた記録装置を提供することである。 - 特許庁

This sputtering apparatus for manufacturing a piezoelectric element film comprises a vacuum tank for maintaining the film deposition pressure, a vacuum pump for evacuating the vacuum tank, a power source for performing the sputtering, a gas introduction system required for the sputtering, a bias power source for applying the bias to a substrate, and an introduction unit for applying the bias to a predetermined part of the film surface.例文帳に追加

成膜圧力を保持する為の真空槽、真空槽を排気する為の真空ポンプ、スパッタリングを行う為の電源、スパッタリングに必要なガス導入システム、基板にバイアスを印加させる為のバイアス電源、膜表面の特定部分にバイアスを印加する為の導入部で構成される圧電素子膜製造スパッタリング装置。 - 特許庁

To produce a magnesium oxide film of good film quality, e.g. having <111> orientation properties even in the case the amt. of gaseous oxygen to be introduced into a vacuum vessel is relatively small in the production of a magnesium oxide film by vapor deposition, to mount a cryopump on a producing device for mass production and to prolong the continuous working time of the producing device.例文帳に追加

蒸着による酸化マグネシウム膜の作製で、真空容器への酸素ガスの導入量が相対的に少量であっても膜質の良好な例えば〈１１１〉配向性の酸化マグネシウム膜を作製し、クライオポンプを量産用作製装置に搭載すること、作製装置の連続稼働時間を延ばすことを可能にする。 - 特許庁

The method of manufacturing the magnetic head element having a soft magnetic layer, is characterized in that the method has the steps of: depositing a plating base layer of the soft magnetic layer by sputtering; and applying a magnetic field to the direction parallel with an orientation flat of a wafer in which the head element is formed during the deposition step.例文帳に追加

軟磁性層を有する磁気ヘッド素子の製造方法であって、前記軟磁性層のメッキベース層をスパッタリングにより成膜するステップと、前記成膜ステップ中に前記ヘッド素子が形成されるウェハのオリフラと平行な方向に磁場を印加するステップとを有することを特徴とする方法を提供する。 - 特許庁

The vacuum arc vapor-deposition apparatus further has a switch-controlling unit 40 for controlling switching of the position of the trigger electrode 20 to the front of the cathode 14 which is not covered with the shutter 32, and switching of the cathode 14 which is not covered with the shutter 32, by controlling the shutter drive unit 34 and the trigger drive unit 22a.例文帳に追加

更にこの真空アーク蒸着装置は、シャッター駆動装置３４およびトリガ駆動装置２２ａを制御して、シャッター３２で覆わない陰極１４を切り換えると共に、シャッター３２で覆わない陰極１４の前方にトリガ電極２０を位置させる制御を行う切り換え制御装置４０を備えている。 - 特許庁

When the metal thin film type magnetic layer having 5 to 55 nm thickness is deposited on the other principal surface side of the non-magnetic substrate by a vacuum thin film deposition method, a shielding layer consisting of diamond like carbon and having 3 to 25 nm thickness is provided between the non-magnetic substrate and the magnetic layer by plasma CVD method.例文帳に追加

非磁性支持体の一主面側に真空薄膜形成法により、厚さ５ｎｍ以上、５５ｎｍ以下の金属薄膜型磁性層を形成するに際して、該非磁性支持体と該磁性層との間にダイヤモンドライクカーボンからなる厚さ３ｎｍ以上、２５ｎｍ以下のシールド層をプラズマＣＶＤ法により設ける。 - 特許庁

Especially, in the case of applying the retroreflector 1 to the liquid crystal display device whose display screen is vertically placed, the metal deposition film 13 is formed to the slope 12 for which a normal line extended to the viewing side of the liquid crystal display device forms an elevation angle to a horizontal plane in the state of viewing the liquid crystal display device.例文帳に追加

特に、再帰性反射板１を表示画面が縦置型とされた液晶表示装置に適用する場合、前記液晶表示装置が視認される状態において、前記液晶表示装置の視認側に延びる法線が水平面に対して仰角をなす斜面１２に対し、金属蒸着膜１３が形成される。 - 特許庁

To provide a glass melting furnace where, during driving, the presence and position of deposits in the vicinity of the bottom part of a melting tank thereof are specified, and the vicinity of the deposition part thereof can be locally heated, thus the viscosity of the deposits is reduced and the deposits can be selectively extracted, and which can be continuously driven with high efficiency.例文帳に追加

ガラス溶融炉運転中に、その溶融槽の底部近傍での堆積物の有無及び位置を特定し、その堆積箇所近傍を局所的に加熱できるようにして、堆積物の粘度を下げ、選択的に堆積物を抜き出すことができ、ガラス溶融炉を効率よく連続運転できるようにする。 - 特許庁

In the production process for an epitaxial wafer 20 in which a single crystal thin film 22 is grown on a silicon single crystal substrate 21 placed on the counterbored part 11 of a susceptor 10 by gaseous phase deposition, the depth D of the counterbored part 11 on which the silicon single crystal substrate 21 is placed is selected according to the thickness d of the silicon single crystal substrate 21.例文帳に追加

サセプタ１０が備える座ぐり部１１に載置されたシリコン単結晶基板２１上にシリコン単結晶薄膜２２を気相成長させるエピタキシャルウェーハ２０の製造方法において、シリコン単結晶基板２１の厚さｄに応じてシリコン単結晶基板２１を載置させる座ぐり部１１の深さＤを選択する。 - 特許庁

To provide a washing water coater which prevents the worsening of washing conditions of a material to be washed and aims at the reduction of washing water and waste water treatment cost by preventing the deposition of scale on the washing water discharging port of a coating nozzle and inhibiting the growth of algae, thereby preventing the cloggings of the coating nozzle.例文帳に追加

塗布ノズルの洗浄水吐出口にスケールが析出したり、藻が繁殖することを防止し、塗布ノズルの詰まりを防止することにより、被洗浄物の洗浄状態の悪化を防止するとともに、洗浄水および排水処理コストの削減を図る洗浄水塗布装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

This vacuum deposition apparatus has a vacuum chamber, several vaporizing positions of the film-forming materials which are set in the vacuum chamber, means for heating the film-forming materials corresponding to each of the several vaporizing positions, and means for supplying the film- forming materials, which are arranged so as to correspond to at least one of the vaporizing positions.例文帳に追加

真空チャンバと、前記真空チャンバ内に複数設定された成膜材料の蒸発位置と、前記蒸発位置の個々に対応する成膜材料の加熱手段と、前記蒸発位置の少なくとも１つに対応して配置される、成膜材料の供給手段とを有することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

The solid catalyst for carbonylation reaction is a catalyst produced from a resin carrier having a porous crosslinked structure containing a nitrogen-containing ring and a salt of the group VIII metal in a manner that the average particle diameter of the resin carrier is adjusted to be 350 μm or smaller and the deposition amount of the VIII metal on the resin carrier is adjusted to be 0.5 wt.% or more.例文帳に追加

窒素環を含む多孔質架橋構造を有する樹脂担体と第VIII族金属の塩を用いて製造されたカルボニル化反応用固体触媒であって、前記樹脂担体の平均粒径が、３５０μｍ以下であり、当該樹脂担体への第VIII族金属の担持量が０．５ｗｔ％以上となるように設定する。 - 特許庁

To provide a method of forming a substance film which can enhance an efficiency of vapor deposition of a noble metal film on a ferroelectric film, a method of manufacturing a ferroelectric film capacitor using the method, and a ferroelectric film capacitor formed by the method, and to provide a semiconductor memory device having the ferroelectric film capacitor and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

強誘電膜上で貴金属膜の蒸着率を向上させうる物質膜の形成方法、この方法を利用した強誘電膜キャパシタの製造方法及びこの方法で形成された強誘電膜キャパシタ、このような強誘電膜キャパシタを備える半導体メモリ装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises: a stage wherein a nickel based vacuum thin film 13 is deposited on a substrate 11 based on a physical vapor deposition technique; and a stage wherein the substrate 11 with the vacuum thin film 13 deposited is subjected to substitution gold plating treatment in a substitution gold plating bath to deposit a substitution gold layer 14 on the surface of the vacuum thin film 13.例文帳に追加

基板１１上に物理的蒸着技術に基づくニッケル系の真空薄膜１３を形成する工程と、この真空薄膜１３を形成した基板１１を置換金メッキ浴において置換金メッキ処理を施し該真空薄膜１３の表面に置換金層１４を形成する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a coating liquid for positive electrode formation for lithium secondary battery in which dispersion condition of active material particles is improved, and coagulation and deposition of the active material particles due to preservation for a long period are prevented, and high density filling of the active material in the active material layer is realized at the time of forming the active material layer.例文帳に追加

リチウム二次電池の正極形成用塗工液における、活物質粒子の分散状態を改良し、長期間の保存による活物質粒子の凝集および沈殿を防止するとともに、活物質層を形成する場合に、活物質層における活物質の高密度充填を可能にする。 - 特許庁

The deposition suppressing gas lowers a pre-cursor concentration at generation of products and flows between the substrate stage 2 and substrate 9 by way of between small projections 28 on a substrate holding surface of the substrate stage 2, and flows to the side of the substrate stage 2 from the gap between a circumferential projection 29 and the peripheral edge of the substrate 9.例文帳に追加

堆積抑制用ガスは、生成物が生じる際のプリカーサ濃度を低下させるものであり、基板ステージ２の基板保持面の各小突起２８の間を通りながら基板ステージ２と基板９との間を流れ、周状突起２９と基板９の周縁との隙間から基板ステージ２の側方に流出する。 - 特許庁

To provide a resin material for covering an indicator which is excellent in pencil hardness, impact resistance, and punching quality even when its thickness is below 0.8 mm as an indicator protecting cover and is inhibited in the occurrence of warpage, a defective appearance, or the like even during printing or vapor deposition processing.例文帳に追加

携帯電話など産業用電子機器の表示体保護カバーとして、厚さ０．８ｍｍ未満であっても、優れた鉛筆硬度、耐衝撃性および打ち抜き加工性を有し、また印刷や蒸着加工時にも反りや外観不良など発生の少ない表示体カバー用樹脂材料を提供する。 - 特許庁

To obtain a sputtering target consisting of the composite of a chalcogenide and silicate advantageous for forming a phase change type optical disk protective film with which production efficiency can be enhanced by suppressing the occurrence of nodules and enhancing the uniformity of deposition, and an optical recording medium with the phase change type optical disk protective film formed thereon by using this target.例文帳に追加

ノジュールの発生を抑制し、成膜の均一性を高め、生産効率を上げることができる、相変化型光ディスク保護膜形成に有用であるカルコゲン化物と珪酸化物の複合体からなるスパッタリングターゲット及び該ターゲットを使用して相変化型光ディスク保護膜を形成した光記録媒体を得る。 - 特許庁

By using an aerosol deposition method for forming a thin film, an aerosol prepared by mixing metal silicide fine particles with a carrier gas is jetted, in an atmosphere at ordinary temperature and reduced pressure, onto a substrate through a nozzle at a predetermined rate, and the fine particles are attached onto the substrate using an impact solidification phenomenon to thereby produce a metal silicide thin film.例文帳に追加

エアロゾル薄膜堆積法を用い、金属珪化物の微粒子をキャリアガスと混合してエアロゾル化したものを、常温減圧下の雰囲気で、ノズルを通じて所定の速度で基板に噴射し、衝撃固化現象を利用して微粒子を基板上に付着させることによって、金属珪化物の薄膜を製造する。 - 特許庁

To provide a release film excellent in heat resistance, not to cause deterioration in flatness, excellent also in oligomer deposition-inhibiting property, even when subjected to a heat treatment at a high temperature in a processing step for applying it to various uses, further excellent in processing properties in sticking, slit/cutting or the like, and applicable to various uses.例文帳に追加

種々の用途で使用するための加工工程において高温で熱処理された場合でも、平面性が悪化せず、耐熱性に優れ、また、オリゴマーの抑止性にも優れ、さらに、張り合わせ時やスリット・裁断等の加工適性に優れ、各種用途への展開可能な離型フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a co-extrusion laminated film having an acrylic pressure-sensitive resin flexible layer, preventing an obstacle such as blocking, eliminating deposition of foreign matter onto a pressure-sensitive resin face, manufactured easily, and mounted easily to a liquid crystal display panel or the like, while preventing an air bubble from remaining, when mounted.例文帳に追加

ブロッキング等の障害を防止し、粘着性樹脂表面への異物付着を無くし、より簡便に製造でき、かつ、実装に際し、気泡の残留を防いで容易に液晶表示パネル等へ装着できるアクリル系粘着性柔軟層を有する共押出積層フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a composition for forming a liquid crystal alignment layer preventing deposition of a solid content on an inner part of a nozzle of a liquid droplet ejection head or the near part thereof and thereby forming the uniform and flat liquid crystal alignment layer free from film thickness unevenness and to provide a method for manufacturing a liquid crystal display using the composition.例文帳に追加

液滴吐出ヘッドのノズル内やその近傍において固形分が析出してしまうのを防止し、これによって膜厚ムラのない均質で平坦な液晶配向膜を形成することができる、液晶配向膜形成用組成物、及びこの組成物を用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the piezoelectric component, a member including a built-in piezoelectric element and securing the air tight of the piezoelectric element is formed from non-conductive material on which metal can be vapor-deposited or sputtered, and on the surface of the member, a metal film is deposited by vapor deposition or sputtering, thereby the piezoelectric component is given shield effect on external noise.例文帳に追加

本発明は、圧電素子を内蔵し、かつ、該圧電素子を内部に気密確保する金属を蒸着あるいはスパッタリング可能な非導通材料からなる部材の表面に金属膜を蒸着またはスパッタリングにより形成し、外来ノイズのシールド効果をもたせたことを特徴とする圧電部品に関する。 - 特許庁

A porous layer 12 which is constituted of at least two layers, in which the degree of porosity differs is formed, by anodizing the surface of a semiconductor substrate, to make the surface of a porous layer 12 undergo the deposition of a semiconductor films 13, such as a solar cell or the like; and this semiconductor film 13 is exfoliated from a semiconductor substrate through a porous layer 12.例文帳に追加

半導体基体の表面を陽極酸化することにより多孔質度が異なる２層以上の層から構成される多孔質層１２を形成し、多孔質層１２の表面に太陽電池などの半導体膜１３を成膜し、この半導体膜１３を、多孔質層１２を介して半導体基体から剥離する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the metal carrier by making the substrate carry the metal nanocolloid particle using the metal nanocolloid solution, a conductive substrate is used as a substrate, the colloidal solution substantially containing no protective colloid forming agent is used as the metal nanocolloid solution, and the metal nanocolloid particle is carried on the substrate via an electro-deposition process.例文帳に追加

金属ナノコロイド液を用い、基体に金属ナノコロイド粒子を担持させて金属担持体を製造する方法において、基体として導電性基体を、金属ナノコロイド液として保護コロイド形成剤を実質上含まないコロイド液を使用し、電着法により、前記基体に金属ナノコロイド粒子を担持させる方法である。 - 特許庁

Further, since a shutter member 9 capable of blocking at least a part of an opening part 7 or an opening part 8 and also capable of adjusting a blocking area is provided at the opening parts 7, 8, an evaporation volume of each of the plurality of the kinds of the deposition materials can be easily controlled.例文帳に追加

また、開口部分７又は開口部分８の少なくとも一部を遮蔽可能であると共に、遮蔽する面積を調節可能なシャッタ部材９が当該開口部分７、８に設けられていることとしたので、複数種類の蒸着材料のそれぞれについて蒸発量の調節が容易になる。 - 特許庁

When any abnormality occurs in a film deposition process, the feed of a raw material gas from a raw material gas feed device 13a to a reaction chamber 11 is stopped, an inert gas N_2 is fed from a high-pressure inert gas introducing unit 15b to the reaction chamber 11, and the feed pressure of the inert gas N_2 is increased.例文帳に追加

成膜工程中の異常が発生した場合に、原料ガス供給装置１３ａから反応室１１への原料ガスの供給を停止し、高圧不活性ガス導入部１５ｂから反応室１１に対して不活性ガスＮ_2を供給し、さらに、不活性ガスＮ_2の供給圧力を上昇させる。 - 特許庁

A molecular beam source for depositing a thin film includes heaters 32, 42 for heating the material a, b for the thin film element in crucibles 31, 41, and valves 33, 43 for each regulating the quantity of molecules, emitted toward the film deposition surface of a substrate 51, of the material a, b for the thin film element generated from the crucible 31, 41.例文帳に追加

薄膜堆積用分子線源は、るつぼ３１、４１の中の薄膜素子材料ａ、ｂを加熱するためのヒータ３２、４２と、基板５１の成膜面へ向けて前記るつぼ３１、４１で発生した薄膜素子材料ａ、ｂの分子を放出する量を調節するバルブ３３、４３を備える。 - 特許庁

In this panel having a phosphor layer and a protection film provided thereon, the protection film of low moisture permeability is provided on the phosphor layer formed by a vapor deposition in the condition where 70% of gaps in formation of the phosphor layer are preserved.例文帳に追加

蛍光体層とその上に設けられた保護膜とを有する放射線像変換パネルにおいて、気相堆積法により形成された蛍光体層上に、低透湿度の保護膜が、該蛍光体層の形成時の空隙を７０％以上保持した状態で設けられていることを特徴とする放射線像変換パネル。 - 特許庁

After a photosensitive layer comprising selenium or a selenium alloy is formed on the surface of a conductive substrate by vacuum vapor deposition, the photosensitive layer surface is exposed to a supercritical fluid having a critical temperature of 0°C to 90°C at a temperature higher than the glass transition temperature and lower than the crystallization temperature of the photosensitive layer.例文帳に追加

本発明は、真空蒸着により導電性基体の表面にセレンまたはセレン合金よりなる感光層を形成後、該感光層表面を、臨界温度が０℃以上、９０℃以下の超臨界流体に前記感光層のガラス転移温度より高く、且つ結晶化温度より低い温度でさらすことを特徴とする。 - 特許庁

Thickness of the coating layer formed by the μm-level deposition in the form of the vapor phase or the ion such as sputter or evaporation is several μm, so that adhesion and denseness shut off impurities floating from the inside of the alumina base material, and the deformation of the alumina container by thermal expansion difference thereof can be avoided.例文帳に追加

スパッター又は蒸着などの気相、イオンの形態でμｍレベルの堆積により形成されるコーティング層は数μｍの厚さであって、密着性と緻密性によりアルミナ基材内から浮上する不純物を遮断すると共にその熱膨張差などによるアルミナ容器の変形を回避できる。 - 特許庁

The control part 90 controls the supply mechanism 70 to supply the first material gas and the second material gas and controls the substrate heating part 62 to heat the substrate held by the substrate holding part 44 to a temperature range in which a thermal polymerization reaction occurs so as to control the deposition rate of the polyimide film.例文帳に追加

制御部９０は、供給機構７０により第１の原料ガス及び第２の原料ガスを供給するとともに、基板加熱部６２により、基板保持部４４に保持されている基板を、熱重合反応が生ずる温度範囲に加熱することによって、ポリイミド膜の成膜速度を制御する。 - 特許庁

To provide a film deposition device for depositing a film by using a vertical reaction tube of double-pipe structure consisting of an inner tube and an outer tube in which uniformity of film thickness can be enhanced among substrates held by a substrate holder while restraining adhesion of particles to the substrate.例文帳に追加

内管と外管とからなる二重管構造の縦型の反応管を用いて成膜を行う成膜装置において、基板保持具に保持されている基板間における膜厚均一性の向上を図ることができ、且つ基板へのパーティクルの付着を抑えることができる成膜装置を提供することにある。 - 特許庁

A plurality of deposition sources 18 are dispersedly arranged facing a substrate 1 which forms a spacer having an opening corresponding to the shape of the electrode, and the range of the arrangement is set within a cylinder 20 whose radius from the normal line 19 made in the center of the substrate is almost the same as that of the substrate 1.例文帳に追加

表面に電極形状に対応した開口を備えたスペーサを形成した基板１に対向して複数の蒸着源１８を分散配置すると共に、その配置の範囲を基板の中心に立てた法線１９を中心とし半径を略基板１の半径とする円筒２０内とする。 - 特許庁

To provide a discharge electrode system for suppressing deposition of deposits on an electrode part and consistently depositing a film for a long time while feeding the gas uniformly, constantly and easily, and to provide a plasma treatment device using the electrode system and a treatment method using the treatment device.例文帳に追加

本発明の目的は、ガスの均一供給が常に簡単であるにもかかわらず、電極部に付着物が堆積していくことを抑制し、長時間安定して製膜できる放電電極システム、該電極システムを用いたプラズマ処理装置及び該処理装置を用いた処理方法を提供することにある。 - 特許庁

In the CVD film deposition system, the whole of the wall face in a space for storing a plastic vessel provided on an external electrode or a part of the wall face is provided with a secondary electron emission layer composed of a material having a secondary electron emission coefficient higher than that of an electrode material in the external electrode.例文帳に追加

本発明に係るＣＶＤ成膜装置は、外部電極に設けたプラスチック容器を収容するための空所の壁面全体若しくは壁面の一部に、外部電極の電極材料よりも２次電子放出係数が大きい材料からなる２次電子放出層を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The molecule-deposition device for depositing an objective molecule on the substrate comprises an ion-trapping part for capturing the above objective molecule charged with electricity, an electric field-applying means for applying an electric field to the above objective molecule trapped in the above ion-trapping part and charged with electricity, and a substrate-supporting means for supporting the substrate.例文帳に追加

基板上に対象分子を堆積させるための分子堆積装置であって、帯電した前記対象分子を捕獲するイオントラップ部と、前記イオントラップ部に捕獲された、前記帯電した対象分子に電場を印加する電場印加手段と、基板を支える基板支持手段と、を含む分子堆積装置など。 - 特許庁

A first coating by first treatment selected from the group consisting of electroplating treatment, electroless plating treatment and heat treatment is applied to the surface of a base material, and a second coating by second treatment selected from the group consisting of vapor deposition treatment and ion beam treatment is applied to the surface of the first coating.例文帳に追加

電解メッキ処理、無電解メッキ処理、および熱処理からなるグループから選択される第１の処理による第１のコーティングを基材の表面に施し、前記第１のコーティングの上に、蒸着処理およびイオンビーム処理からなるグループから選択される第２の処理による第２のコーティングを施す。 - 特許庁

The aerosol-deposition process includes an aerosol forming process to form an aerosol by stirring particles of carbon black and a resin based material in a nitrogen atmosphere, and a spraying process to spray the particles of the carbon black and the resin based material which have been formed into the aerosol on the surface of the noble metal plated stainless steel.例文帳に追加

エアロゾルデポジション工程は、カーボンブラックおよび樹脂系材料の粒子を、窒素雰囲気中で撹拌することによってエアロゾル化するエアロゾル化工程と、エアロゾル化された前記カーボンブラックおよび樹脂製材料の粒子を、前記貴金属メッキされたステンレス鋼の表面に吹き付ける吹付工程と、を備える - 特許庁

To obtain a make up composition or skin care composition in a powdery form having good characteristics from the view point of softness when applied to the skin and capable of obtaining deposition (particularly make up finish) having transparency and blocking defects of relief of the skin, e.g. micro-relief, wrinkle or fine lines while keeping covering effect in a low state.例文帳に追加

皮膚に適用したとき軟らかさの点で良好な特性を有し、被覆効果を低く保ちながら、透明であり、皮膚のレリーフの欠点、例えばマイクロレリーフ、しわ、細かい線を遮蔽する付着物、特にメイクアップ仕上がりを得ることを可能にする粉末の形態のメイクアップまたはスキンケア組成物を提供すること。 - 特許庁