「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

DEPOSITION METHOD, FILM, ELECTRONIC COMPONENT, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

成膜方法、膜、電子部品および電子機器 - 特許庁

INLINE-TYPE VAPOR DEPOSITION APPARATUS, VAPOR DEPOSITION METHOD USING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC-ELECTROLUMINESCENCE DEVICE例文帳に追加

インライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 - 特許庁

DEPOSITION METHOD AND DEPOSITION DEVICE FOR COLOR FILTER, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROOPTICAL APPARATUS AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

カラーフィルタの成膜方法および成膜装置、電気光学装置および電子機器の製造方法 - 特許庁

APPARATUS FOR MANUFACTURING ORGANIC EL DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND FILM DEPOSITION APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

有機ＥＬデバイス製造装置及び同製造方法並び成膜装置及び成膜方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING FILM DEPOSITION例文帳に追加

成膜制御装置及び成膜制御方法 - 特許庁

To provide a film deposition method and a film deposition system for obtaining a film having excellent flatness and homogeneity.例文帳に追加

平坦性、均質性に優れた膜が得られる成膜方法と成膜装置とを提供する。 - 特許庁

DEPOSITION METHOD OF FILM CONTAINING GROUP IV METAL例文帳に追加

第四族金属含有フィルムの堆積方法 - 特許庁

The thin film deposition apparatus for depositing a thin film on a substrate includes a film deposition vessel having a film deposition space for depositing the thin film on the substrate in a vacuum state, a gas introducing part for introducing gas to be used for thin film deposition into the film deposition space of the film deposition vessel, and a plasma electrode part for generating plasma by using the gas in the film deposition space.例文帳に追加

基板に薄膜を形成する薄膜形成装置は、減圧状態で基板に薄膜を形成する成膜空間を備える成膜容器と、前記成膜容器の前記成膜空間内に、薄膜形成に用いるガスを導入するガス導入部と、前記成膜空間において、前記ガスを用いてプラズマを生成させるプラズマ電極部を有する。 - 特許庁

When the same mask 40 for vapor deposition as that used in the preceding vapor deposition processes is used in this vapor deposition process, the vapor deposition conditions of this vapor deposition process are determined based on the measured result of the thickness of a deposited layer stuck to the mask 40 for vapor deposition in the preceding vapor deposition processes or the calculated result of the thickness of the deposited layer.例文帳に追加

前回までの蒸着工程と今回の蒸着工程とで同一の蒸着用マスク４０を用いるにあたって、前回までの蒸着工程により蒸着用マスク４０に付着した堆積層の厚さの測定結果、あるいは当該堆積層の厚さの算出結果に基づいて、今回行う蒸着条件を決定する。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus to deposit a film on a vapor deposition surface of a substrate by vaporizing a vapor deposition material by a vapor deposition source has a shutter to regulate the vapor deposition rate in a vicinity of an aperture of the vapor deposition source, and very small irregularities are formed on a surface of the shutter on the vapor deposition source side.例文帳に追加

本発明の蒸着装置は、蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源の開口部の近傍に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、微細な凹凸を形成したものである。 - 特許庁

In the vacuum film deposition method, a deposition preventive film in which at least one side is roughened is installed in a place where a film deposition material has not to be deposited within a vacuum film deposition system in such a manner that the roughened face is directed to the side on which the film deposition material is deposited.例文帳に追加

真空成膜装置内の、成膜物質が付着堆積してはならない場所に、少なくとも片面が粗化された防着フィルムを、その粗化面が成膜物質の付着堆積する側に向くように設置する真空成膜方法。 - 特許庁

An apparatus for manufacturing a stress-free flexible printed circuit board comprises: a magnetron deposition source 70; a plurality of single magnetron deposition sources 10; and a plurality of dual magnetron deposition sources 20, wherein a substrate is installed to move in a direction from the single magnetron deposition sources 10 to the dual magnetron deposition sources 20.例文帳に追加

マグネトロン蒸着源７０、多数の単一マグネトロン蒸着源１０及び二重マグネトロン蒸着源２０を含み、単一マグネトロン蒸着源１０から二重マグネトロン蒸着源２０への方向に基板が移動するように配置される。 - 特許庁

The vapor deposition source 5 is constituted of a lower vapor deposition source 7 which is arranged in an ordinary position in the lower part of a vapor deposition space 10 within the vacuum chamber 2, and an upper vapor deposition source 8 which is arranged in a position nearer the substrate holder 4 than the lower vapor deposition source 7.例文帳に追加

蒸着源５を、真空槽２内の蒸着空間１０下部の通常位置に配置された下部蒸着源７と、この下部蒸着源７よりも基材ホルダ４に近い位置に配置された上部蒸着源８とで構成する。 - 特許庁

To reduce the cost and the size of a vacuum vapor deposition device, and to prevent any pollution caused by impure gas between a vapor deposition chamber and a chamber adjacent thereto in the vacuum vapor deposition device for continuously executing the film deposition by the vacuum vapor deposition such as RtoR.例文帳に追加

ＲｔｏＲのように連続的に真空蒸着による成膜を行う真空蒸着装置において、装置の低コスト化および小型化を図ると共に、蒸着室と隣接する室との間の不純ガスによる汚染を防止する。 - 特許庁

The crucible 1 is composed of a vapor deposition material evaporation part and a vapor deposition material melting part provided perpendicularly thereto, and the influence of a ripple produced upon feed of the vapor deposition material is prevented at the vapor deposition material melting part so as to perform stable vapor deposition.例文帳に追加

ルツボ１を蒸着材料蒸発部分と、これに直角に設けた蒸着材料溶融部分で構成し、蒸着材料溶融部分で蒸着材料供給時に生じる波紋の影響を防ぎ安定な蒸着を行う。 - 特許庁

REDUCED PRESSURE THERMAL CVD SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

減圧熱ＣＶＤ装置および成膜方法 - 特許庁

THIN FILM COMPOSITION RATIO INSPECTION METHOD AND FILM DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

薄膜組成比検査方法及び製膜装置 - 特許庁

MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ＭｇＯ蒸着材およびその製造方法 - 特許庁

DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加

成膜装置および発光素子の製造方法 - 特許庁

In the non-vapor deposition mode, the vapor deposition rate of the vapor deposition material to be emitted from the opening part 4a not directed in the substrate direction is measured, and fed back to a heating mechanism of the container 1 to stabilize the vapor deposition rate.例文帳に追加

非蒸着時に、基板方向に向かない開口部４ａから放出される蒸着材料の蒸着レートを測定し、容器１の加熱機構にフィードバックさせ、蒸着レートを安定化する。 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING FILM AND VACUUM FILM DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

被膜の形成方法及び真空成膜装置 - 特許庁

SUBSTRATE ARRANGING METHOD IN VACUUM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

真空蒸着装置における基板配置方法 - 特許庁

ACCOMMODATION CONTAINER OF EVAPORATION MATERIAL FOR VACUUM DEPOSITION例文帳に追加

真空蒸着用蒸発材料収容容器 - 特許庁

FILM ROLL AND CLEANING METHOD FOR FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

フィルムロールおよび成膜装置のクリーニング方法 - 特許庁

SUBSTRATE HOLDING DEVICE AND DEVICE FOR MANUFACTURING DEPOSITION PLATE例文帳に追加

基板保持装置および析出板製造装置 - 特許庁

CVD DEPOSITION OF M-SiO GATE DIELECTRIC例文帳に追加

Ｍ−ＳｉＯＮゲート誘電体のＣＶＤデポジション - 特許庁

The container 17 contains a deposition material M.例文帳に追加

容器１７は、蒸着材料Ｍを収容する。 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND ITS DRIVING METHOD例文帳に追加

化学気相成長装置及びその駆動方法 - 特許庁

PECVD FILM HAVING IMPROVED DEPOSITION REPEATABILITY例文帳に追加

ＰＥＣＶＤ膜の改善された堆積反復性 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND RADIATION IMAGE TRANSFORMATION PANEL例文帳に追加

蒸着装置及び放射線画像変換パネル - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method, in which the film thickness of a vapor deposition film can be detected with high detection accuracy and a vapor deposition film having a desired film thickness can be stably formed.例文帳に追加

高い検出精度で蒸着膜の膜厚を検出することができ、所望の膜厚の蒸着膜を安定的に形成可能な蒸着装置及び蒸着方法を提供する。 - 特許庁

METAL DEPOSITION FILM AND CAPACITOR USING IT例文帳に追加

金属蒸着フィルムおよびそれを用いたコンデンサ - 特許庁

To provide a method of controlling deposition rate, a mechanism for controlling deposition rate and an electron-beam physical vapor deposition (EB-PVD) apparatus capable of depositing a film onto an object to be deposited at a low deposition rate while quantitatively-stably generating vaporized particles.例文帳に追加

蒸発粒子を量的に安定発生させつつ、被成膜対象に低成膜レートで成膜する成膜レート制御方法、成膜レート制御機構、およびＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

After the temperature of the substrate reaches the predetermined film deposition temperature, the gas for film deposition of the insulating film 22 is introduced into a film deposition chamber of a film deposition apparatus to form the insulating film 22 on the insulating film 21.例文帳に追加

半導体基板の温度が所定の成膜温度に達した後、絶縁膜２２の成膜用のガスを成膜装置の成膜室に導入して、絶縁膜２１上に絶縁膜２２を成膜する。 - 特許庁

EVAPORATION SOURCE MOVING MECHANISM OF VACUUM VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

真空蒸着装置の蒸発源移動機構 - 特許庁

ANALYTICAL TEST STRIP WITH IMPROVED REAGENT DEPOSITION例文帳に追加

試薬の被着を改善した分析用の試験片 - 特許庁

In a vacuum deposition chamber 1, an organic EL material is evaporated from a first deposition source 3 and a second deposition source 4 linearly moving with respect to a substrate 2 to form the deposition film.例文帳に追加

真空蒸着チャンバー１内において、基板２に対して直線移動する第１の蒸着源３および第２の蒸着源４より有機ＥＬ材料を蒸発させて蒸着膜を成膜する。 - 特許庁

METHOD FOR IMPROVING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESSING例文帳に追加

化学的気相堆積処理を改善する方法 - 特許庁

HEATING EQUIPMENT AND HEATING METHOD FOR FILM DEPOSITION MATERIAL例文帳に追加

成膜材料の加熱装置及び加熱方法 - 特許庁

HARD CARBON FILM COATED MEMBER AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

硬質炭素膜被覆部材及び成膜方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION MASK, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING ORGANIC EL DEVICE例文帳に追加

成膜用マスク、有機ＥＬ装置の製造装置 - 特許庁

To provide a rotary drum in a film deposition apparatus for an atomic layer chemical vapor deposition, which is capable of depositing a multi-layered film, wherein the size of the entire apparatus can be reduced, and to provide the film deposition apparatus for the atomic layer chemical vapor deposition.例文帳に追加

装置全体を小型化可能として、多層の成膜を形成できる原子層堆積法成膜装置における回転ドラムおよび原子層堆積法成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus to which a vapor deposition material is appropriately supplemented by providing a function enabling confirmation of remaining quantity of the vapor deposition material in a vapor deposition material container from the outer side of the apparatus.例文帳に追加

蒸着材容器内の蒸着材料残量を装置外部から確認する機能を備えることにより、蒸着材料を適切に補給することのできる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

VACUUM VAPOR-DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME例文帳に追加

真空蒸着装置及びその制御方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR VACUUM DEPOSITION例文帳に追加

真空蒸着方法及び真空蒸着装置 - 特許庁