「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION EQUIPMENT AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

化学気相成長装置および半導体装置 - 特許庁

VACUUM DEPOSITION METHOD AND METHOD FOR PRODUCING DISPLAY例文帳に追加

真空蒸着法およびディスプレイ製造方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, SUBSTRATE PROCESS APPARATUS, AND TURNTABLE例文帳に追加

成膜装置、基板処理装置及び回転テーブル - 特許庁

DEPOSITION METHOD AND FORMATION METHOD OF Cu WIRE例文帳に追加

成膜方法およびＣｕ配線の形成方法 - 特許庁

FLUX FILM DEPOSITION APPARATUS AND FLUX TRANSFERRING DEVICE例文帳に追加

フラックス膜形成装置及びフラックス転写装置 - 特許庁

SPUTTERING DEVICE AND FILM DEPOSITION METHOD BY SPUTTERING例文帳に追加

スパッタ装置およびスパッタリングによる成膜方法 - 特許庁

A regulating member 5 to regulate the sublimation direction of a vapor deposition source 3a is installed between the vapor deposition source 3a in the deposition means 3 and the shielding plate 4 and in the vicinity of the vapor deposition source 3a.例文帳に追加

蒸着手段３における蒸着源３ａと遮蔽板４との間で、蒸着源３ａの近傍に、蒸着源３ａの昇華方向を規制するための規制部材５を設けた。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR FILM DEPOSITION OF PIEZOELECTRIC MATERIAL例文帳に追加

圧電基板の成膜装置および成膜方法 - 特許庁

CASTING NOZZLE REFRACTORY RESTRAINING ALUMINA DEPOSITION例文帳に追加

アルミナ付着を抑制する鋳造用ノズル耐火物 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering source of high film deposition speed by solving the problem of the low film deposition speed of a known magnetron sputtering source, in particular, the low film deposition speed in film deposition of metal oxides.例文帳に追加

従来のマグネトロンスパッタ源の遅い成膜速度、特に金属の酸化物の成膜に於ける遅い成膜速度の問題を解決し、成膜速度が速いマグネトロンスパッタ源を提供することにある。 - 特許庁

RAW MATERIAL GAS SUPPLY SYSTEM AND FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

原料ガスの供給システム及び成膜装置 - 特許庁

HEAVY DUTY COATED STEEL HAVING VAPOR DEPOSITION LAYER例文帳に追加

蒸着層を有する重防食被覆鋼材 - 特許庁

METHOD FOR HIGH TEMPERATURE DEPOSITION OF AMORPHOUS CARBON LAYER例文帳に追加

アモルファスカーボン層の高温堆積のための方法 - 特許庁

A film deposition apparatus 13 for performing the film deposition on a substrate has a first film deposition mechanism 35 for depositing a first layer and a second film deposition mechanism 36 for depositing a second layer in a processing container 30.例文帳に追加

基板に成膜する成膜装置１３であって、処理容器３０の内部に、第１の層を成膜させる第１成膜機構３５と、第２の層を成膜させる第２成膜機構３６を備える。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION SOURCE, FILM FORMING DEVICE AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加

蒸着源、成膜装置、及び成膜方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

成膜装置およびそれを用いた製造方法 - 特許庁

The constitution member for the deposition chamber provided with the water collapsible Al film is used and is subjected to a deposition treatment for a long time and thereafter the deposition material is recovered from the constitution member thickly stuck with the deposition material.例文帳に追加

この水崩壊性Ａｌ膜を備えた成膜室用構成部材を用いて長時間成膜処理した後、成膜材料が厚く付着した構成部材から成膜材料を回収する。 - 特許庁

THIN FILM FORMING METHOD USING ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加

原子層蒸着を用いた薄膜形成方法 - 特許庁

CARRYING APPARATUS FOR FLEXIBLE SUBSTRATE, AND DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

可撓性基板の搬送装置及び成膜装置 - 特許庁

RAW MATERIAL GAS FEED SYSTEM, AND FILM DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

原料ガスの供給システム及び成膜装置 - 特許庁

To provide monoatomic layer deposition reaction apparatus.例文帳に追加

単原子層蒸着反応装置を提供する。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION SOURCE, FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

蒸着源、成膜装置および成膜方法 - 特許庁

Accordingly, even if the substrate is not take out of the deposition system 200, the wait time can be provided between the prescribed deposition and deposition simply by changing the operating conditions of the conventional deposition system.例文帳に追加

従って、成膜装置２００から基板を取り出さなくても、従来の成膜装置の運転条件を変更するだけで、所定の成膜と成膜との間にウエイトタイムを設けることができる。 - 特許庁

WINDING TYPE VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND CVD SYSTEM例文帳に追加

巻き取り式蒸着装置及びＣＶＤ装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF MANUFACTURING VAPOR DEPOSITION COMPONENT例文帳に追加

蒸着部品の製造方法及び製造装置 - 特許庁

PLASMA TREATING SYSTEM FOR APPLICATION TO SPUTTER FILM DEPOSITION例文帳に追加

スパッタ成膜応用のためのプラズマ処理装置 - 特許庁

DEPOSITION APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加

成膜装置および発光素子の製造方法 - 特許庁

SHEET-LIKE PLASMA GENERATOR, AND FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

シート状プラズマ発生装置および成膜装置 - 特許庁

TRANSPARENT VAPOR DEPOSITION FILM IMPROVED IN HUE例文帳に追加

色調が改善された透明蒸着系フィルム - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT-EMITTING APPARATUS例文帳に追加

成膜装置及び発光装置の作製方法 - 特許庁

VAPOR-DEPOSITION MASK, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 - 特許庁

HAIRLINE-PROCESSED FILM FITTED WITH METAL VAPOR DEPOSITION LAYER例文帳に追加

金属蒸着層を設けたヘアライン加工フィルム - 特許庁

EVAPORATION SOURCE AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS PROVIDED WITH THE SAME例文帳に追加

蒸発源及びこれを備えた蒸着装置 - 特許庁

VACUUM VAPOR-DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE例文帳に追加

真空蒸着装置及び温度調整方法 - 特許庁

AUTOMATIC COATER HAVING COATING DEPOSITION EFFICIENCY MEASURING UNIT例文帳に追加

塗着効率計測装置を有する自動塗装機 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION OF IRON OXIDE COATING ONTO GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

ガラス基材上への酸化鉄コーティングの蒸着 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method, in which the film thickness of a vapor deposition film can be detected with high detection accuracy and a vapor deposition film having a desired film thickness can be stably formed.例文帳に追加

高い検出精度で蒸着膜の膜厚を検出することができ、所望の膜厚の蒸着膜を安定的に形成可能な蒸着装置及び蒸着方法を提供すること。 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置および薄膜形成方法 - 特許庁

METHOD FOR SUPPRESSING CARBON DEPOSITION IN CARBONIZATION CHAMBER OF COKE OVEN例文帳に追加

コークス炉炭化室のカーボン付着抑制方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND TREATING METHOD OF WAFER例文帳に追加

電子ビーム蒸着装置とウェハの処理方法 - 特許庁

The silicon nitride film is deposited at a deposition temperature of 400°C or lower by atomic layer deposition, and the plasma nitriding is performed at a temperature equal to or lower than the deposition temperature in the atomic layer deposition.例文帳に追加

窒化珪素膜は、ＡＬＤ法により４００℃以下の成膜温度で成膜された窒化珪素膜であり、プラズマ窒化処理は、ＡＬＤ法における成膜温度を上限とする処理温度で行う。 - 特許庁

DEPOSITION SUBSTRATE AND APPARATUS FOR MANUFACTURING DEPOSITED PLATE例文帳に追加

析出用基板および析出板製造装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR OBLIQUE VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

斜め蒸着装置および斜め蒸着方法 - 特許庁

DEPOSITION-PREVENTIVE COVER, SUBSTANCE GENERATION APPARATUS, AND TREATED OBJECT例文帳に追加

防着カバー、物質生成装置、及び被処理物 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD AND SYSTEM BY PULSE LASER例文帳に追加

パルスレーザーによる被膜形成方法および装置 - 特許庁