Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
In the position adjusting method of a burner for glass particle synthesis which is oppositely arranged to a starting rod and reciprocates relatively to the starting rod to deposit glass particles on an outer circumference of the starting rod, a line-shaped body 19 is stretched in a tense state on a chuck for holding an end part of the starting rod so as to correspond to a center axis of the starting rod before deposition of the glass particles.例文帳に追加
出発ロッドに対向配置され、出発ロッドと相対的に往復移動して出発ロッドの外周にガラス微粒子を堆積させるガラス微粒子合成用バーナの位置調整方法であって、ガラス微粒子の堆積に先立ち、出発ロッドの端部を把持するチャックに線条体19を出発ロッドの中心軸と一致するように張設する。 - 特許庁
To provide a substrate holder for plating, the power feed surface of which is formed to have a plane contact system for feeding power through a plate-like planar part so that even a thin substrate can be nipped firmly, and in which mask rubber is arranged around the power feed surface so that deposition is decreased sharply on the power feed surface and the service life of the substrate holder can be prolonged drastically.例文帳に追加
本発明は、給電面を、板状の平面部を使って給電を行う面接点方式とすることにより、薄い基板でもしっかりと挟めるものとすると共に、給電面の廻りにマスクゴムを配置することにより、給電面での析出を激減させ、治具自体の寿命を飛躍的に延ばすことのできるメッキ用基板保持具を提供するものである。 - 特許庁
To provide: a carrier which has a small volume resistivity, avoids a charge amount reduction even in output with a large image area, avoids carrier deposition on an image even in long-term output with a small image area, and can suppress the occurrence of a color stain; a two-component developer; a developing device; an image forming apparatus; an image forming method; and a process cartridge using the same.例文帳に追加
体積固有抵抗が小さく、高画像面積での出力を実施しても帯電量が低下せず、低画像面積での出力を長期間実施しても画像上へのキャリア付着が発生せず、色汚れの発生を抑制することが可能なキャリア、2成分現像剤、現像装置、画像形成装置、画像形成方法及びこれを用いたプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁
Even if mask deposition and formation of cathode separator or the like are not carried out, the individual electrode 6 can be formed precisely.例文帳に追加
表示体を構成するドット間を区切るための空間を、例えばバンク3に形成する工程と、ドットの配列方向と異なる方向から各ドットが形成されるガラス基板1に対して、例えばアルミニウム等の導電性材料を蒸着又はスパッタして個別電極6を形成する工程とを有し、マスク蒸着、カソードセパレータの形成等を行わなくても、正確に個別電極を6を形成できる。 - 特許庁
Wiring patterns 3-5 are integrally molded by dual component molding inside an insulating body 2 using a synthetic resin in which nickel is blended in dispersion as a conductive filler, nickel thin coats are formed by direct vapor deposition on end faces of wiring exposed from an end surface 2a of the body 2, and the obtained products are used as conductive terminals 6-8.例文帳に追加
二色成形により、絶縁性の本体部分2の内部に導電性フィラーであるニッケルが分散混合された合成樹脂を用いて各配線パターン部3〜5を一体形成し、本体部分2の端面2aから露出している各配線パターン部3〜5の端面に、ダイレクト蒸着法によりニッケル薄膜を形成し、これらを導通端子6〜8として用いる。 - 特許庁
A purge solution which circulates within purge solution circulating passages 90, 91, 93, 94 is filtered by a protein removal filter 71 such as an ultrafiltration filter, to remove proteins that enter the purge solution, and the purge solution free from the proteins is supplied to an artificial heart 1 to prevent protein coagulation and deposition on a sealing mechanism or the like inside it, thereby preventing its functional degradation.例文帳に追加
パージ液の循環経路90,91,93,94内を循環するパージ液を限外濾過フイルタ等のタンパク質除去フイルタ71によって濾過し、このパージ液中に侵入するタンパク質を除去し、このタンパク質を除去したパージ液を人工心臓1に送り、その内部のシール機構等にタンパク質が凝固堆積するのを防止してその機能低下を防止する。 - 特許庁
In the laser beam machining method for removing a machined material layer by irradiating laser beams from a first material layer side on a laminate consisting of a first material layer and a second machined material layer of a predetermined thickness in this order from the face side of the laminate, a material forming the first material layer is lower in deposition property than the second machined material.例文帳に追加
積層体の表面から順に第一の材料層と、所定の厚さの第二の加工材料層とから構成される積層に対して、第一材料層側からレーザ光を照射して加工材料層を除去するレーザ加工法において、前記第一の材料層を形成する材料を、前記第二の加工材料に対して付着性の低い材料とする。 - 特許庁
Further, the organic glass is manufactured by a primer layer forming process for forming the primer layer 2 comprising the resin primer on the surface of the transparent resin substrate 1 and a hard coat layer forming process for forming the hard coat layer 3 comprising silicon oxide on the primer layer 2 by a physical vapor deposition method while holding the temperature of the substrate 1 to 100°C or below.例文帳に追加
また、本発明の有機ガラスの製造方法は、透明性樹脂基板1の表面に樹脂プライマーからなるプライマー層2を形成するプライマー層形成工程と、物理的蒸着法によりプライマー層2の上に基板1の温度を100℃以下に保って酸化ケイ素からなるハードコート層3を形成するハードコート層形成工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
A compound, forming a complex with cobalt, is added to electrolyte to stabilize cobalt ions eluted in the electrolyte and to suppress deposition thereof on a negative electrode, so that reduction of the reaction area of the negative electrode and gas generation by catalytic reaction of the cobalt are suppressed, thereby allowing to provide the nonaqueous electrolyte secondary battery having superior high temperature storage characteristics and high- temperature charging/discharging cycle characteristics.例文帳に追加
電解液にコバルトと錯体を形成する化合物を添加することにより、電解液中に溶出したコバルトイオンを安定化し、負極への析出を抑制することにより負極の反応面積低減やコバルトの触媒反応によるガス発生を抑制し、高温保存特性、高温充放電サイクル特性に優れた非水電解液二次電池を提供できる。 - 特許庁
A method for manufacturing a wiring board 100 includes (a) a process of forming trenches 11 on a board 10, (b) a process of forming a surfactant layer 17 inside the trenches 11, (c) a process of forming a catalyst layer 32 containing a catalyst on the surfactant layer 17, and (d) a process of forming a metal layer 36 on the catalyst layer 32 by metal deposition.例文帳に追加
本発明にかかる配線基板100の製造方法は、(a)基板10に溝11を形成する工程と、(b)前記溝の内部に界面活性剤層17を形成する工程と、(c)前記界面活性剤層上に触媒を含む触媒層32を設ける工程と、(d)前記触媒層上に金属を析出させることによって金属層36を設ける工程と、を含む。 - 特許庁
The vacuum deposition system is provided with: an evaporation source; a substrate holder oppositely arranged in the upper part of the evaporation source, and provided so as to support a semiconductor substrate and be step-movable in a plane; and a sticking prevention mask fixedly arranged between the substrate holder and the evaporation source and exposing a part of the semiconductor supported by the substrate to the evaporation source.例文帳に追加
蒸発源と、この蒸発源の上方に対向配置され、半導体基板を支持して、平面内でステップ移動可能に設けられた基板ホルダと、この基板ホルダおよび前記蒸発源間に固定配置され、前記基板ホルダに支持される半導体基板の一部を前記蒸発源に露出する開口部を有する防着マスクとを備えた真空蒸着装置。 - 特許庁
To provide a cost effective dip flushing tank for flushing and cleaning electrodeposition coating materials which makes it possible to obtains coating film surfaces of high quality by substantially preventing deposition of foreign matter in a flushing tank on the electrodeposition coating materials and does not require labor by merely necessitating rapid exchange of a portion of flushing water even when the foreign matter in the flushing tank increases, and a flushing method for the electrodeposition coating materials.例文帳に追加
水洗槽内の異物が電着塗装物に付着しにくくすることにより高品質の塗膜面を得ることができ、また、水洗槽内の異物が増加した場合でも水洗水の一部を手早く交換するだけで済むようにすることにより手間が掛らず経済的な電着塗装物の水洗浄用ディップ水洗槽および電着塗装物の水洗方法を提供する。 - 特許庁
A space between two electrode layers composed of materials selected from the groups consisting of tin, indium, aluminum, copper, chromium, titanium, iron, nickel and platinum or thin oxide or indium tin oxide whose surfaces may have oxide layers is provided with a sensitive layer composed of an organic vapor deposition film obtd. by vapor-depositing a molecular photoconducting material at a vapor depositing rate of ≤0.07 nm/sec.例文帳に追加
表面に酸化物層を有していても良いスズ、インジウム、アルミニウム、銅、クロム、チタニウム、鉄、ニッケル及び白金からなる群から選ばれる材料、あるいは酸化スズ又はインジウムチンオキシドからなる2つの電極層間に、分子性光導電材料を蒸着速度0.07nm/秒以下で蒸着して得られる有機蒸着膜からなる感光層を有する光半導体素子。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing regenerated water by the combination of a membrane separation activated sludge method and a membrane separation treatment method using reverse osmosis membrane by which the deterioration of the permeation performace or the separation performance of the reverse osmosis membrane cuased by the propagation of microorganisms or the deposition of the microorganisms or the metabolite is prevented and an apparatus for the same.例文帳に追加
膜分離活性汚泥法と逆浸透膜を用いた膜分離処理法とを組み合わせた再生水の製造方法において、微生物増殖あるいは微生物およびその代謝物が、当該逆浸透膜表面に付着することなどによる、逆浸透膜の透過性能や分離性能の低下を有効に防止する方法および装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma source device as a novel composite vapor deposition device usable for an ion source and a radical source, capable of forming a good quality thin film on a base board by selectively emitting only a radical of film forming species particularly at operation time as the radical source, usable in common to the ion source and the radical source, and capable of forming respective superior thin films.例文帳に追加
イオン源及びラジカル源に用いることができ、とくにラジカル源としての運用時には、成膜種のラジカルのみを選択的に放出して基板に良質の薄膜を形成し得るようにし、イオン源とラジカル源とに共用してそれぞれの良好な薄膜を形成することができる新規な複合型蒸着装置としてのプラズマ源装置を提供する。 - 特許庁
The production method of single-walled carbon nanotubes in which chirality is controlled is characterized by forming and growing single-walled carbon nanotubes by an alcohol chemical vapor deposition method while irradiating the carbon nanotubes with a free electron laser beam having a light absorption wavelength or a wavelength approximate to the light absorption wavelength which corresponds to the transition energy of the single walled carbon nanotubes having predetermined diameters, that is searched from Kataura plot.例文帳に追加
片浦プロットから求められた所定の直径の単層カーボンナノチューブの遷移エネルギーに対応する光吸収波長又はその近似の波長の自由電子レーザーを照射しながら、アルコール化学気相成長法によって単層カーボンナノチューブを生成、成長させることを特徴とするカイラリティの制御された単層カーボンナノチューブの製造法。 - 特許庁
The method of producing the metal powder to be used for producing the ultraviolet-curing inkjet composition to be jetted through an inkjet method includes: a film-forming step of forming a film made of a metal material on a base material through a vapor-phase deposition method; and a pulverizing step of pulverizing the film in a liquid containing a surface treating agent.例文帳に追加
本発明の製造方法は、インクジェット方式により吐出される紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる金属粉末を製造する方法であって、基材上に気相成膜法により金属材料で構成された膜を形成する成膜工程と、表面処理剤を含む液体中で前記膜を粉砕する粉砕工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁
This undercoat photocurable resin composition for a metal deposition contains (A) an oligomer obtained by performing the reaction of (a) an epoxy resin having at least ≥2 epoxy groups and ≥500 eq/g epoxy equivalent with (b) a monocarboxylic acid having an ethylenically unsaturated bond, (B) a (meth)acrylate except for the (A) component and (C) a photopolymerization initiator.例文帳に追加
分子中に少なくとも2つ以上のエポキシ基を有し、そのエポキシ当量が500eq/g以上のエポキシ樹脂(a)とエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸(b)とを反応させて得られるオリゴマー(A)と(A)成分以外の(メタ)アクリレート(B)及び光重合開始剤(C)を含有することを特徴とする金属蒸着用アンダーコート光硬化性樹脂組成物。 - 特許庁
In order to solve the above-described problem, the invention according to Claim 1 of the present invention relates to a roll-to-roll type plasma CVD system capable of depositing ineffective deposits on a conductive sheet by forming the conductive sheet on an exposed part of a drum electrode except a part at which the drum electrode is abutted on a base material for vapor deposition.例文帳に追加
上記課題を解決するため、本発明の請求項1記載の発明は、ロールツーロール方式のプラズマCVD装置において、前記ドラム電極と前記被蒸着基材とが当接する箇所を除く前記ドラム電極の露出箇所に、導電性のシートを形成することにより、該導電性のシートへと無効蒸着物を堆積させることを特徴とする、プラズマCVD装置である。 - 特許庁
In order to solve the above-described problem, the invention according to Claim 1 of the present invention relates to a roll-to-roll type plasma CVD system capable of depositing ineffective deposits on a conductive sheet by forming the shielding base material on an exposed part of a drum electrode except a part at which the drum electrode is abutted on a base material for vapor deposition.例文帳に追加
上記課題を解決するため、本発明の請求項1記載の発明は、ロールツーロール方式のプラズマCVD装置において、前記ドラム電極と前記被蒸着基材とが当接する箇所を除く、前記ドラム電極の露出箇所に、該露出箇所への成膜を防止するための遮蔽基材を形成したことを特徴とする、プラズマCVD装置である。 - 特許庁
This is the method of manufacturing the electrode for lithium secondary battery in which a thin film containing an active material is formed on a current collector, and is provided with an interfacial layer forming process of forming an interfacial layer on the current collector by an ion plating method and an active material layer forming process of forming an active material layer on the interfacial layer by a vapor deposition method.例文帳に追加
本発明方法は、活物質を含む薄膜を集電体上に形成するリチウム二次電池用電極の製造方法であって、集電体上にイオンプレーティング法により界面層を形成する界面層形成工程と、界面層上に蒸着法により活物質層を形成する活物質層形成工程とを具えることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a device capable of attaining uniform evaporation property and uniform reaction property, free from the generation of deposition of solid particles even when a liquid to be treated is slurry and suitable for continuously evaporating a low boiling component by improving the uniformity of the flow rate distribution of the liquid to be treated in a heat exchanger part in a natural circulation type evaporator.例文帳に追加
本発明の目的は自然循環式蒸発缶において、熱交換器部分での被処理液の流速分布の均一性を向上させることにより、均一な蒸発特性、均一な反応特性を得、さらには被処理液がスラリーの場合でも固体粒子の沈殿がない低沸点成分を連続的に蒸発させるに好適な装置を提供することにある。 - 特許庁
The inkjet recording ink comprises a dispersion containing a pigment included in a resin by the acid deposition method and having an average particle diameter of 20-300 nm and polymeric fine particles obtained by polymerizing at least ethyl acrylate and (meth)acrylic acid as constituting components and having a glass transition temperature of 0°C or lower and an acid value of 50 mgKOH/g or lower.例文帳に追加
酸析法によって樹脂に包含された顔料を含み、平均粒径が20nm以上300nm以下の分散体と、構成成分として少なくともエチルアクリレートと(メタ)アクリル酸とが重合されてなり、ガラス転位温度が0℃以下で、かつ酸価が50mgKOH/g以下である高分子微粒子とを含んでなることを特徴とするインクジェット記録用インク。 - 特許庁
Further, the method of manufacturing the dielectric multilayer film mirror is characterized in that the dielectric multilayer film structures 10 are manufactured by film-depositing the pair of dielectric multilayer films 2 having both the surfaces-symmetric structure on both surfaces of the substrate 1 according to the atomic layer deposition (ALD) method and the dielectric multilayer film mirror is made by joining at least two obtained sheets of dielectric multilayer film structures.例文帳に追加
また、このミラーの製造方法は、原子層堆積(ALD)法により基板1の両面に両面対称構造を有する一対の誘電体多層膜2を同時に成膜して誘電体多層膜構造体10を製造し、得られた2枚以上の誘電体多層膜構造体を接合して誘電体多層膜ミラーを製造することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing fine powder of hexagonal indium oxide or fine powder of hexagonal indium oxide containing tin, which are suitable for forming a sintered body for vacuum film deposition, by which an ITO film having a stable transparency and an excellent conductivity or a heat-shielding performance is obtainable, and suitable for a coating method or a method for dispersing in a resin as well.例文帳に追加
安定した透明性及び優れた導電性あるいは熱線遮蔽性を有するITO膜を得ることのできる真空成膜用焼結体の形成に適し、かつ、塗布法あるいは樹脂中分散法にも好適な六方晶系酸化インジウム微粉末あるいは六方晶系スズ含有酸化インジウム微粉末の安定的な製造方法を提供する。 - 特許庁
In one executing form, by introducing a silicon series volatile material, a conductivity increasing volatile material contg. one or more components for increasing the electrical conductivity of the amorphous silicon series film and a conductivity reducing volatile material contg. one or more components for reducing the electrical conductivity of the amorphous silicon series film into a deposition chamber, the amorphous silicon series film is formed.例文帳に追加
一実施形態においては、堆積チャンバ内に、シリコン系揮発性物質と、アモルファスシリコン系膜の導電率を増加させるための成分を一以上含む導電率増加揮発性物質と、アモルファスシリコン系膜の導電率を減少させるための成分を一以上含む導電率減少揮発性物質とを導入することにより、アモルファスシリコン系膜を形成する。 - 特許庁
The method for manufacturing the radiation image conversion panel 1 comprises a process for dipping a phosphor panel 4 in which a stimulable phosphor layer 3 is formed on a prescribed substrate 2 by a vapor deposition method into a halogenation agent; and a process for heating the phosphor panel 4 at 60-200°C under an atmosphere of vacuum, air, or inert gas after the dipping process.例文帳に追加
本発明に係る放射線画像変換パネル1の製造方法は、所定の基板2上に気相堆積法で輝尽性蛍光体層3が形成された蛍光体パネル4をハロゲン化溶剤に浸漬する浸漬工程と、前記浸漬工程の後に蛍光体パネル4を真空、空気又は不活性ガスの雰囲気下で60〜200℃に加熱する加熱工程とを、有する。 - 特許庁
The hard film 1 having composition of, by atom, 60-95% carbon and 5-40% silicon is manufactured by using an apparatus by a physical vapor deposition method such as a sputtering apparatus with a carbon target and a silicon target, or a sputtering apparatus with a target having composition consisting of, by atom, 60-95% carbon and 5-40% silicon.例文帳に追加
組成割合60〜95原子%の炭素と組成割合5〜40原子%の珪素を含む硬質皮膜1を、炭素ターゲットと珪素ターゲットを備えたスパッタリング装置、或いは、組成割合60〜95原子%の炭素と組成割合5〜40原子%の珪素から構成されるターゲットを備えたスパッタリング装置等の物理蒸着法による装置を用いて製造する。 - 特許庁
The process for producing a cavity substrate comprises a step for cleaning a substrate 33 with functional water, a step for performing heat treatment and/or film deposition of the substrate 33, and a step for forming a liquid containing recess 342 from one side of the substrate 33 and providing the part thinned through formation of the recess 342 as a vibrating plate 31.例文帳に追加
本発明のキャビティ基板の製造方法は、基板33を機能水により洗浄する洗浄工程と、基板33に対して熱処理および/または成膜処理を施す処理工程と、基板33の一方の面側から、液体を収容するための凹部342を形成して、凹部342の形成により肉薄化された部分を振動板31とする工程とを有する。 - 特許庁
To provide a technique efficiently producing micro-character-containing thread excellent in metal gloss without requiring complicate steps such as metal deposition and etching (paster processing), a technique enabling efficient production even in small lot, an anti-falsification paper in which the thread is inserted into paper and an anti-falsification printed matter in which prescribed printing is applied to the anti-falsification paper.例文帳に追加
金属蒸着とエッチング(パスター加工)のような複雑な工程を必要とせず、金属光沢に優れたマイクロ文字入りのスレッドを効率的に製造する技術、小ロットでも効率的な生産が可能となる技術、そのスレッドを紙に抄き込んだ偽造防止用紙、及びこの偽造防止用紙に所定の印刷を施した偽造防止印刷物を得ることを課題とする。 - 特許庁
An ion source 11 injecting ions into a vacuum chamber 2 and a detector 12 detecting recoil atoms made to recoil by injection ions are communicated and mounted in the vacuum chamber 2 installed to the surface treatment apparatus for measuring the hydrogen concentration of a thin-film surface in the surface treatment apparatus (a film deposition device) by an elastic recoil- particle detecting method by a low-energy ion scattering spectral method.例文帳に追加
低エネルギーイオン散乱分光法による弾性反跳粒子検出法によって表面処理装置(成膜装置1)内の薄膜表面の水素濃度を測定するために、真空室2内にイオンを入射するイオン源11と該入射イオンによって反跳される反跳原子を検出する検出器12とを、表面処理装置が備える真空室2内に連通させて設ける。 - 特許庁
In this vacuum thermal insulation panel 1 storing a core material 2 in the gas barrier vessel 3 and evacuating the inside to form a panel body, the gas barrier vessel 3 is formed by the aluminum deposition film or a multi-ply resin film formed by laminating aluminum foil, and a reinforcing layer formed by mixing ethylene vinyl alcohol copolymer and an inorganic material in a hybrid manner is provided in the resin film.例文帳に追加
コア材2をガスバリア容器3内に収納し、内部を真空排気してパネル体とした真空断熱パネル1において、ガスバリア容器3をアルミ蒸着フィルム、あるいはアルミ箔などをラミネートした多層の樹脂フィルムで形成するとともに、この樹脂フィルム中に、エチレンビニルアルコール共重合体と無機系材料をハイブリッド混合した補強層を介在させた。 - 特許庁
To provide a washing solution/storage solution for oxygen permeable hard contact lenses that contributes an effect for cleaning lipid soil and an excellent preventive effect for protein deposition, and can advantageously solve problems, such as reduction of removing effect of protein over time due to deactivation of an enzyme, risk to microorganism contamination due to enzyme being eaten by microorganisms, or any complications in use, without impairing compatibility with lens.例文帳に追加
レンズ適合性を損なうことなく、脂質汚れに対する洗浄効果と優れたタンパク付着防止効果を発揮し、且つ酵素失活による経時的なタンパク除去効果の低下、酵素がエサとなることによる微生物汚染に対するリスクや、使用における煩雑等の問題を有利に解消し得る、酸素透過性ハードコンタクトレンズ用洗浄/保存液を提供すること。 - 特許庁
To provide a conveyor device having a mixture sealing and deposition preventing structure, for preventing adverse influence on execution of works and making higher quality paving execution possible, stopping the adhesion/growth of an asphalt mixture onto a lower cover, and preventing a failure that a flight bar interferes with a feeder frame, by preventing the asphalt mixture from spilling out from the feeder frame.例文帳に追加
フィーダフレームからのアスファルト合材のこぼれ落ちを防ぐことにより、施工への悪影響を防止して、より質の高い舗装の施工を可能とし、また下部カバーへのアスファルト合材の付着・成長を食い止めてフライトバーがフィーダフレームに干渉する不具合を防止する合材の漏れ止め及び堆積防止構造を持つコンベヤ装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
An organic film is formed on a substrate by a deposition method; the organic film is altered so as not to dissolve in an organic solvent to form a hole injection layer, and a luminescent layer is formed on the hole injection layer by an ink jet method using the organic solvent, whereby a hole transport layer is prevented from dissolving in the organic solvent in forming the luminescent layer.例文帳に追加
基板上に蒸着法によって有機膜を形成し当該有機膜を有機溶媒に溶解しないように変質させて正孔注入層を形成し、この正孔注入層上に当該有機溶媒を用いたインクジェット法によって発光層を形成するので、発光層の形成時に正孔輸送層が有機溶媒に溶解するのを回避することができる。 - 特許庁
The gas barrier film is constituted by successively laminating an anchor coating layer containing a urethane bond, a vapor deposition layer comprising an inorganic compound, a composite coating layer containing at least one or more kinds of a hydroxy group-containing polymeric compound, metal alkoxide, a silane coupling agent and hydrolysates of them and a moisture-resistant layer comprising water-resistant resin, on at least one surface of a film base material.例文帳に追加
フィルム基材の少なくとも片面に、ウレタン結合を含むアンカーコート層と、無機化合物からなる蒸着層と、水酸基含有高分子化合物と金属アルコキシドとシランカップリング剤及び/またはそれらの加水分解物の少なくとも1種類以上を含む複合被膜層と、耐水性樹脂からなる耐湿層とを、順次積層してなることを特徴とするガスバリアフィルムである。 - 特許庁
The monitor 1 is provided with a disposition charge specification notifying part 105 which receives electronic mails replied from a plurality of reporting destinations to distributed report information, specifies a transmission origin of a first received reply as a reporting destination which must execute disposition, and reports the reporting destination which must execute the deposition to the specified reporting destination by using electronic mail.例文帳に追加
本発明の監視装置1は、配信された通報情報に対して複数の通報先から返信される電子メールを受信し、最初に受信した返信の送信元を処置を実施すべき通報先と特定するとともに、特定した通報先に処置を実施すべき通報先であることを電子メールで通知する処置担当特定・通知部105を有する。 - 特許庁
To provide a power saving thermal head of low thermal capacity exhibiting high thermal response and ensuring high speed printing and high print quality, and its fabricating method, by forming a heat insulation layer having a thermal conductivity lower than that of a conventional glaze heat insulation layer and exhibiting excellent adhesion properties by vapor deposition and forming a thin protective layer using the same material as that of the heat insulation layer.例文帳に追加
本発明は、従来のグレーズ保温層よりも、更に熱伝導率が小さく、密着性に優れた保温層を蒸着法で形成し、この保温層と同じ材料で保護層を薄く形成して、熱容量が小さくて熱応答性の良い、印字の高速化や印字品質の良好な省電力サーマルヘッド、およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
The degradation in oxygen permeability after retort processing and the occurrence of delamination etc. are controlled by forming an inorganic oxide deposition layer 2 at least in one surface of a substrate film 1 and adding a water soluble or water dispersant curing agent having a reactive functional group to an existing gas barrier composition so that heat resistance and adhesion of a barrier coat layer 3 in a gas barrier laminated film A are enhanced.例文帳に追加
基材フィルム1の少なくとも一方の面に無機酸化物蒸着層2を設け、既存のガスバリア性組成物に反応性官能基を有する水溶性または水分散性硬化剤を添加することによって、ガスバリア性積層フィルムA中のバリアコート層3の耐熱性、密着性を向上させ、レトルト処理後の酸素透過度の劣化を抑え、デラミ等の発生を抑える。 - 特許庁
In a gas deposition method, in which a thin film is formed by spraying aerosol of ultrafine particles together with a carrying gas, a part of the aerosol is lead into a measuring device to measure both of a distribution of diameters and the density of the particles or one of them and control both of flow of the carrying gas and a heating energy or one of them.例文帳に追加
超微粒子をエアロゾル化し搬送気体と共に基材に吹き付けることにより、薄膜を形成するガスデポジション法において、エアロゾル化した超微粒子の一部を粒子計測装置へ導入し、粒子計測装置で超微粒子の粒径分布、粒子濃度のいずれか又は両方を計測し、搬送気体の流量、加熱エネルギーのいずれか又は両方を制御する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a grain encapsulation honeycomb structure in which the grain encapsulation honeycomb structure in which the deposition of the deposit to the end surface is reduced when used for a filter or the like can be easily manufactured at a low cost in a manner that the homogenization of the encapsulation depth especially, the grain encapsulation depth by the slurry grain encapsulation member in the honeycomb structure periphery is easily uniformized.例文帳に追加
フィルタ等に用いた場合に、その端面への堆積物の堆積が低減された目封止ハニカム構造体を、目封止深さの均一化、特に、ハニカム構造体外周部でのスラリー状目封止部材による目封止深さを簡便に均一化する簡便かつ低コストで製造することが可能な目封止ハニカム構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a contact structure by which impact energy at the time of contact closing is reduced and a contact surface shape is hardly denatured by solving the problem that the contact surfaces are fastened each other to reduce opening and closing responsiveness of the contact because the contact surface becomes a mirror state when a contact is formed by means such as vapor deposition, and provide a micro relay using the contact structure.例文帳に追加
蒸着等の手段によって接点を形成すると、接点表面は鏡面状態となり、接点表面同士が固着しやすく、接点の開閉応答性が低下するという問題点を鑑みて発明されたもので、接点閉成時における衝撃エネルギーを緩和し、接点表面形状を変性させにくくする接点構造及びそれを用いたマイクロリレーを提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an optical device in which reinforcement in members is unnecessary and the number of vapor deposition steps is not increased in the manufacturing process of an optical device including steps of stepwisely layering and adhering planar glass members subjected to film forming treatment and cutting and dividing the layered body into a plurality of pieces at a predetermined inclination angle, and to provide an optical device.例文帳に追加
成膜を施した平板状ガラス部材を階段状に積層、接着し、この積層体を所定の傾斜角度で複数個に切断分割するという工程を経る光学デバイスの製造工程において、部材間を補強する必要がなく、蒸着処理の工数増大を招くことがない光学デバイスの製造方法、及び光学デバイスを提供する。 - 特許庁
A method and system for vapor deposition on a substrate that disposes a substrate in a process space of a processing system that is isolated from a transfer space of the processing system, processes the substrate at either of a first position or a second position in the process space while maintaining isolation from the transfer space, and deposits a material on the substrate at either the first position or the second position.例文帳に追加
基板上の蒸着のための方法およびシステムであって、処理システムの移送空間から分離(アイソレーション)された処理システムの処理空間に基板を配置し、移送空間から分離が維持されている間、処理空間の第1の位置または第2の位置のいずれかで基板を処理し、前記第1の位置または第2の位置のいずれかで前記基板に材料を堆積させる。 - 特許庁
The method of manufacturing the oxide superconducting film with a laser deposition method includes a process of forming an oxide superconducting film containing 0.3 to 6 mass% of ratios of impurities being a normal conduction part on a base material 12 by simultaneously irradiating an excimer laser beam 18a and a YAG laser beam 18b onto a target 15.例文帳に追加
レーザー蒸着法で酸化物超電導膜を製造する方法であって、エキシマレーザー光18a及びYAGレーザー光18bを同時にターゲット15に照射することで、基材12上に常電導部分となる不純物の比率を0.3〜6質量%含む酸化物超電導膜を形成する工程を有することを特徴とする酸化物超電導膜の製造方法。 - 特許庁
To provide a new pretreatment agent useful for forming a palladium or palladium alloy plating film having satisfactory deposition properties and excellent covering properties when electroless palladium plating or electroless palladium alloy plating is performed on an electroless nickel coating film and various metal materials such as a copper stock; and to provide an electroless palladium plating or electroless palladium alloy plating method using the pretreatment agent.例文帳に追加
無電解ニッケル皮膜や銅素材などの各種の金属材料上に無電解パラジウムめっき又は無電解パラジウム合金めっきを行う際に、良好な析出性でカバーリング性に優れたパラジウム又はパラジウム合金めっき皮膜を形成するために有用な新規な前処理剤、及び該前処理剤を用いる無電解パラジウム又はパラジウム合金めっき法を提供する。 - 特許庁
In a catalyst assisted chemical vapor deposition method, a porous composite metal oxide containing, in a specific ratio, oxides of one or more metals selected from the first metal group consisting of magnesium, calcium and aluminum, and oxides of one or more metals selected from the second metal group consisting of nickel, iron and cobalt is used as the catalyst.例文帳に追加
触媒支援化学的気相成長法において、マグネシウム、カルシウム及びアルミニウムからなる第1の金属群から選ばれる少なくとも1種以上の金属の酸化物と、ニッケル、鉄及びコバルトからなる第2の金属群から選ばれる少なくとも1種以上の金属の酸化物とを、特定の割合で含有する多孔質複合金属酸化物を触媒として用いる。 - 特許庁
In the display element which contains silver or electrolyte containing compound containing silver in chemical structure between opposite electrodes and performs drive operations of the opposite electrode so as to generate dissolution deposition of silver, at least one of the opposite electrodes and compound containing a carboxyl group are bonded via the carboxyl group of the compound.例文帳に追加
対向電極間に、銀、または銀を化学構造中に含む化合物を含有する電解質を含有し、銀の溶解析出を生じさせるように該対向電極の駆動操作を行う表示素子であって、該対向電極の少なくとも一方の電極と、カルボキシル基を含む化合物とが、該化合物のカルボキシル基を介して結合していることを特徴とする表示素子。 - 特許庁
The method for producing the thin film formed of oriented crystals of tungsten oxide on the surface of the substrate having low crystallinity includes sputtering a target containing tungsten while controlling a substrate temperature and a deposition rate to form tungsten oxide film with strongly oriented crystals on the (001) surface of monoclinic crystals.例文帳に追加
結晶性の低い基板の表面に結晶配向した酸化タングステン薄膜を作製する方法であって、タングステンを含むスパッタリングターゲットを結晶性の低い基板の表面にスパッタリングすることを含み、スパッタリングを行う際の基板温度及び堆積速度を制御することにより、単斜晶(001)面に強く結晶配向した酸化タングステン薄膜を作製することを特徴とする前記方法。 - 特許庁
This manufacturing method of this conical structure by plasma-enhanced chemical vapor deposition includes processes of: arranging a silicon substrate in a plasma generation region; introducing a mixture gas of methane gas and hydrogen gas in the plasma generation region; generating plasma by microwave power lower than 400 W; and applying a bias voltage of -120 to -50 V to the silicon substrate.例文帳に追加
プラズマ発生領域内にシリコン基板を配置する工程と、プラズマ発生領域内にメタンガス及び水素ガスの混合ガスを導入する工程と、400W未満のマイクロ波電力によりプラズマを発生させる工程と、シリコン基板に—120Vを超え—50V未満のバイアス電圧を印加する工程と、を含むプラズマ化学気相成長法による円錐状構造物の製造方法。 - 特許庁
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