Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
To provide a film deposition apparatus having good maintainability when thin films are formed by arranging and mounting substrates in a rotating direction on a turntable in a vacuum container, forming a plurality of processing areas of reaction gas in the rotating direction of the substrates, and rotating the turntable to pass the substrates through the plurality of processing areas in order.例文帳に追加
真空容器内の回転テーブルに基板を回転方向に並べて載置し、複数の反応ガスの処理領域をこの基板の回転方向に沿って形成し、回転テーブルを回転させてこれらの複数の処理領域に基板を順番に通過させて薄膜を形成するにあたり、メンテナンス性に優れた成膜装置を提供すること。 - 特許庁
To deposit a hard carbon film at a high film deposition rate and also at a low temperature in a method in which Ar plasma by electron cyclotron resonance is generated in a plasma generating chamber 4, the Ar plasma is applied on a substrate 9 arranged in a vacuum chamber 7, simultaneously, gaseous hydrocarbon is fed to the vacuum chamber 7, and a hard carbon film is deposited on the substrate 9.例文帳に追加
プラズマ発生室4に電子サイクロトロン共鳴によるArプラズマを発生させ、該Arプラズマを真空チャンバー7内に配置した基板9に照射すると同時に、真空チャンバー7に炭化水素ガスを供給して、基板9上に硬質炭素被膜を形成する方法において、高い成膜速度でかつ低温で硬質炭素被膜を形成する。 - 特許庁
To provide plating with proper selectivity in minute pattern and without the possibility of deposition of a ceramic insulating body, even when electroless Ni plating is carried out again on a ceramic board in a pre-treatment step, in which the lowest-layer Ni plating is treated, with respect to a plating method for multi-layer electroless Ni plating on a sintered wiring conductor on a ceramic board.例文帳に追加
本発明は、セラミック基板の焼結配線導体上に無電解Niめっきを多階層に行う際のめっき方法に係わり、特に最下層の無電解Niめっきの前処理で、その上層に再度、無電解Niめっきを施す際もセラミック絶縁体上に析出しない、微細パターンへの選択性の高いめっきを提供するものである。 - 特許庁
After isolation grooves 4 are formed in the main surface of a semiconductor substrate 1S, an insulation film 6 having a thickness of not less than D+W/2, wherein D denotes the depths of the isolation grooves 4 and W denotes a minimum width of active regions surrounded by the isolation grooves 4, is deposited on the main surface by a high density plasma chemical vapor phase deposition method.例文帳に追加
半導体基板1Sの主面に分離溝4を形成した後、その主面上に、分離溝4の深さをD、その分離溝4により囲まれる活性領域の最小幅をWとした場合に、D+W/2またはそれ以上となるような厚さを持つ絶縁膜6を高密度プラズマ化学気相成長法により堆積する。 - 特許庁
The manufacturing method includes steps S1 and S3 for forming, at normal temperature, a pixel electrode and a counter electrode applying driving voltage to a liquid crystal and composed of an ITO on a TFT substrate and a counter substrate, respectively, by using a film-deposition apparatus and steps S2 and S4 for forming inorganic alignment layers on the pixel electrode and the counter electrode, respectively.例文帳に追加
TFT基板及び対向基板に、成膜装置を用いて、液晶に駆動電圧を印加するITOからなる画素電極、対向電極を、常温でそれぞれ形成するステップS1、ステップS3と、画素電極、対向電極上に無機配向膜を形成するステップS2、ステップS4と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁
The SiC film is coated on the glassy carbon material by a chemical vapor deposition(CVD) method, the X-ray diffraction peak strength of the SiC crystal face (111) of the film is ≤10 kc.p.s, and the diffraction peak strength of the SiC crystal face (111) is ≥80% of the diffraction peak strength of the whole crystal faces (hkl).例文帳に追加
CVD法によりSiC膜を被覆したSiC膜被覆ガラス状炭素材において、X線回折によるSiC膜のSiC(111)結晶面の回折ピーク強度が10kc.p.s以下であり、該SiC(111)結晶面の回折ピーク強度が全結晶面(hkl)の回折ピーク強度の80%以上であることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an industrially advantageous method for producing an α-olefin low polymer which can employ the temperature for maintaining a reaction solution high without bringing about the isomerization of the product and, accordingly, can prevent the deposition of a by-produced polymer to easily cope with a method for condensing both the by-produced polymer and a catalyst component to isolate them.例文帳に追加
生成物の異性化反応を惹起させることなく反応液の高い維持温度を採用することが出来、従って、副生ポリマーの析出を防止して副生ポリマーと触媒成分とを共に濃縮して分離する方法に容易に対応し得る、工業的に有利なα−オレフイン低重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁
This highly dampproof package for solid comprises a forming material 4 made of a laminate composed by bonding between a thermoplastic film, an aluminum foil and a cast polypropylene layer, and a cover material 4 made of a laminate composed by bonding between a thermoplastic film, a deposition layer comprising a transparent metal oxide, a printed layer and a coat layer such as denaturation polypropylene are bonded.例文帳に追加
成形材が、熱可塑性プラスティックフィルム、アルミニウム箔、キャストポリプロピレンの層間を接着してなる積層体で構成され、蓋材が、熱可塑性プラスティックフィルム、、透明金属酸化物から成る蒸着層、印刷層、変性ポリプロピレン等のコート層とが、層間を接着してなる積層体で構成されたことを特徴とする高防湿性の固形物包装体。 - 特許庁
To provide an alignment apparatus for aligning a substrate in an insufficiently dried state of a coating film formed thereon upon spin coating, the apparatus having a mechanism suitable for recycling and energy saving, reducing workers and halt in the equipment by automation, and preventing re-deposition of a coating film on an end of the substrate from an aligning pin.例文帳に追加
スピン方式のコーティング時、形成した塗布膜の乾燥が不十分な状態の基板を位置合わせするアライメント装置において、リサイクル、省エネとなる機構であって、自動化により作業員及び設備停止の低減する、位置合わせピンから基板端部へ塗布膜を再付着させることのないアライメント装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
In the vapor deposition equipment for an organic compound composed of a heating vessel with a deep bottom charged with an organic compound and a heater for heating the heating vessel from the side faces and vaporizing or subliming the organic compound, columns each composed of a stock having satisfactory thermal conductivity and standing vertically to the evaporation face of the organic compound are arranged in the heating vessel.例文帳に追加
有機化合物を充填した深底の加熱容器と該加熱容器を側面から加熱して有機化合物を気化または昇華させるためのヒータからなる有機化合物の蒸着装置において加熱容器内に、有機化合物の蒸発面に対して垂直に並ぶ熱伝導性の良好な素材から成る柱を配している。 - 特許庁
A spiral flow nozzle 4 is used for the means for dispersing the drug into respiratory gas of the drug administrating device for dispersing the powdery or liquid drug into the respiratory gas, by which the drug is uniformly dispersed into the respiratory gas and the local deposition of the drug may be prevented.例文帳に追加
粉体もしくは液状の薬剤を呼吸ガス中に分散させる手段と、呼吸ガス供給手段を有する薬剤投与器において、薬剤を呼吸ガス中に分散させる手段に、スパイラルフローノズル用ることにより、薬剤を呼吸ガス中に均一分散させ、薬剤の局所的な堆積を防ぐことによって、効果を高めた薬剤投与器である。 - 特許庁
To provide a plasma generator where, in a plasma gun, without reducing the effective amount of plasma generated by vacuum arc discharge, droplets intruding into the plasma can be efficiently removed, further, droplet removal parts can be easily and inexpensively composed, and the improvement in the precision of surface treatment such as film deposition by high purity plasma can be attained.例文帳に追加
プラズマガンにおいて、真空アーク放電により発生させるプラズマの有効量を減退させることなく、プラズマに混入するドロップレットを効率的に除去でき、しかも簡易かつ安価にドロップレット除去部を構成でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図ることのできるプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁
After an Al layer 3 and a metal seed layer 4 are formed, by a vapor deposition method, on a surface of an aluminum substrate 1 where an alumite coating 2 as an insulating film is formed using anodization, the Al layer 3 and alumite coating 2 are partially changed into a boehmite layer through hydration processing to form the boehmite layer 3a between the alumite coating 2 and metal seed layer 4.例文帳に追加
陽極酸化処理を用いて絶縁膜であるアルマイト皮膜2を形成したアルミニウム基板1の表面に、気相成長法によりAl層3と金属シード層4を形成した後、水和処理によりAl層3とアルマイト皮膜2の一部をベーマイト層に変化させ、アルマイト皮膜2と金属シード層4との間にベーマイト層3aを形成する。 - 特許庁
A packaging laminate 1 is constituted by providing a barrier layer 4 comprising a vapor deposition membrane 3 of inorg. oxide by a plasma chemical vapor growth method on one surface of an unstretched polypropylene film 2 with a thickness of 15-50 μm and applying a substrate film to the surface of the barrier layer 4 through an adhesive layer 6 by dry lamination.例文帳に追加
厚さ15〜50μmの無延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に、プラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜からなるバリア層を設け、更に、該バリア層の面に、ラミネ−ト用接着剤層を介して、基材フィルムをドライラミネ−トした構成からなることを特徴とするスナック食品包装用積層体に関するものである。 - 特許庁
To obtain a crystalline bismuth-based glass composition which can deposit an enough amount of crystals after being softened and fluidized well in a sealing process, in addition, can not be again fluidized in a heating process after crystal deposition, for example in a vacuum exhaust process, and can suppress unreasonable rising of a coefficient of thermal expansion before and after crystallization.例文帳に追加
封着工程で良好に軟化流動した後に十分な量の結晶が析出することに加えて、結晶析出後の加熱工程、例えば真空排気工程で再流動することがなく、しかも結晶化前後の熱膨張係数の不当な上昇を抑制することができる結晶性ビスマス系ガラス組成物を得ること。 - 特許庁
In a film deposition method for emitting particles of the target 2 and depositing a film on the surface of the substrate 10, the collimator 3 is arranged between the target 2 and the substrate 10, and the collimator 3 regulates the particles from the target 2 to the substrate 10 so as to be directed obliquely with respect to the surface of the substrate 10.例文帳に追加
また、本発明は、ターゲット2の粒子を放出して基板10の表面に成膜を行う成膜方法において、ターゲット2と基板10との間にコリメータ3を配置し、このコリメータ3によってターゲット2から基板10へ向かう粒子を基板10の表面に対して斜めに向かうよう規制して成膜を行う成膜方法である。 - 特許庁
The manufacturing method is that crystalline glass small bodies having an average transmittance in thickness of 1 mm of 35% or more after carrying out fusion unification and crystal deposition are mixed with 0.01-3 mass% of a coloring agent of the metal oxide and accumulated in a refractory container, and then heat-treated at a temperature higher than the softening point.例文帳に追加
また本発明の製造方法は、融着一体化して結晶析出させた後の厚さ1mmにおける平均透過率が35%以上となる結晶性ガラス小体に、金属酸化物の着色剤を0.01〜3質量%混合して耐火容器内に集積し、軟化点よりも高い温度で熱処理するものである。 - 特許庁
By this constitution, even if an ion particle 118 collides against the surface of the support 10, particularly an end surface 74, at film deposition treatment and resultingly particles 124 and 126 of a film 90 are sputtered from the end surface 74, the sputtered particles 124 and 126 do not redeposit on the surface of the object 20 to be treated.例文帳に追加
この構成によれば、成膜処理時に、イオン粒子118が支持具10の表面、特に先端面74、に衝突することによって当該先端面74から被膜90の粒子124および126が叩き出されたとしても、この叩き出された粒子124および126が被処理物20の表面に再付着することはない。 - 特許庁
In the antireflection film having a base material, a bar code layer arranged on the surface of the base material and the laminated body consisting of laminated thin layers formed on the surface of the bar code layer, the laminated body is formed by laminating a thin layer formed by a plasma CVD method and a thin layer formed by a sputtering method or a deposition method.例文帳に追加
基材と、基材上に位置するハードコート層と、ハードコート層上に位置し、複数の薄層が積層されてなる積層体と、を有する反射防止フィルムにおいて、当該積層体を、プラズマCVD法により形成される薄層と、スパッタリング法または蒸着法により形成される薄層とを積層することにより形成する。 - 特許庁
In the method for manufacturing a magnetic recording medium by forming at least a magnetic layer on a substrate and then forming a lubrication layer by vacuum vapor deposition, the lubrication layer is formed by using a lubricant refined to have regulated mol.wt. and depositing the vapor of the lubricant on the magnetic layer or on a protective layer formed on the magnetic layer.例文帳に追加
基板上に少なくとも磁性層を形成した後、真空蒸着法によって潤滑層を形成する磁気記録媒体の製造方法において、分子量精製された潤滑剤を用い、潤滑剤蒸気を前記磁性層又は磁性層上に形成した保護層の表面に蒸着させることにより前記潤滑層を形成する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing printed circuit board by which the deposition characteristics in electrolytic pattern plating when the wiring pattern has roughness and fineness is made equal to or better than that in panel plating, a printed circuit board having a pattern having great roughness and fineness is manufactured by a pattern process, and a fine pattern is easily formed, and its electroplating device used in the electroplating.例文帳に追加
配線パターンに疎密がある場合の電解パターンメッキにおける析出特性をパネルメッキと同等以上にでき、疎密の大きなパターンを有するプリント配線板をパターン法で製造することを可能とし、微細なパターンを容易に形成できるプリント配線板の製造方法とその電解メッキ工程に用いる電解メッキ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a laminated wiring board and a method of manufacturing the same, in which equal pressure may be applied between the wiring patterns to be connected and thereby poor connection of wiring patterns can be eliminated and generation of defective conductive area can also be prevented, when the laminated wiring substrate is manufactured by connecting two wiring board of printed board and flexible substrate through thermal deposition method.例文帳に追加
プリント基板及びフレキシブル基板等の2個の配線基板を熱圧着して接続し、積層配線基板を製造する際に、接続すべき配線パターン間に均一に加圧力を印加することができ、配線パターンの接続が不良とならず、導通不良箇所の発生を防止できる積層配線基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing carbon nanotubes includes the processes of: preparing a substrate tilted in a one-dimensional or two-dimensional direction from a specified crystallographic orientation with high symmetry; vapor-depositing a catalyst metal along the atomic steps appearing on the substrate surface; and growing carbon nanotubes by chemical vapor deposition (CVD) on the catalyst metal as nuclei.例文帳に追加
特定の対称性の高い結晶方位から1次元方向又は2次元方向に傾いた基板を用意し、その基板表面に現れる原子ステップに沿って触媒金属を蒸着する工程と、その触媒金属を核としてカーボンナノチューブをケミカルベーパーデポジション(CVD)成長させる工程を含む、カーボンナノチューブの製造方法。 - 特許庁
To provide a polyimide film which satisfies properties of high elastic modulus, low thermal expansion coefficient, low heat shrinking rate and flatness after vapor deposition when used as a base material for a metal circuit board having a metal circuit on its surface such as a flexible printed circuit, CSP, BGA or TAB tape.例文帳に追加
その表面に金属配線を施してなる可撓性の印刷回路,CSP,BGAまたはTABテープ用の金属配線板基材に適用した場合に、高弾性率、低熱膨張係数、低熱収縮率、および蒸着後の平面性を同時に満足したポリイミドフィルム、及びそれを基材としてなる金属配線回路板を提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method forming a positive electrode made of lithium manganate on a substrate by a vapor phase method, a manganese oxide is used as a raw material of manganese of lithium manganate or a partial substitution compound of lithium manganate, the manganese oxide is put into a vapor deposition source container 61, and energy for vaporization is applied in oxygen-containing atmosphere.例文帳に追加
気相法によって基材上にマンガン酸リチウムの正極を形成する、製造方法であって、マンガン酸リチウムまたはマンガン酸リチウムの部分置換型化合物の、マンガンの原料に酸化マンガンを用い、酸化マンガンを蒸着源容器61に入れ、酸素含有雰囲気中で、蒸発用エネルギーを投入することを特徴とする。 - 特許庁
In the display element containing an electrolyte containing silver or a compound containing silver in its chemical structure between electrodes opposed to each other and performing driving operation of the electrodes so that dissolution and deposition of silver may be generated, the electrolyte contains two or more compounds represented by a general formula (a) or a general formula (b).例文帳に追加
対向電極間に、銀、または銀を化学構造中に含む化合物を含有する電解質を含有し、銀の溶解析出を生じさせるように該対向電極の駆動操作を行う表示素子であって、該電解質が下記一般式(a)または一般式(b)で表される化合物を2種以上含有することを特徴とする表示素子。 - 特許庁
To provide a developing device which has excellent durability, ensures stable charging performance to a toner and stable electric resistance of a carrier, and can yield a high-quality image with high image density, high resolution, less carrier deposition and less fog because a two-component developer can stably be supplied to a development area, and an image forming apparatus including the same.例文帳に追加
耐久性に優れ、トナーへの帯電付与性能およびキャリアの電気抵抗が安定し、また二成分現像剤を現像領域に安定して供給することができるため、画像濃度および解像度が高く、またキャリア付着およびかぶりの少ない高画質の画像を得ることができる現像装置およびそれを備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a ferroelectric capacitor, whose resistance to fatigue is improved, when compared to a ferroelectric capacitor which is manufactured by employing a low-temperature deposition technique for a platinum lower electrode of a conventional technique, and reduce stress and raise its thermal stability as the whole of a ferroelectric capacitor stack, when compared to a ferroelectric capacitor stack of the conventional technique.例文帳に追加
従来技術の、プラチナ下部電極の低温堆積技術を利用して製造した強誘電性キャパシタと比較して、疲労に対する抵抗性の改善された強誘電性キャパシタを提供し、また、従来技術の強誘電性キャパシタスタックと比較して、強誘電性キャパシタスタックの全体としての応力を減じ、かつその熱安定性を高めること。 - 特許庁
A gaseous mixture of an organic silicon compound having aliphatically unsaturated radicals and comprising no oxygen in molecules (such as trimethyl vinyl silane) and aliphatically unsaturated hydrocarbon (such as ethylene or acetylene) is used as a reactive gas and is fed to the surface of a polylactic acid base material, and, by plasma CVD (Chemical Vapor Deposition), a vapor deposited film is deposited on the polylactic acid base material.例文帳に追加
脂肪族不飽和基を有し且つ分子中に酸素を有していない有機ケイ素化合物(例えばトリメチルビニルシラン)と、脂肪族不飽和炭化水素(例えばエチレン或いはアセチレン)との混合ガスを反応性ガスとして使用し、該反応性ガスをポリ乳酸基材上に供給してのプラズマCVDにより、ポリ乳酸基材上に蒸着膜を形成する。 - 特許庁
The inside of a chamber is provided with a heater 1 for heating wafers, a cathode 2 as a sputter cathode, a shield 3 for preventing the deposition of films to the chamber, a cryopump 4 as a main exhaust unit of sputter gases, a conductance plate 5 attached to obtain the conductance of exhaust, and a valve element 6 of a gate valve for shielding a section between the chamber and the cryopump 4.例文帳に追加
チャンバ内にはウェハを加熱するためのヒータ1と、スパッタ陰極であるカソード2と、チャンバへの膜付着を防止するためのシールド3と、スパッタガスの主排気であるクライオポンプ4と、排気のコンダクタンスを得るために取付けらているコンダクタンスプレート5と、チャンバとクライオポンプ4との間を遮蔽するためのゲートバルブ弁体6とが配設されている。 - 特許庁
Accordingly, the constituent particles of the vapor deposition material are emitted to the outside of the cavity, without being disturbed by the redeposited constituent particles, thereby keeping a quantity of the constituent particles emitted on every trigger discharge from the inside of the anode 30 constant, and the thickness of the thin film formed on the surface of the substrate by one discharge constant.例文帳に追加
従って、蒸着材料の構成粒子は、再付着した構成粒子により妨げられることなく空洞外部へ放出され、各トリガ放電ごとにアノード電極30内部から放出される構成粒子の量を一定に保ち、一回の放電で基板表面に成膜される薄膜の膜厚を一定にすることができる。 - 特許庁
The surface of a powdered hydrogen-absorbing alloy containing at least one element selected from the group consisting of rare-earth metal elements and Ti is coated with nickel oxide or nickel hydroxide (e.g. by ballmill mixing with fine powder of nickel oxide or nickel hydroxide or by deposition of nickel hydroxide from an aqueous solution of an acidic nickel salt) and then heat-treated at 400-1,000°C.例文帳に追加
希土類金属元素およびTiから選ばれた少なくとも1種の元素を含む粉末状の水素吸蔵合金の表面に、酸化ニッケルまたは水酸化ニッケルを被覆し (例、酸化ニッケルまたは水酸化ニッケル微粉末とのボールミル混合、または酸性ニッケル塩水溶液からの水酸化ニッケルの析出により) 、次いで 400〜1000℃で熱処理する。 - 特許庁
In the thin film deposition device 1, a rotary encoder 100 for detecting the rotary position of a substrate S is fitted to the rotary axis of a rotary drum 13, and, on the basis of the rotary position of the substrate S detected by the rotary encoder 100, a measurement control computer 96 controls timing to perform the measurement of its film physical property value by an optical measuring means 80.例文帳に追加
薄膜形成装置1は、基板Sの回転位置を検出するロータリーエンコーダ100を回転ドラム13の回転軸に取り付け、ロータリーエンコーダ100で検出した基板Sの回転位置に基づいて測定制御コンピュータ96は光学測定手段80で膜物性値の測定を行うタイミングを制御するように構成されている。 - 特許庁
To provide a manufacturing method and a manufacturing device of a magnetic recording medium by which the magnetic recording medium having a DLC film of high hardness can be manufactured with good yield by suitably preventing the damage of the DLC film due to a spark caused by a foreign matter and the variation of film quality of the DLC film and enhancing a film-deposition speed of the DLC film.例文帳に追加
異物に起因するスパークによるDLC膜の損傷やDLC膜の膜質のバラツキを適切に防止して、DLC膜の成膜速度を向上することにより、高硬度のDLC膜を有する磁気記録媒体を歩留よく製造することのできる磁気記録媒体の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁
Next, a second semiconductor layer including a plurality of conical projections formed of an amorphous semiconductor and a microcrystal semiconductor formed in such a manner that the first semiconductor layer is partially grown as a seed crystal by generating plasma using a deposition gas containing silicon or germanium, hydrogen, and a gas containing nitrogen.例文帳に追加
次に、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体と、水素と、窒素を含む気体とを用い、プラズマを発生させて、非晶質半導体と、第1の半導体層を種結晶として部分的に結晶成長させて、形成される微結晶半導体で形成される複数の錐形状の凸部を有する第2の半導体層を形成する。 - 特許庁
The apparatus has a treatment vessel 1 containing an acidic aqueous solution containing selenite ions or tellurite ions and sulfite ions, a means of irradiating the vessel 1 with ultraviolet light and a deposition unit for depositing selenium or tellurium on a substrate 2 by irradiating the acidic aqueous solution with the ultraviolet light.例文帳に追加
亜セレン酸イオンまたは亜テルル酸イオンと亜硫酸イオンを含む酸性水溶液を有する処理槽1と、この処理槽1に紫外光を照射する手段と、前記紫外光を前記亜セレン酸イオン又は亜テルル酸イオンと亜硫酸イオンを含む酸性水溶液に照射し、セレンまたはテルルを基板2上に堆積させる堆積装置とを具備する。 - 特許庁
The display element includes, between counter electrodes, an electrolyte containing silver or a compound containing silver in its chemical structure and performs driving operation of the counter electrodes so as to generate dissolution and deposition of silver, wherein the electrolyte includes an ionic liquid comprising cation species containing no nitrogen atom or anion species containing no nitrogen atom.例文帳に追加
対向電極間に銀または銀を化学構造中に含む化合物を含有する電解質を含有し、銀の溶解析出を生じさせるように該対向電極の駆動操作を行う表示素子であって、該電解質が窒素原子を含まない陽イオン種、または、窒素原子を含まない陰イオン種からなるイオン液体を含むことを特徴とする表示素子。 - 特許庁
The monolayer film and the multilayer film include a layer made of at least zirconium oxide, and the layer made of zirconium oxide is formed on the substrate according to an ion-assist deposition while introducing nitrogen gas, argon gas or a mixed gas thereof.例文帳に追加
基板の上に薄層を形成してなる耐擦傷性物品の製造方法であって、前記薄層は単層膜または多層膜からなり、前記単層膜および多層膜は、少なくとも酸化ジルコニウムからなる層を含み、前記酸化ジルコニウムからなる層を、窒素ガス、アルゴンガス、またはこれらの混合ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着により前記基板上に形成する。 - 特許庁
To provide a packaging material enhanced in stiffness strength and excellent in impact resistance by forming a sandwich structure from resin layers and to provide gas barrier laminate excellent in shading properties, friendly to environment and excellent in gas barrier properties by applying metal vapor deposition to at least the single surface of an intermediate layer constituting the sandwich structure.例文帳に追加
樹脂層でサンドイッチ構造を形成させることにより腰強度が高く、しかも耐衝撃性に優れた包装材料を提供し、さらにサンドイッチ構造を構成する中間層の少なくとも片面に金属蒸着を施すことにより遮光性優れ環境に易しいと共にガスバリア性に優れる積層体を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing toner in high yield by coating surfaces of toner base particles with a resin layer while maintaining a fluidized state of the powder particles, and suppressing aggregation deposition of particles in an apparatus, and also to provide the toner obtained by the method, a developer containing the toner, and a developing device and an image forming apparatus using the developer.例文帳に追加
粉体粒子を流動させた状態を保持しつつトナー母粒子表面に樹脂層を被覆し、装置内部での凝集付着を抑えた収率の高いトナーの製造方法およびその製造方法で得られたトナー、前記トナーを含む現像剤、ならびに前記現像剤を用いる現像装置および画像形成装置を提供する。 - 特許庁
In the functional film production method, the organic film consisting essentially of polymer is formed on a surface of a substrate, and then the inorganic film is formed by vacuum deposition and the substrate having the organic film formed thereon is processed without coming in contact with the organic film surface in vacuum until formation of an inorganic film is completed.例文帳に追加
基板の表面にポリマーを主成分とする有機膜を成膜し、その後、真空成膜法によって無機膜を成膜し、かつ、前記無機膜の成膜を終了するまでは、真空中において前記有機膜の表面に接触することなく、前記有機膜を成膜した基板の処理を行なうことにより、前記課題を解決する。 - 特許庁
The laminated body includes a sealant layer 3 to form a heat sealing layer laminated on a transparent easily tearable aliphatic polyester stretched film 1 through an electrostatic induction preventing layer 2, and furthermore, a vapor deposition layer 10 is arranged as an intermediate layer between the easily tearable aliphatic polyester stretched film and the electrostatic induction preventing layer.例文帳に追加
透明な易引き裂き性脂肪族ポリエステル系延伸フィルム1に、静電誘導防止層2を介してヒートシール層を形成するシーラント層3が積層されて形成され、さらに前記易引き裂き性脂肪族ポリエステル系延伸フィルムと静電誘導防止層との層間に、中間層として蒸着層10を設けたこと特徴とする。 - 特許庁
To provide a method for efficiently performing film deposition by quantitatively feeding (cyclopentadienyl)bis(ethylene)iridium to a reaction tank not by sublimation but by a bubbling or liquid injection process, in the method for feeding the raw material in the case (cyclopentadienyl)bis(ethylene)iridium being solid at room temperature is used as the raw material for depositing an iridium-containing film.例文帳に追加
イリジウム含有膜を形成させる原料として、室温で固体の(シクロペンタジエニル)ビス(エチレン)イリジウムを用いる場合、その原料供給方法として、昇華ではなくバブリングまたはリキッドインジェクション法により定量的に反応槽に(シクロペンタジエニル)ビス(エチレン)イリジウムを供給し成膜を効率的に行うことができる方法を提供する。 - 特許庁
If the OCV calculated by the OCV calculation part 72 is in a predetermined region, a degradation determination part 76 determines that the lithium ion battery is degraded due to deposition, when properties of changes in SOC and OCV occurring when the vehicle travels from a predetermined spot A up to a spot B vary by specified amounts from properties acquired when the battery is brand-new.例文帳に追加
劣化判定部76は、OCV算出部72により算出されたOCVが所定領域にある場合において、所定のA地点からB地点へ車両が走行したときのSOCおよびOCVの変化の特性が新品時の特性から規定量のずれを生じたとき、リチウムイオン電池において析出劣化が発生したものと判定する。 - 特許庁
For example, when the state of the fuel cell system is in a foreign matter deposition state in the hydrogen gas passage 21 and the foreign matter is exhausted, the secondary side discharge pressure of the hydrogen pressure control valve 6 is made high, and in a hydrogen gas leakage state from the hydrogen gas supply passage 21, the secondary side discharge pressure of the hydrogen pressure control valve 6 is made low.例文帳に追加
例えば、燃料電池システムの状態が水素ガス供給路21における異物の堆積状態であって、異物を排出する場合には、水素調圧弁6の二次側吐出圧力を高くする一方、水素ガス供給路21からの水素ガス漏れ状態である場合には、水素調圧弁6の二次側吐出圧力を低くする。 - 特許庁
A raw material nozzle 9 to spray the raw liquid material 1 downwardly and a vaporizing plate 8 which is a smooth heating surface inclined at the position sufficiently separated from the raw material nozzle 9 below the raw material nozzle 9 are provided in a heated vacuum vessel 4, and a vaporizing mechanism having a large sectional area of a part joined with a film deposition chamber is used.例文帳に追加
加熱された真空容器4中に、液体原料1を下方に噴霧する原料噴出口9と、当該原料噴出口9の下方に原料噴出口9より十分離れた位置に傾斜した滑らかな加熱面である気化板8を持ち、成膜室と接合する部分の断面積の広い気化機構を用いるようにする。 - 特許庁
The film deposition method includes: a step of adhering a photocatalyst layer 80 to a surface 60s of the resin member 60; a step of applying ultraviolet ray 66 to an adhered portion 65 of the resin member 60 to the photocatalyst layer 80; and a step of depositing the plating film 70 on the surface 60s of the resin member 60 by an electroless plating method.例文帳に追加
樹脂部材60の表面60sに光触媒層80を密着させる工程と、樹脂部材60と光触媒層80との密着部分65に紫外光66を照射する工程と、無電解めっき法により樹脂部材60の表面60sにめっき皮膜70を形成する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
This mask 1 for vacuum deposition is held on the mask frame 11, and provided with: a depositing mask body 10; a guide member 12 bonded to at least one side of the mask body 10; and a tension application means 14 for applying predetermined tension to the mask body 10 through the guide member 12 when held on the mask frame 11.例文帳に追加
マスクフレーム11に保持されている真空蒸着用マスク1であって、蒸着用マスク本体10と、蒸着用マスク本体10の少なくとも1辺に接着されたガイド部材12と、マスクフレーム11に保持したときに、ガイド部材12を介して蒸着用マスク本体10に所定の張力を付加する張力付加手段14とを備える。 - 特許庁
The method for forming a metal oxide film on the substrate in a reactor of an atomic layer vapor deposition apparatus using plasma includes: a step of supplying a metallic source compound into the reactor; a step of supplying oxygen gas into the reactor; and a step of generating oxygen plasma during a predetermined time in the reactor.例文帳に追加
プラズマを用いる原子層蒸着装置の反応器内において基板上に金属酸化物膜を形成する方法であって、反応器内に金属原料化合物を供給する段階と、反応器内に酸素ガスを供給する段階と、反応器内に所定時間中に酸素プラズマを生じさせる段階と、を含む金属酸化物膜の形成方法。 - 特許庁
In the method of manufacturing the carbon nanotube formed by a chemical vapor deposition, a metallic fiber used as a catalyst has 1-100 nm diameter and ≥100 μm length and is mounted in a reaction furnace, heated to a prescribed temperature and grown around the catalytic metallic fiber to enclose the metal by passing a raw material gas.例文帳に追加
化学気相法を用いて作製されるカーボンナノチューブの製造方法において、触媒として用いる金属繊維が1nm〜100nmの径で、長さが100μm以上であって、該金属繊維を反応炉内に設置し、所定温度に加熱し、原料ガスを流し、触媒金属繊維の周囲に金属を包むようにして成長させる。 - 特許庁
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