Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
The material of a reforming reactor 10 contains 34-50 wt.% Ni, 20-30 wt.% Cr and the balance at least Fe with inevitable impurities, and the reaction of the methane slip and the carbon deposition is reversely accelerated in the presence of Ni, and an oxide film is formed to improve the corrosion resistance and electric resistance heat generating property in the presence of Cr.例文帳に追加
改質反応管10が Ni 34〜50wt%、Cr 20〜30wt%を含有し、残りがFeと不可避不純物を含むものであり、Niの含有によって、メタンスリップ、カーボン析出の反応を逆方向に促進するとともに、Crの含有によって、酸化膜を形成して、耐食性を向上させ、かつ電気抵抗発熱性を向上させる。 - 特許庁
In the method for manufacturing the optical element including forming of the optical element of a desired shape by pressing a forming workpiece softened by heating by means of forming dies, and depositing the antireflection film on the surface of the obtained optical element, the optical element of ≥60 mJ/m^2 in surface free energy is subjected to the deposition of the antireflection film by UV ozone cleaning or plasma cleaning.例文帳に追加
加熱軟化した成形素材を成形型により加圧成形して、所望の形状の光学素子を成形し、得られた光学素子の表面に反射防止膜を成膜することを含む光学素子の製造方法であって、反射防止膜の成膜を、UVオゾン洗浄又はプラズマ洗浄することにより表面自由エネルギーが60mJ/m^2以上である光学素子に対して行う。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor and a method for manufacturing the same capable of remedying problems of a spray coating method, that is, defects of a coating film due to deposition of an aggregate when continuous coating is carried out and unevenness in film thickness due to sticking of a coating liquid to a coating liquid discharge outlet, and stably giving excellent print quality even when continuous coating is carried out.例文帳に追加
スプレー塗工法の問題、つまり、連続塗工実施時における凝集物の析出に起因する塗膜の欠陥や、塗布液吐出口への塗布液の固着に起因する膜厚ムラなどを改善することができ、連続塗工実施時においても安定して優れた印字品質を得ることができる電子写真感光体およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
The plasma film deposition system comprises: a sample stand for installing at least a sample substrate inside a vessel holdable to a reduced pressure; a target having a through hole and arranged with a fixed interval from the sample stand or one or more sets of targets arranged so as to be confronted each other; and a mechanism for controlling the distribution of particles flying from the target to the sample substrate.例文帳に追加
本発明のプラズマ成膜装置は、減圧に維持できる容器内に、少なくとも、試料基板を設置するための試料台と、試料台から一定の間隔をおいて配置された、貫通溝を有するターゲットまたは1組以上の互いに相対向して配置されたターゲットと、ターゲットから試料基板に飛来する粒子分布を制御する機構とを有する。 - 特許庁
The composite structure 10 comprises: a base material 11 made of metal, ceramic, resin or a composite material thereof; a structure 12 made of a brittle material formed on the surface thereof by an aerosol deposition process; and a thin film 13 of one or more kinds selected from transition metal carbides, transition metal nitrides, transition metal borides and diamond like carbon and formed on the surface thereof.例文帳に追加
複合構造物10は、金属やセラミックス、樹脂あるいはこれらの複合材料からできている基材11と、この表面にエアロゾルデポジション法によって形成される脆性材料からなる構造物12と、さらにこの表面に形成される遷移金属炭化物、遷移金属窒化物、遷移金属ほう化物、ダイヤモンドライクカーボンのうちの一種以上からなる薄膜13とからなる。 - 特許庁
The alignment assisting means is provided with the plurality of apertures corresponding to the plurality of apertures for vapor deposition formed on the mask and is provided with the one or more pins longer in length than the penetration length of the pinholes formed in the positions fitting to the one or more pinholes formed at the mask, wherein the one or more pins are movable so as to penetrate the one or more pinholes.例文帳に追加
前記整列補助手段は、前記マスクに形成された複数の蒸着用開口部に対応する複数の開口部を備え、前記マスクに形成された一つ以上のピンホールに相応する位置に形成された、前記ピンホールの貫通長さより長さの長い一つ以上のピンを備え、そして前記一つ以上のピンが前記一つ以上のピンホールを貫通するように移動可能である。 - 特許庁
To provide a fluorine added glass article having a core material having small curvature and small eccentricity even when one having a fine diameter, one formed from a silica material having a low softening temperature or one formed by depositing a large quantity of low bulk density glass soot is used as the core material in the manufacture of the fluorine added glass article such as a fluorine added optical fiber preform by the outside vapor phase deposition method.例文帳に追加
外付け法によりフッ素添加光ファイバ母材などのフッ素添加ガラス物品を製造する際、コア材として細径のものを使用した場合、軟化温度が低いシリカなどからなるものを使用した場合、あるいは多量の嵩密度の低いガラススートを堆積した場合でも、コア材の湾曲が少なく、偏心が小さいフッ素添加ガラス物品を得る。 - 特許庁
A cleaned liquid containing remarkably small quantity of the insoluble material is obtained to reduce the load of a filtration vessel B by providing the adjusting means D for controlling, for example, a timer T or a pH value changing structure D1 for a fixed time in the insoluble material decomposition and cleaning device 1 to increase the deposition of the insoluble material present in the separation vessel A in the device 1.例文帳に追加
不溶解物分離浄化処理装置1内の分離槽Aに存在する不溶解物の析出量を多くするために一定時間コントロールする調整手段D、例えばタイマーTやpH値変更機構D1を装置1に設置することによって、不溶解物の極めて少ない浄化液体が得られ、濾過槽Bの負荷を軽減することができる。 - 特許庁
To provide an interest rate linked type credit server that activates an electronic commerce by allocating a calculated interest rate in the new balance, on the basis of an interest rate to preset transaction balance and credit balance or average credit balance at the same time with deposition of a transaction amount, in a credit server of a store side in the electronic commerce and giving incentive to a transaction activation to the store side.例文帳に追加
電子商取引における店舗側の預金サーバーに取引金額が入金されると同時に、事前に設定された取引高や預金残高又は預金平均残高に対する金利の利率にもとづき、新残高に算定した金利の計上を行い、取引発生に関するインセンティブを、店舗側に与え電子商取引の活性化を促せる金利連動型預金サーバーである。 - 特許庁
To provide an exhaust gas recirculating device capable of suppressing reduction of temperature of recirculating exhaust gas flowing in a flow-in passage up to a recirculation valve, suppressing deposition of an adhered substance such as carbon in the recirculation valve, and realizing compact arrangement of pipe passages constituting an exhaust system by providing the flow-in passage of the exhaust gas recirculating device in an exhaust passage pipe forming an exhaust passage.例文帳に追加
排気ガス還流装置の流入路が排気通路を形成する排気通路管内に設けられることにより、還流弁に至るまでの流入路を流れる還流排気ガスの温度低下を抑制して、還流弁におけるカーボン等の付着物の堆積を抑制することができ、しかも排気系を構成する管路配置がコンパクトになる排気ガス還流装置を提供する。 - 特許庁
A fluorine-containing gas is injected into a pump pressure-feeding system or a pump pressure-feeding and reducing system in a form where process by-products are kept to be volatile, and the deposition of undesirable by-products in a pump and a system feed line is prevented or is substantially eliminated, and further, optional depositions often formed on the surfaces at the insides of the pump and system feed line are revolatilized.例文帳に追加
プロセス副産物を揮発性に保ち、ポンプ及びシステム供給ライン中の望ましくない副産物堆積を防ぐかまたは実質的に無くすような、また、ポンプ及び供給ライン内部の表面に形成されることがある任意の堆積物を再揮発するような様式で、フッ素を含むガスを、ポンプ送圧システム、またはポンプ送圧及び低減システム中に注入する。 - 特許庁
The method for manufacturing vibration-proof rubber comprises a coating step of forming a para-xylylene resin layer on the surface of the vulcanized rubber of a rubber composition comprising a rubber component based on natural rubber, preferably, depositing the para-xylylene resin layer on the surface of the vulcanized rubber by using a vapor deposition polymerization method.例文帳に追加
天然ゴムを主成分とするゴム成分を含有するゴム組成物の加硫ゴム表面にパラキシリレン樹脂層を形成するコーティング工程を含むことを特徴とする防振ゴムの製造方法であって、好ましくはコーティング工程が、気相蒸着重合法により加硫ゴム表面にパラキシリレン樹脂層を形成するものであることを特徴とする防振ゴムの製造方法。 - 特許庁
To prevent damage to a shaft member, etc., to achieve long life by eliminating deposition of a byproduct in a housing, etc. and to eliminate the need for making a housing and other element apparatuses into structure capable of resisting high temperature by further preventing generation of the byproduct not by temperature control but by pressure control in a processing apparatus by which gas is generated in a processing chamber.例文帳に追加
処理室内においてガスが生成される処理装置において、副生成物がハウジング等に堆積することを無くすことにより、軸部材等の損傷を防止し、長寿命を達成し、さらに温度制御でなく圧力制御により副生成物の発生を防止することにより、ハウジングその他の要素機器を高温に耐え得る構造にする必要を無くす。 - 特許庁
The method further comprises the steps of: processing the dummy film to a predetermined shape by anisotropic etching of a deposition condition; processing the film to be processed to a predetermined shape by the anisotropic etching; removing the dummy film on the film to be processed formed in the predetermined shape by the anisotropic etching; and forming an upper layer film on the film to be processed.例文帳に追加
さらに、前記ダミー膜を所望の形状にデポ条件の異方性エッチングにより加工する工程と、前記被加工膜を所望の形状に異方性エッチングにより加工する工程と、前記所望の形状に加工された被加工膜上の前記ダミー膜を異方性エッチングにより除去する工程と、前記被加工膜上に上層膜を形成する工程と、を備えている。 - 特許庁
In the distillation process, it is possible to surely suppress the deposition of aluminum chloride in a reboiler, circumferential piping or the like or the blockage of piping by recovering silicon chlorides from the silicon chloride condensate by evaporating them, extracting the concentrated liquid of aluminum chloride from a distillation column and recovering residual silicon chlorides, and at the same time, discharging a residual re-concentrated substance to the outside of the system.例文帳に追加
蒸留工程で、シリコン塩化物凝縮液からシリコン塩化物を蒸発させて回収し、塩化アルミニウム濃縮液を蒸留塔から抜き出して残存するシリコン塩化物を回収すると共に、残留する再濃縮物を系外へ排出することとすれば、リボイラーや周辺の配管等における塩化アルミニウムの析出、配管の閉塞を確実に抑制することができる。 - 特許庁
Film deposition is performed using an oxide semiconductor target containing an insulator (an insulating oxide, an insulating nitride, silicon oxynitride, aluminum oxynitride, or the like), typically SiO_2, so that the semiconductor device in which the Si-element concentration in the thickness direction of the oxide semiconductor layer has a concentration gradient which increases in accordance with an increase in a distance from a gate electrode is realized.例文帳に追加
絶縁物(絶縁性酸化物、絶縁性窒化物、若しくは酸窒化シリコン、酸窒化アルミニウムなど)、代表的にはSiO_2を含む酸化物半導体ターゲットを用いて成膜を行い、酸化物半導体層の膜厚方向におけるSi元素濃度が、ゲート電極に近い側からゲート電極に遠い側に増加する濃度勾配を有する半導体装置を実現する。 - 特許庁
To solve a problem that when an apparatus for forming an HfO_2 (hafnium oxide) film by an ALD (Atomic Layer Deposition) method supplies TEMAH and O_3 alternately to a reaction chamber to form the HfO_2 film, the TEMAH receives heat in the reaction chamber to be decomposed and then an Hf film is formed in a TEMAH supply nozzle and peels to become particles.例文帳に追加
ALD(Atomic Layer Deposition)法によりHfO_2(ハフニウムオキサイド)膜を形成する装置にてTEMAHとO_3を交互に反応室へ供給することにより、HfO_2膜が形成される場合にTEMAHが反応室内の熱を受け加熱分解し、TEMAH供給ノズル内でHf膜が形成され、前記Hf膜が剥がれパーティクルという課題を解決する。 - 特許庁
To provide a fuel cell power generation system in which a steam supply device is not required and large size and complexity of the device are not caused and which can prevent deposition of carbon on a fuel electrode even if hydrocarbon and carbon monoxide are contained in a fuel gas and can maintain the battery performance for a long time, and an operation and control method of the fuel cell power generation system.例文帳に追加
水蒸気供給装置が不要で、装置の大型化や複雑化を招くことなく、燃料ガス中に炭化水素や一酸化炭素が含まれていたとしても、燃料極への炭素質の析出を防止することができ、電池性能を長期に亘って保持することができる燃料電池発電システムと、このような燃料電池発電システムの運転・制御方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the transparent conductive film includes: a polycrystalline film-forming step of forming a polycrystalline film, which contains zinc oxide, on a substrate by a vapor-phase deposition method; and a transparent conductive film-forming step of forming the transparent conductive film, in which the polycrystalline film is crystal-grown with Joule heating caused by energizing the polycrystalline film.例文帳に追加
本発明の透明導電膜の製造方法は、気相蒸着法により基板上に酸化亜鉛を含む多結晶膜を形成する多結晶膜形成工程と、前記多結晶膜に通電してジュール加熱を行うことにより前記多結晶膜を結晶成長させた透明導電膜を形成する透明導電膜形成工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁
In the plating film deposition method, a plating film is deposited in the order of a step 1 of degreasing and cleaning a surface of a member formed of synthetic resin, a step 2 of coating primer coating containing catalyst, a step 3 of depositing a copper plating film by an electroless plating method, and a step 4 of depositing a rustproof agent film through benzotriazole treatment.例文帳に追加
本発明にかかるメッキ膜形成方法は、合成樹脂材よりなる部材の表面を脱脂・洗浄する工程1と、触媒を含むプライマ塗料を塗布する工程2と、無電解メッキ法により銅メッキ膜を形成する工程3と、ベンゾトリアゾール処理による防錆剤膜を形成する工程4の順序によってメッキ膜を形成することを特徴とするものである。 - 特許庁
The resin product containing a bright and discontinuously structured metal film 12 comprising a resin base material 11 and indium on the resin base material 11, is characterised by having an under anti-corrosive protection film 13 for improving the corrosion resistance of the metal film 12 comprising silicon oxonitride, aluminum nitride, aluminum oxonitride or chromium oxide formed by a physical vapor deposition method only under the metal film 12.例文帳に追加
樹脂基材11と、樹脂基材11上にインジウムからなる光輝性でかつ不連続構造の金属皮膜12とを含む樹脂製品であって、金属皮膜12の下にのみ、物理的蒸着法により形成された、酸窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウム又は酸化クロムからなる金属皮膜12の耐食性を向上させる下耐食保護膜13を有することを特徴とする。 - 特許庁
In the thin film deposition by the sputtering method using the ceramic target, the temperature T of cooling water for circulating near the target to suppress temperature rise due to the heat generation of the target is set to 300 K≤T≤360 K and ≥4 W/cm^2 sputtering power is applied in this condition.例文帳に追加
セラミックターゲットを用いてスパッタリング法により薄膜を成膜するにあたり、上記ターゲットの発熱による温度上昇を抑えるために上記ターゲットの近傍に循環させる冷却水の温度Tを300K≦T≦360Kに設定し、この状態で上記ターゲットの面積当り4W/cm^2 以上のスパッタリング電力を印加することを特徴とする薄膜の成膜方法。 - 特許庁
The metal mask for crystal electrode deposition comprising a lower frame tool having an opening part in which a magnet is buried, a lower electrode metal mask having an electrode pattern opening part, an intermediate plate having an opening part in which the crystal plate is charged, and an upper metal mask having an electrode pattern opening part is constituted by burying many shape memory alloys in the intermediate plate.例文帳に追加
マグネットを埋設した開口部を有する下枠治具と、電極パターン開口部を有する下電極メタルマスクと、水晶板を充填する開口部を有する中板と、電極パターン開口部を有する上電極メタルマスクと、を備えた水晶電極成膜用メタルマスクにおいて、前記中板に多数の形状記憶合金を埋設して水晶電極成膜用メタルマスクを構成する。 - 特許庁
In this radiographic image conversion panel having a stimulable phosphor layer containing a columnar crystal of stimulable phosphor formed by a vapor deposition method on a support body, a surface reflectance of the support body is from 50 to 100% at 440 nm of wavelength, and surface waviness of the support body (WCA) is from 0.1 to 1.0.例文帳に追加
支持体上に気相堆積法により形成された柱状結晶の輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、該支持体の波長440nmの表面反射率が50%〜100%であり、かつ、該支持体の表面うねり(WCA)が0.1〜1.0であることを特徴とする放射線像変換パネル。 - 特許庁
To provide a contact probe pin that forms a carbon coating having electric conductivity and durability on a substrate whose tip is divided and that is capable of reducing Sn deposition as much as possible even under conditions where temperature is high in usage environment and keeping electric contact stable over a long period of time, and a useful inspection method with the contact probe pin.例文帳に追加
導電性と耐久性を兼ね備えた炭素皮膜を、先端が分割された基材に対して形成するようなコンタクトプローブピンにおいて、使用環境が高温になる様な状況下においても、Sn付着を極力低減し、長期間に亘って安定な電気的接触を保つことのできるコンタクトプローブピン、およびコンタクトプローブピンを用いた有用な検査方法を提供する。 - 特許庁
The photocatalyst composite material having high photocatalytic activity, whose each glass fiber has the surface covered with a titanium oxide continuous film having neither exfoliation nor crack, is obtained by covering the glass fiber with a titanium oxide thin film by a deposition method comprising contacting a mixture gas containing distilled and purified titanium tetrachloride with an aggregate of glass fiber (e.g., glass cloth) and baking.例文帳に追加
蒸留精製した四塩化チタンを含む混合ガスを、ガラス繊維の集合体(例、ガラスクロス)と接触させた後、焼成することからなる、蒸着法によってガラス繊維を酸化チタン薄膜で被覆すると、個々のガラス繊維の表面が剥離やクラックや脱落等のない酸化チタンの連続膜で被覆された、高い光触媒活性を有する光触媒複合材が得られる。 - 特許庁
A deposition film forming device is equipped with the discharge vessel that forms a discharge space inside a vacuum vessel, an electrode that is arranged separating from the substrate by a prescribed distance inside the discharge vessel, a first cooling means located between the discharge vessel and the rear of the electrode, and a first heating means located between the discharge vessel and the vacuum vessel.例文帳に追加
空容器内に放電空間を形成する放電容器と、前記放電容器内に基板と所定の距離を置いて配置された電極とを有し、前記放電容器と前記電極裏面との間に第一の冷却手段を有し、前記放電容器と前記真空容器との間に第一の加熱手段を有することを特徴とする堆積膜形成装置。 - 特許庁
The manufacturing method of an organic EL element having a pair of electrodes and a light-emitting layer arranged between the electrodes, and an intermediate layer includes a process in which the intermediate layer is formed by vapor-depositing metal or a metal compound, under the condition of a vapor-depositing rate of 0.006 nm/sec by an electron beam vapor-deposition method.例文帳に追加
一対の電極と、該電極間に設けられる発光層および中間層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、電子ビーム蒸着法によって蒸着レート0.006nm/秒以下の条件で金属又は金属化合物を成膜することにより、前記中間層を形成する工程を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 特許庁
In a discharge state of an active material layer 4 made of columnar particles 6 manufactured by vapor deposition and carried on convex parts of a collector 5 having a rugged pattern on the surface, stress due to expansion is alleviated to restrain deformation of an anode by keeping within a constant value range a ratio of an area of the gaps to that of a whole face parallel to a collector face.例文帳に追加
蒸着法により製造され、表面に凹凸のパターンを有する集電体5の凸部上に担持された柱状粒子6から成る活物質層4の放電状態において、集電体面に平行な面での面全体の面積に対する空隙の占める面積の比率を一定値の範囲内とすることで、膨張による応力を緩和して負極の変形を抑制する。 - 特許庁
To provide a vacuum dry pump with improved service life by preventing the deposition of the products at a place easiest to deposit the product in a vacuum dry pump, improved reliability of operation by protecting an exhaust gas treating device, and capable of reducing the equipment cost and the operation cost by reducing the down time of a vacuum exhaust system, and to provide a trapping method thereof.例文帳に追加
真空ドライポンプの中の最も生成物が析出し易い場所での生成物の析出を防止して、真空ドライポンプの長寿命化、排ガス処理装置の保護により運転の信頼性の向上を図り、さらに真空排気システムのダウンタイムを削減して設備や運転コストの低減を図ることができる真空ドライポンプ及びトラップ方法を提供する。 - 特許庁
The film deposition device 100 includes a chamber 103, a susceptor 102 supporting a silicon wafer 101 disposed in the chamber 103, a rotating section 104 which rotates the susceptor 102 and an upper part of which is covered with the susceptor 102 to form a P_2 region, a heater 120 heating the silicon wafer 101 via the susceptor 102, and a gas exhaust portion 125 exhausting gas in the chamber 103.例文帳に追加
成膜装置100は、チャンバ103と、チャンバ103内に載置されるシリコンウェハ101を支持するサセプタ102と、サセプタ102を回転させるとともに、サセプタ102により上部が覆われてP_2領域を形成する回転部104と、サセプタ102を介してシリコンウェハ101を加熱するヒータ120と、チャンバ103内のガスを排気するガス排気部125とを備える。 - 特許庁
The chemical vapor deposition equipment has a plurality of susceptors 7 arranged on one periphery, a plurality of gas passages for supplying reactant gas toward the susceptor 7, and a heating means for heating the susceptor 7, wherein the heating means is composed of a circular optical source 30, and a circular reflectors 32a and 33a for collecting the light, which the optical source 30 emits, to the susceptor.例文帳に追加
1つの円周上に配置された複数のサセプタ7と、サセプタ7に向けて反応ガスを供給するための複数のガス通路と、サセプタ7を加熱するための加熱手段とを有する化学気相成長装置において、加熱手段を、円環状の光源30と、光源30が発する光をサセプタに集光するための円環状の反射鏡32a、33aとから構成する。 - 特許庁
The harbor of Hakodate Port, which had been shallow since long before, had deposition of sediments so that it became impossible for large vessels to reach the shore; in 1892, in response to the submission of "Proposal for dredging and repairs of Hakodate Harbor and construction of a dock," a request for repairs of Hakodate Harbor, Kitagaki directed dredging work of the harbor and construction of sand control dyke, breakwater and lighthouse as well as improvement works including construction of a wharf by reclaiming land from the sea. 例文帳に追加
1892年(明治25年)、もともと港湾部が浅かった上に土砂の堆積が重なって大型船の接岸が不可能になっていた函館港の改修についての要望書『函館港湾浚渫修築并ニ船渠設置意見上申書』の提出を受け、港内の浚渫や砂防堤・防波堤・灯台の設置、埋立てによる埠頭の建設などの改良工事を指示した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Sozen, who was a relative of Yoshikado, supported Yoshikado in alliance with Yoshinao ISSHIKI and Shigeyori TOKI among others and as Sadachika circulated a rumor of planned rebellion in an attempt to expel Yoshimi; in response, Katsumoto who was the guardian of Yoshimi cooperated with Sozen to expel Sadachika to Omi, and Shinzui KIKEI, Yoshitoshi SHIBA and Masanori AKAMATSU among others, involved in the coup, were also expelled from the capital in a temporary deposition. 例文帳に追加
義廉と縁戚関係にあった宗全は、一色義直や土岐成頼らとともに義廉を支持し、さらに貞親が謀反の噂を流して義視の追放を図ったことから、義視の後見人である勝元は宗全と協力して貞親を近江に追放、このとき、政変に巻き込まれた季瓊真蘂、斯波義敏、赤松政則らも一時失脚して都を追われた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
The MoSiON film 12 having a prescribed transmissivity is obtained by polishing and cleaning SiO2 (synthetic quartz glass) to become the substrate, forming the MoSiON film 12 of an oxide film thereon by vacuum deposition or sputtering, forming a W thin film on the formed MoSiON film and heat treating to allow the W thin film to cause the sucking action.例文帳に追加
基板になるSiO_2(合成石英ガラス)11を研磨・洗浄し、その上に真空蒸着やスパッタリング法で酸化膜であるMoSiON膜12の被膜形成を行い、その形成されたMoSiON膜12の上にW薄膜13を形成し、熱処理を施すことによりW薄膜13に吸出し作用を起こさせて所望の透過率を有するMoSiON膜12を得る。 - 特許庁
To provide a simple and improved process of efficiently preparing polysilicon and in detail, a process of supplying heat directly to a reactor by producing the heat just on the surface of silicon present in a reaction zone or in a reactor in the vicinity of the reaction zone where deposition occurs.例文帳に追加
従来の加熱方法の限界を克服することによって、ポリシリコンを効率的に調製する単純で改良された方法を提供することであり、より詳細には、反応領域にあるシリコンのまさに表面で、または析出が生じる反応領域の近傍の反応器内で熱を発生させることによって反応器に直接熱を供給する方法を提供すること。 - 特許庁
In this core glass useful for producing a preform for an optical fiber, especially an optical fiber for UV wire transmission, obtained by flame hydrolysis of silicon compound, deposition of fine particulate SiO2 on a substrate and formation of synthetic quartz glass by direct vitrification, the hydrogen content of the quartz glass is smaller than 1×1018 molecules/cm3.例文帳に追加
光ファイバー、特にUV線伝送用の光ファイバー用のプレフォームを作るためのコアガラスであって、ケイ素化合物の火炎加水分解、直接ガラス化による基材上への微粒子状SiO_2の堆積及び合成石英ガラスの形成により得られる前記コアガラスにおいて、前記石英ガラスの水素含量が1×10^18分子/cm^3より低いことを特徴とする前記コアガラス。 - 特許庁
The separator for a battery has a first face and a second face opposite to the first face, and comprises a porous substrate 130 containing pores running from the first face to the second face, and a heat-resistant layer 131 composed of an inorganic material, covering at least the first face and the surfaces surrounding the pores, and deposited by atomic layer deposition.例文帳に追加
上記電池用セパレータは、第1の面と、上記第1の面と対向する第2の面とを有し、上記第1の面と上記第2の面との間を連通させる空孔が内部に形成された多孔性の基材130と、少なくとも上記第1の面と上記空孔の表面とを被覆する、原子層堆積法によって成膜された、無機材料からなる耐熱層131とを具備する。 - 特許庁
The manufacturing method of a capacitor comprises a step for forming a lower electrode 35 of a capacitor on a semiconductor substrate 31 by using an electrochemical deposition method, a step for carrying out wet cleaning for removing impurities on a surface of the lower electrode, a step for forming a dielectric layer 40 on the lower electrode, and a step for forming an upper electrode 41 on the dielectric layer.例文帳に追加
キャパシタの製造方法は、半導体基板31上に電気化学蒸着法を用いてキャパシタの下部電極35を形成するステップと、前記下部電極の表面の不純物を除去するため湿式洗浄するステップと、前記下部電極上に誘電体層40を形成するステップと、前記誘電体層上に上部電極41を形成するステップとを含む。 - 特許庁
In the process for producing a thin film, a substrate 10 is irradiated with an ion beam while depositing a thin film on the substrate by electron beam deposition, and the crystal c-axis of the thin film formed on the substrate 10 is oriented in the in-plane direction of the substrate by setting a substantially right angle between the substrate 10 and the irradiation direction of the ion beam.例文帳に追加
本発明に係る薄膜製造方法は、電子ビーム蒸着法によって基板に薄膜を堆積させつつ基板10に対してイオンビームを照射するとともに、基板10とイオンビームの照射方向とのなす角度を略垂直とすることで、基板10上に形成される薄膜の結晶c軸を基板面内方向で一方向に配向させる。 - 特許庁
To provide an electrode in which it is not necessary to accompany steam in using fuel containing hydrocarbon, and deterioration of a fuel electrode due to oxidation by carbon deposition and/or accompanying steam can be prevented and durability can be improved, and furthermore, both fuel efficiency in using hydrogen and/or hydrocarbon and an output improvement can be obtained.例文帳に追加
炭化水素を含む燃料を用いたときに水蒸気を同伴させる必要がなく、炭素析出および/または同伴する水蒸気による酸化による燃料極の劣化を抑制し耐久性を向上するとともに、水素および/または炭化水素燃料を用いたときの燃料利用率と出力の向上を両立させる燃料極を提供すること。 - 特許庁
The method for identification of the β-amyloid peptide (βAP) production inhibitor comprises; administration of a test compound to a mammal host excluding human in which the mammal host is a transgenic host with consolidated susceptibility to deposition of βAP plaques; determines whether or not the test compound influences the amount of the soluble βAP peptide present in the humor.例文帳に追加
β- アミロイド( βAP) 生産阻害剤の同定方法であって:テスト化合物をヒト以外の哺乳類宿主に投与し、ここで前記哺乳類宿主は、βAP斑の沈着に対する強化された感受性をもつトランスジェニック宿主であり; そしてそのテスト化合物が体液中に存在する可溶性βAPペプチドの量に影響を及ぼすか否かを決定する、ことを含んで成る方法。 - 特許庁
This solid electrolytic capacitor uses an etched aluminum foil which is chemically converted with 0.005-3% ammonium dihydrogen-phosphate solution under a voltage of ≤10 V and partially carries a TiN film formed by a cathode arc plasma vapor deposition method on its surface as the positive foil and another etched aluminum foil coated with a dielectric coating film formed through chemical conversion as the negative foil.例文帳に追加
陰極箔として、エッチングしたアルミニウム箔を、10V以下で、0.005〜3%のリン酸二水素アンモニウムの水溶液で化成し、さらにその表面の一部にTiN膜を陰極アークプラズマ蒸着法により形成したものを用い、陽極箔としては、エッチングしたアルミニウム箔の表面に化成処理を施して誘電体皮膜を形成したものを用いる。 - 特許庁
The MR element 16 is mounted on a substrate 22 so that two base materials 20, 21 on which the same resistance patterns R1, R2 exhibiting a magnetic resistance effect by ae vapor deposition thin film of ferromagnetic material metal are placed side by side along the moving direction of a magnet M where the resistance patterns R1, R2 move integrally with a piston 13.例文帳に追加
MR素子16は、強磁性体金属の蒸着薄膜によって磁気抵抗効果を奏する同じ抵抗パターンR1,R2が形成された2つの基材20,21が、抵抗パターンR1,R2がピストン13と一体移動する磁石Mの移動方向に沿って並ぶように基板22上に実装されるとともに、2つの抵抗パターンR1,R2が電気的に直列に接続されている。 - 特許庁
In the internal space 1610 of the treatment chamber 161, the treatment steam is condensed on the electrode of the quartz vibrator 9 precooled to a temperature lower than the saturation temperature of the treatment steam by an electrode cooling part 165 and the condensed treatment steam is adhered to the surface of the electrode to perform the film deposition treatment of an organic film to the electrode by the treatment steam.例文帳に追加
処理チャンバ161の内部空間1610では、電極冷却部165により処理蒸気の飽和温度よりも低い温度まで予め冷却されている水晶振動子9の電極上にて処理蒸気が凝縮し、凝縮した処理蒸気が電極の表面に付着することにより、処理蒸気による電極に対する有機膜の成膜処理が行われる。 - 特許庁
To solve such problems that when silicon is used as a negative active material for a lithium secondary battery, an electrode having an active material layer 1 comprising spaces and columnar particles 6 can be formed on a current collector 5 having recessed and projecting parts on the surface by vapor deposition from the diagonal direction, but since spaces in the surface part are reduced, diffusion of lithium ions through an electrolyte is made insufficient.例文帳に追加
リチウム二次電池用負極活物質としてケイ素を用いる際に、表面に凹凸を有する集電体上5に斜め方向からの蒸着により空間と柱状粒子6から成る活物質層1を有する電極を形成することができるが、表面部分での空間が小さくなるため、電解液を介してのリチウムイオンの拡散が不十分となる。 - 特許庁
To effectively eliminates an unwanted waves generated due to chipping formed at a cut part of a piezoelectric raw plate peripheral edge in cutting division into pieces, using a dicing saw right after an electrode forming process by vapor-deposition when a piezoelectric vibrating element, formed by forming exciting electrodes on the main surfaces of a piezoelectric raw plate is mass-produced by batch processing from a large-area piezoelectric base material.例文帳に追加
圧電素板の主面上に励振電極を形成して成る圧電振動素子を大面積の圧電母材からバッチ処理により量産する場合に、蒸着による電極形成工程に続いて行われるダイシングソーを用いた個片への切断分割において、圧電素板周縁の切断部に形成されるチッピングに起因して発生する不要波を有効に解消することができる。 - 特許庁
This invention relates to a method for producing a titanium-containing perovskite-type compound, which contains a process to react titanium oxide prepared by a vapor phase deposition with at least one kind selected from the group consisting of alkaline-earth metal compounds and Pb compounds in an alkaline solution, the perovskite-type compound obtained by the method, and electronic materials, and the like, using the compound.例文帳に追加
アルカリ性溶液中で、気相法で製造された酸化チタンをアルカリ土類金属化合物及びPb化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種と反応させる工程を有することを特徴とするチタン含有ペロブスカイト型化合物の製造方法、その方法により得られるペロブスカイト型化合物及びその化合物を用いた電子材料等に関する。 - 特許庁
This method for manufacturing the thin film transistor includes the steps of: forming the silicon layer 4 on a substrate 2; forming a silicon oxide film 5a on the silicon layer 4 by a chemical vapor deposition method using a tetraethoxysilane as a raw material gas; forming a silicon nitride film 5b at an upper layer of the silicon oxide film 5a; and executing an annealing treatment.例文帳に追加
本実施形態に係る薄膜トランジスタの製造方法は、基板2上にシリコン層4を形成する工程と、シリコン層4上にテトラエトキシシランを原料ガスとして用いた化学気相堆積法により酸化シリコン膜5aを形成する工程と、酸化シリコン膜5aの上層に窒化シリコン膜5bを形成する工程と、アニール処理を行なう工程と、を有する。 - 特許庁
A process for the reductive deposition of a reducible compound as such or as a constituent part of a mix or solution with a reducing metal wherein the reducible compound is continuously being reductively fixed on a continuously mechanically in situ regenerated clean surface of a finely dispersed reducing metal at ambient temperatures is disclosed.例文帳に追加
微細に分散された還元性金属の連続的に機械的にin situで再生される新しい金属表面上に、還元可能な化合物が連続的に還元的に周囲温度で固定される、還元可能な化合物を、それ自体として或いは混合物又は溶液の構成部分として、還元性金属で還元的に析出するための方法が開示される。 - 特許庁
本サービスで使用している「Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス」はWikipediaの日本語文を独立行政法人情報通信研究機構が英訳したものを、Creative Comons Attribution-Share-Alike License 3.0による利用許諾のもと使用しております。詳細はhttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/ および http://alaginrc.nict.go.jp/WikiCorpus/ をご覧下さい。 |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|