「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(332ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an exhaust emission control device of an internal combustion engine can reduce emission of NOx, by introducing EGR just after starting an engine regardless of an operation state, by realizing rich operation for reducing the NOx included in exhaust gas from the engine, by introducing the EGR by reducing the attachment and deposition of a deposit in an EGR passage.例文帳に追加

ＥＧＲ通路内におけるデポジットの付着、堆積を軽減してＥＧＲ導入を行い、エンジンからの排気に含まれるＮＯｘを低減したリッチ運転を実現するとともに、運転状態によらずエンジン始動直後からでもＥＧＲを導入でき、ＮＯｘの排出を低減できる内燃機関の排気浄化装置を提供する。 - 特許庁

In vacuum arc deposition treatment where a plasma beam 70 of a cathode substance is introduced into a film depositing substrate 31 to deposit a film, based on a control signal 101 from an outside control system 100, a magnetic field is applied to scan the plasma beam 70, and the loci of of the beam drawn inside the substrate face of the film depositing substrate 31 are made rotatively symmetrical.例文帳に追加

陰極物質のプラズマビーム７０を成膜基板３１まで導いて膜を形成する真空アーク蒸着処理において、外部の制御装置１００からの制御信号１０１に基づいて、磁場を印加してプラズマビーム７０を走査し、成膜基板３１の基板面内に描くビームの軌跡が回転対称となるようにした。 - 特許庁

To provide a sintered compact used for a target on which a PZT thin film is deposited by suppressing the local variation of Pb concentration to eliminate the variation of the characteristics of the thin film itself and which is prevented from the breaking even under high voltage and is suitable for high speed film deposition, and a manufacturing method of the sintered compact and the sputtering target using the sintered compact.例文帳に追加

Ｐｂ濃度の局所的なばらつきを抑えることで薄膜自体の特性ばらつきを解消することができるＰＺＴ薄膜を形成でき、かつ高電力をかけても割れが発生せず高速成膜に好適なターゲットに用いる焼結体、その製造方法及びそれを用いたスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

The vapor deposition angle is controlled and the uniform alignment layer can be obtained by providing a slit between a substrate and a vaporization source and applying an electric field to the slit, in alignment control of a liquid crystal display panel wherein an inorganic compound is vapor- deposited from a direction oblique to the substrate, with respect to the manufacturing method and the manufacturing equipment for the liquid crystal device.例文帳に追加

液晶装置の製造方法及び製造装置に関して、基板に対して斜め方向から無機化合物を蒸着して行う、液晶表示パネルの配向制御において、基板と蒸発源との間にスリットを設け、前記スリットに電界をかけることで蒸着角を制御し均一な配向膜を得ることができる。 - 特許庁

The method has wettability improving treatment ST 5 and ST 7 which improve the wettability of a patterned substrate 1 to be treated with respect to the liquid materials 11, 12 and 13 by bringing the substrate 1 into contact with water 4 prepared by dissolving gaseous ozone into pure water when coating the liquid materials and film deposition treatment ST 6 and ST 8 which deposit the film of the liquid materials after the wettability improving treatment.例文帳に追加

液体材料１１，１２，１３を塗布する際に、パターニングされた被処理基板１を純水にオゾンガスを溶解させた水４に接触させて、基板１の液体材料に対する濡れ性を向上させる濡れ性向上処理ＳＴ５，ＳＴ７と、濡れ性向上処理後に液体材料を成膜する成膜処理ＳＴ６，ＳＴ８とを有する。 - 特許庁

To provide a gas seal between a pre-treatment chamber and a surface treatment chamber with a simple structure which can ensure the sufficient performance even when a sheet-like material is wide in a surface treatment device for performing the surface treatment by plasma, sputtering, CVD, vapor deposition, or the like, while allowing the sheet-like material to continuously travel in a vacuum chamber.例文帳に追加

真空室内においてシート状材料を連続走行させつつ、プラズマやスパッタ、ＣＶＤ、蒸着等によって表面処理を行なう表面処理装置において、前処理室と表面処理室との間のガスシールとして、簡易な構造でありながら、シート状材料が広幅になった場合でも十分な性能が得られるものを提供する。 - 特許庁

The organic electroluminescence element and its manufacturing method are such that by thin forming an inorganic pixel defining film layer having an opening exposing at least a part of the upper part of a first electrode by a vapor deposition method, breakage of the formed organic film layer pattern caused by the step between the first electrode and the inorganic pixel defining film can be prevented.例文帳に追加

前記有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法は、第１の電極の上部の少なくとも一部を露出させる開口部を具備する無機画素定義膜を蒸着法を用いて薄く形成することにより、形成される有機膜層パターンが第１の電極と無機画素定義膜との段差によって切れることを防ぐといった効果がある。 - 特許庁

The method of manufacturing the coated substrate is also disclosed in which a coating layer containing titanium oxycarbonitride or titanium aluminum oxycarbonitride are deposited by MT-CVD (Medium Temperature - Chemical Vapor Deposition) on a substrate in the temperature range of about 750 to about 950°C using a mixture of gases wherein a ratio of the hydrogen gas to the nitrogen gas is greater than 5.例文帳に追加

上記コーティング付き基材を作製する方法も開示され、その方法では、チタンオキシカーボナイトライドまたはチタンアルミニウムオキシカーボナイトライドを含むコーティング層は、ガスの混合物を使用して、約７５０℃〜約９５０℃で基材に中温化学蒸着（ＭＴ−ＣＶＤ）により堆積され、水素ガスの窒素ガスに対する比率は５を超える。 - 特許庁

To sustain separation efficiency of a high level for a long period while minimizing the deterioration of separation membranes by preventing the precipitation and deposition of scale (including carbonate) on the separation membrane surfaces of a second stage reverse osmosis membrane apparatus in particular in subjecting seawater to desalting treatment at a high recovery rate by using the reverse osmosis membrane apparatus connected in two stages.例文帳に追加

２段に接続した逆浸透膜装置を用いて海水を高回収率で淡水化処理する際に、特に第２段目逆浸透膜装置の分離膜面へのスケール（炭酸塩を含む）の析出・堆積を防止し、分離膜の劣化を最小限に抑制しつつ、長期間に亘って高レベルの分離効率を持続可能にすること。 - 特許庁

The electroless deposition station includes an environmentally controlled processing enclosure, a first processing station configured to clean and activate the surface of the substrate, a second processing station configured to electrolessly deposit a layer onto the surface of the substrate, and a substrate shuttle positioned to transfer the substrate between the first and second processing stations.例文帳に追加

無電界堆積ステーションは、環境的に制御される処理エンクロージャーと、基板の面を洗浄し活性化するように構成された第１処理ステーションと、基板の面に層を無電界堆積するように構成された第２処理ステーションと、第１及び第２の処理ステーション間で基板を移送するように位置された基板シャトルとを備えている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a polymer film for solid electro lyte obtained by immersing the polymer film for the solid electrolyte in electro lyte liquid, which hardly generates distortion or wrinkle on a solid electrolyte film when immersed, and to provide a cell restrained from the deposition of electrolyte component by using such a solid electrolyte film as an electrolyte of the cell.例文帳に追加

電解液に固体電解質用ポリマーフィルムを浸漬して得られる固体電解質フィルムにおいて、浸漬時に歪みや皺を生じ難い固体電解質用ポリマーフィルムの製造方法を提示し、このような固体電解質フィルムを電池の電解質として用いることで、電解質成分の析出が抑制された電池を提供すること。 - 特許庁

The vapor deposition material for heating system including the silicon and silicon oxide has an atomicity ratio of oxygen to silicon (O/Si) of 1.2-1.8, and bulk density of 0.8-1.8 g/cm^3, and the silicon oxide is silicon dioxide including at least 20% or more crystal structures.例文帳に追加

珪素と珪素酸化物とを混合させた加熱方式の蒸着用材料であって、珪素と酸素の原子数の比（Ｏ／Ｓｉ）が１．２〜１．８であり、嵩密度が０．８〜１．８ｇ／ｃｍ３の範囲であり、かつ、前記珪素酸化物が結晶構造を少なくとも２０％以上含んでいる二酸化珪素であることを特徴とする蒸着用材料。 - 特許庁

To obtain an aqueous gas treatment catalyst, which is a catalytic component-bearing metal oxide catalyst, having a further improved treatment efficiency to a waste gas containing CO at a low concentration, particularly achieving a high treatment efficiency without increasing the deposition amount of the catalytic component and keeping the high treatment efficiency stably for a long period, and to provide a waste gas treatment method.例文帳に追加

触媒成分担持金属酸化物触媒の低濃度ＣＯ含有排ガスに対する処理効率を一層向上させ、特に、触媒成分の担持量を増やすことなく、高い処理効率を達成し、かつ、長期にわたり安定して高い処理効率を維持することができる排ガス処理用触媒および排ガス処理方法を提供する。 - 特許庁

The film structure of the zinc oxide film can be controlled by controlling the orientation property and the deposition state of the zinc oxide film by a method comprising controlling the concentrations of zinc ions and nitric acid ions or a method comprising controlling the liquid temperature, in a composition for forming the zinc oxide film, containing zinc ions, nitric acid ions, and an amine-borane compound.例文帳に追加

亜鉛イオン、硝酸イオン及びアミンボラン化合物を含む酸化亜鉛膜形成用組成物において、亜鉛イオン及び硝酸イオンの濃度を調整する方法、又は液温を調整する方法によって、酸化亜鉛膜の配向性及び析出状態を制御して酸化亜鉛膜の皮膜構造の制御することができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the optical film having a birefringent layer comprises coating a base material with a deposition material to form a coating film, stretching the coating film by applying tension to the base material while maintaining the base material at a glass transition temperature ±20°C, and stretching the coating film through the stretching of the base material, thereby forming the biaxially orientable birefringent layer.例文帳に追加

複屈折層を備えてなる光学フィルムの製造方法であって、基材に成膜材料を塗工して塗膜を形成し、該基材のガラス転移温度±２０℃の温度に保ちつつ該基材に張力をかけて延伸し、該基材の延伸を介して前記塗膜をも延伸させて二軸配向性の複屈折層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method capable of forming a thin film consisting of a compound of a plurality of materials greatly varying in melting points and consequently greatly varying in vapor pressures by a vacuum vapor deposition method and of obtaining a compound thin film having sufficient characteristics by performing a heat treatment within the same vacuum condition and to provide a method for forming an MbB_2 superconducting thin film by using the above method.例文帳に追加

融点が大きく異なる、従って、蒸気圧が大きく異なる複数の物質の化合物からなる薄膜を、真空蒸着法で形成でき、かつ、同一真空内で熱処理して十分な特性の化合物薄膜を得ることができる方法を提供し、また、この方法を用いたＭｇＢ_２ 超伝導薄膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the KNbO_3 single crystal thin film comprises a coating process for coating an SrTiO_3 single crystal substrate 11 with liquid drops of an aqueous solution containing KNbO_3 by a liquid drop discharge method and a deposition process for depositing the potassium niobate single crystal layer 12 from the applied liquid drops by epitaxial growth.例文帳に追加

ＫＮｂＯ_３単結晶薄膜の製造方法は、液滴吐出法によってＫＮｂＯ_３を含む水溶液の液滴をＳｒＴｉＯ_３単結晶基板１１上に塗布する塗布工程と、塗布された液滴からニオブ酸カリウム単結晶層１２をエピタキシャル成長によって析出する析出工程とを備えているものとした。 - 特許庁

A silica porous body obtained by depositing silica microparticles by the vapor phase axial deposition (VAD) method is impregnated with a solution containing a dopant consisting of at least one kind selected from metals and metal oxides, freeze-dried under vacuum, and then vitrified by heating and fusing to obtain a doped silica glass in which the dopant is contained with a uniform concentration distribution.例文帳に追加

ＶＡＤ法によりシリカ微粒子を堆積させて得たシリカ多孔質体に、金属および金属酸化物から選ばれた少なくとも１種からなるドーパントを含有する溶液を含浸させ、真空凍結乾燥後、加熱溶融してガラス化させることにより、シリカガラス中にドーパントが均一な濃度分布で含まれたドープシリカガラスを得る。 - 特許庁

This article processed with dyeing and sericin/fibroin deposition simultaneously is obtained by treating an article consisting mainly of cellulose in contact with an aqueous solution containing silk sericin or silk fibroin which are byproducts of sericulture or silk manufactories, or both of them and the reactive dyestuff to deposit the silk sericin, silk fibroin or both of them on the fibrous article consisting mainly of cellulose and protein.例文帳に追加

セルロースを主成分とする物品を養蚕業あるいは製糸工場での副産物である絹セリシンまたは絹フィブロインもしくはその両者および反応染料を含む水溶液で接触処理してセルロースおよびタンパク質を主成分とする繊維物品の表面に絹セリシンまたは絹フィブロインもしくはその両者を付着させる。 - 特許庁

To provide a contact lens case holder which facilitates drying of the case body and the cap body of a contact lens without fear of deposition of miscellaneous germs, which can be set while being freely attachably/detachably attached to the neck of a cleaning liquid bottle as a lens case holder, and which is thereby easy to install, convenient to use, and excellent in drying efficiency by sufficient ventilation.例文帳に追加

コンタクトレンズのケース本体とキャップ体を、雑菌の付着のおそれなく、容易に乾燥させることができるものであり、レンズケースホルダーとして、洗浄液ボトルの首部に着脱自在に挟着して設置できるので、設置が楽に行え、使い勝手がよく、また、十分な通気により乾燥効率もよいコンタクトレンズケースホルダーを提供する。 - 特許庁

An anodized aluminum film 11 formed by anodized aluminum film treatment, a gradient layer 12 formed with a specific element in a gradient form by plasma ion implantation treatment on a surface layer side of the anodized aluminum film 11, and a DLC layer 13 formed by plasma ion deposition treatment on the surface layer side of the gradient layer 12 are formed on the surface of the main body 10 of the parts made of an aluminum alloy.例文帳に追加

アルミニウム合金製の部品本体１０表面には、アルマイト処理により形成されたアルマイト１１と、アルマイト１１の表層側にプラズマイオン注入処理により特定の元素が傾斜状に形成された傾斜層１２と、傾斜層１２の表層側にプラズマイオン成膜処理により形成されたＤＬＣ層１３とが形成されている。 - 特許庁

When a wafer 9 is accommodated in a chamber 2, and an aluminum film which forms a wire having line width of at most 10 μm is formed on the wafer 9 by using electron beam thermal vapor deposition at a degree of vacuum not lower than 10^-5 Pa, the aluminum film is formed in a state that a vanadium film as a residual gas component eliminating material exists in the chamber 2.例文帳に追加

チャンバ２内にウエハ９を収納し、１０^−５Ｐａ未満の真空度での電子ビーム加熱蒸着によりウエハ９に１０μｍ以下の線幅を有する配線を形成するアルミニウム膜を形成するに際し、チャンバ２内に残留ガス成分除去材料であるバナジウム膜を存在させた状態でアルミニウム膜を形成する。 - 特許庁

The matte acrylic resin film for vapor deposition of a metal comprises a (meth)acrylic resin composition with an acid value of 0.2-1.5 mmol/g, wherein the (meth)acrylic resin composition contains 20 pts.wt. or less of acrylic crosslinking particles with an average particle diameter of 2-10 μm based on 100 pts.wt. of a resin component.例文帳に追加

酸価が０．２〜１．５ｍｍｏｌ／ｇの（メタ）アクリル系樹脂組成物からなる金属蒸着用艶消しアクリル系樹脂フィルムであって、（メタ）アクリル系樹脂組成物が、平均粒子径２〜１０μｍのアクリル系架橋粒子を樹脂成分１００重量部に対して２０重量部以下含有する、金属蒸着用艶消しアクリル系樹脂フィルムである。 - 特許庁

Air bubbling devices 38 and 39 which prevent the deposition of ash C are provided in the ash flowing-down inclined section 24 and bottom section 23 of the ash storing water tank 27 and, in addition, a partition wall 40 which prevents the air blown out of the devices 38 and 39 from flowing in a furnace is provided above the inclined section 24 of the water tank 27.例文帳に追加

灰貯留水槽２７の灰流下傾斜部２４と底部２３に、灰Ｃの堆積を防止するエアバブリング装置３８，３９を配設し、且つ該エアバブリング装置３８，３９から吹き出されるエアが火炉内へ流入することを防止するための仕切壁４０を灰貯留水槽２７の灰流下傾斜部２４上方に設ける。 - 特許庁

The sensor is comprised of a membrane capacitor of a structure in which a membrane 12 of a ferroelectric BaTiO3 of a thickness of 30 ML (approximately 120 Å) grown through the use of an MBE method is provided on a lower electrode 10 comprised of an SrTiO3 substrate doped with Nb of a thickness of 0.5 mm and in which a Pd upper electrode 14 is provided by deposition on the membrane 12.例文帳に追加

センサーは、０．５ｍｍ厚のＮｂをドープされたＳｒＴｉＯ_3基板から成る下側電極１０の上にＭＢＥ法を用いて成長させた３０ＭＬ（ほぼ１２０Å）厚の強誘電体ＢａＴｉＯ_3薄膜１２を設け、その上に析出によりＰｄの上側電極１４を設けた構造の薄膜キャパシタから成る。 - 特許庁

The thin film consists of crystal groups of a material which is characterized in that internal stress of film changes from tensile stress into compressive stress or from compressive stress into tensile stress with respect to the increase of film thickness, and the internal stress is made to ≤100 MPa by the balance between the tensile stress and the compressive stress in the film deposition of prescribed film thickness under prescribed conditions.例文帳に追加

膜厚の増加に対して、膜の内部応力が引張応力から圧縮応力、または圧縮応力から引張応力に変化する性質を持つ材料の結晶群からなり、所定の条件で所定の膜厚の成膜における引張応力と圧縮応力の釣り合いにより、内部応力が１００ＭＰａ以下である薄膜とする。 - 特許庁

To provide a holding tray for a substrate with which at least a part or more of a substrate holding means is contained so that the substrate is fixedly supported on the flat-plate surface of the vertical substrate holding tray for vacuum process, and the high accurate alignment can be obtained by holding and supporting the substrate arranged at the vertical-state and the stable vapor-deposition process is performed.例文帳に追加

真空工程用鉛直基板固定トレイの平板面上に前記基板が固定支持されるように少なくとも一部分以上基板固定手段を含んでなり、鉛直に配置された基板を固定及び支持して高精密の整列が可能で、かつ安定した蒸着工程がなされる基板固定トレイを提供すること。 - 特許庁

This method of manufacturing a semiconductor device contains (a) a step of preparing a semiconductor substrate having an insulating layer in which a trench for wiring is formed; and (b) a step of irradiating the semiconductor substrate with light from a lamp, and a conductive layer substantially composed of copper is formed by chemical vapor deposition on the surface of the semiconductor substrate including the inside of the trench for the wiring.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ａ）配線用凹部を備えた絶縁層を有する半導体基板を準備する工程と、（ｂ）前記半導体基板にランプ光照射を行ない、前記配線用凹部内を含む前記半導体基板表面に実質的に銅から成る導電層を化学気相堆積で成膜する工程とを含む。 - 特許庁

Molten iron for spheroidal graphite cast iron is poured into a ladle 1 under covering state of the spheroidize-treating agent (Mg alloy powder) 2 disposed at the bottom of the ladle 1 with a covering material 3 composed of SiC powder and SiC holding material (punch waste) made of Fe base material for restraining the float-up and the deposition of the SiC powder in the molten iron.例文帳に追加

取鍋１の底に配置された球状化処理剤（Ｍｇ合金粉末）２を、ＳｉＣ粉末と該ＳｉＣ粉末の溶湯中での浮上及び沈降を抑えるＦｅ系材料よりなるＳｉＣ保持材（ポンチ屑）とからなるカバー材３により被覆した状態で、取鍋１内に球状化黒鉛鋳鉄の溶湯を注入する。 - 特許庁

By irradiating an ion beam on a surface of the drawing base plate 2a before making a drawing hole, a cleaning of a surface of the drawing base plate is conducted and/or a drawing hole is formed and, then, a blasting of deposition gas and irradiation of ion beams are carried out on the surface of the drawing plate to form a conductive thin membrane on the surface of the drawing plate.例文帳に追加

また、絞り孔を形成する前に絞り基体２ａの表面にイオンビームを照射することにより絞り基体の表面を清浄化する処理及び／又は絞り孔を形成した後に絞りプレートの表面にデポジション用ガスの吹き付けとイオンビーム照射行うことによって絞りプレートの表面に導電性薄膜を形成する処理を行う。 - 特許庁

In a substrate chuck for holding a wafer 7 as a substrate and measuring the height of the wafer 7 by means of measuring system including a capacitance sensor, a conductor 2, which is formed by either vapor deposition or plating, is provided on a face opposite to the face 21 of a chuck body 1 which absorbs to hold the wafer 7, and is electrically earthed by a lead wire 4.例文帳に追加

基板としてのウエハ７を保持し静電容量センサを含む計測系で該ウエハ７の高さを計測する基板チャックであって、ウエハ７を吸着保持するウエハチャック１本体の保持面２１の反対側の面に、蒸着またはメッキのどちらかにより形成した導体２を有し、該導体２からリード線４により電気的なアース接地を施す。 - 特許庁

In the period from just before the completion of the deposition process of glass fine particles to the completion, gas jet flow containing no glass source material is blown to near the interface between the end part of the glass fine particles already deposited around the start material and the part where the glass fine particles are not yet deposited so as to interfere with the flame 4 of the glass source material.例文帳に追加

ガラス微粒子の堆積工程終了直前から終了までの間、ガラス原料を含まないガス噴流を、ガラス原料火炎４に干渉するように、すでに出発材の周囲に堆積されたガラス微粒子堆積体の端部と該出発材のまだガラス微粒子が堆積されていない部分との界面近傍に吹き付ける。 - 特許庁

The multilayered molded product comprises at least a thermoplastic polyester layer (A) obtained from a molten polyester after melt polycondensation and a thermoplastic polyester layer (B) with a cyclic trimer content of 8,000 ppm or below, wherein a vapor deposition film formed by a plasma CVD method is laminated on a content contact surface.例文帳に追加

少なくとも、溶融重縮合反応後の溶融物から得られる熱可塑性ポリエステル（Ａ）層と、環状３量体含有量が８０００ｐｐｍ以下の熱可塑性ポリエステル（Ｂ）層とを含む多層成形体であり、内容物接触面にプラズマＣＶＤ法によって形成される蒸着膜が積層されていることを特徴とする多層成形体。 - 特許庁

To provide an unsaturated polyalkylene glycol-based copolymer composition containing a small amount of impurities, giving no deposition of the impurities during preservation at a low temperature and further improved in function and preservation stability in an aqueous solution of the unsaturated polyalkylene glycol-based copolymer which is a low molecular water soluble polymer excellent in dispersibility, chelating ability and gel resistance.例文帳に追加

分散能、キレート能および耐ゲル性に優れた低分子量の水溶性重合体である不飽和ポリアルキレングリコール系共重合体水溶液において、不純物量が少なく低温保持時の不純物析出もなく、より一層の性能向上および保存安定化が図られてなる不飽和ポリアルキレングリコール系共重合体組成物を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises the steps of depositing a silicon oxide film 450 on the surface of the semiconductor substrate 100 having the convex 300 on this surface according to high density plasma chemical vapor deposition and etching the silicon oxide film according to isotropic etching so that the deposited silicon oxide film has a height less than that of the summit of the convex portion.例文帳に追加

表面に凸状部３００を有する半導体基板１００の前記表面に高密度プラズマ−化学気相成長法によりシリコン酸化膜４５０を堆積させる堆積工程と、堆積させたシリコン酸化膜の表面が前記凸状部の頂上よりも低い高さになるように等方性エッチングにより前記シリコン酸化膜をエッチングするエッチング工程とを備える。 - 特許庁

The computer section analyses the density and thickness of the thin film and surface roughness information, and feeds back the analysis result to the deposition conditions of the thin film.例文帳に追加

薄膜製造装置に、薄膜が成膜された被測定基板の表面に対しＸ線を照射する手段、被測定基板の角度走査を行なう手段、Ｘ線の反射Ｘ線の干渉と反射率パターンを検出する手段、を有する薄膜評価部と、薄膜の密度と膜厚と表面ラフネス情報を解析するとともに薄膜の成膜条件にフィードバックするコンピュータ部とを具備させる。 - 特許庁

To provide a packaging material high in stiffness strength and excellent in impact resistance by forming a sandwich structure from resin layers and to provide a gas barrier laminate excellent in transparency, not lowered in gas barrier properties even after sterilization, excellent in stiffness strength and impact resistance and having heat resistance by using a vapor deposition film having sterilization resistance.例文帳に追加

樹脂層でサンドイッチ構造を形成させることにより腰強度が高く、しかも耐衝撃性に優れた包装材料を提供し、さらに殺菌耐性がある蒸着フィルムを用いることにより透明性に優れると共に殺菌後もガスバリア性の低下がない腰強度と耐衝撃性に優れた耐熱性を有するガスバリア性積層体を提供することを課題とする。 - 特許庁

The film deposition method where a thin film of an evaporated material is deposited on the surface of a base material comprises: a step where a crystalline material is evaporated; a step where a noncrystalline material is evaporated; and a step where the mass ratio between the mass of the crystalline material to be evaporated and the mass of the noncrystalline material to be evaporated is regulated.例文帳に追加

この成膜方法は、蒸発させた材料の薄膜を蒸着によって基材表面に成膜する成膜方法であって、結晶性材料を蒸発させるステップと、非結晶性材料を蒸発させるステップと、蒸発させる結晶性材料の質量と蒸発させる非結晶性材料の質量との質量比を調整するステップとを有している。 - 特許庁

The gas barrier film comprises a base material formed of an organic material, a resin layer composed of a fluoride formed on one side or both sides of the base material by a vapor deposition process and a gas barrier layer composed of an inorganic oxide formed by a vacuum film forming process.例文帳に追加

本発明は、有機材料から形成された基材と、前記基材の片面または両面に蒸着法により形成されたフッ素化合物から構成される樹脂層と、前記樹脂層上に真空成膜法により形成された無機酸化物から構成されるガスバリア層とを有することを特徴とするガスバリア性フィルムを提供することにより上記目的を達成するものである。 - 特許庁

The electrochemical cell 10 includes: the solid electrolyte 11 made by the electron-beam physical deposition method or the discharge plasma sintering method, endowed with oxide ion conductivity or protonic conductivity, and containing columnar crystal with crystal orientation controlled; and a pair of electrodes 12, 13 formed on a pair of opposed main surfaces of the solid electrolyte 11.例文帳に追加

電子ビーム物理蒸着法あるいは放電プラズマ焼結法などを用いて作製された、酸化物イオン導電性あるいはプロトン導電性を有し、結晶配向を制御された柱状結晶を含む固体電解質１１と、固体電解質１１の相対向する一対の主面上に形成された一対の電極１２，１３と、を具えるようにして形成された電気化学セル１０。 - 特許庁

In the laminate, a gas-barrier film layer formed by laminating a vapor deposition film layer of an inorganic compound on a plastic film base and a multilayer film having carbon dioxide absorbency in which one or two polyolefin resin layers are laminated by coextrusion on one or both sides of a resin composition layer incorporated with calcium oxide are stuck together through an adhesive layer.例文帳に追加

プラスチックフィルム基材上に無機化合物の蒸着膜層が積層されてなるガスバリア性フィルム層と、酸化カルシウムが配合されている樹脂組成物層の片面または両面にポリオレフィン系樹脂層が共押出しで積層されてなる炭酸ガス吸収能を有する多層フィルム層とが、接着剤層を介して貼り合わされていることを特徴とする積層体。 - 特許庁

To provide an exhaust gas cleaning catalyst which has high catalyst performance capable of burning particulates even at a relatively low exhaust gas temperature, does not provide the deposition of the particulates, does not require combustion regenerating means and has excellent durability and to provide an exhaust gas cleaning catalyst filter which is excellent in the efficiency of capturing the particulates and is excellent in exhaust gas cleaning performance.例文帳に追加

比較的低い排ガス温度でもパティキュレートを燃焼することができる高い触媒性能を有し、パティキュレートが堆積されることがないとともに、燃焼再生手段を必要とせず、耐久性に優れた排ガス浄化触媒の提供、及びパティキュレートの捕集効率に優れ、排ガス浄化性能に優れた排ガス浄化触媒フィルターを提供する。 - 特許庁

To provide a techinique to enhance a peeling property of a multilayer gel film from the support and effectively avoid release between the multilayer gel film even in the case of preventing an unpinning failure in a film after a burn and of enhancing the peeling property of a multilayer film from the support using a chemical imide method when a polyimide based multilayer film is manufactured by a cast deposition method.例文帳に追加

流延製膜法によりポリイミド系多層フィルムを製造するにあたって、焼成後のフィルムにおける脱ピン不良を防止するとともに、化学イミド法を採用し、多層フィルムの支持体からの引き剥がし性を向上させた場合であっても、多層ゲルフィルムの支持体からの引き剥がし性を向上し、かつ、多層ゲルフィルムの層間の剥離を有効に回避する技術を提供する。 - 特許庁

Consequently, a difference in deposition rate in the treatment chamber 10u and in the exhaust chamber 10d is reduced, and hence the precoat films formed in treatment chamber 10u and in the exhaust chamber 10d have more similar film quality and film thickness.例文帳に追加

このようにして，処理室１０ｕおよび排気室１０ｄの圧力差を小さくし，デポラジカルの状態を処理室１０ｕと排気室１０ｄとでほぼ同じ状態とすることにより，処理室１０ｕと排気室１０ｄとの成膜速度差を小さくし，これにより，処理室１０ｕおよび排気室１０ｄのプリコート膜の膜質が均一で膜厚がより等しい膜を形成することができる。 - 特許庁

To provide a printing ink composition for an alumina vapor-deposited film which has the excellent printability and adhesion to enable decoration printing when printing is performed on a transparent vapor deposition film on a surface of which an alumina is deposited, and has the excellent laminate suitability to expand the applicable field as a packaging container when lamination is performed.例文帳に追加

表面にアルミナが蒸着された透明蒸着フィルムに印刷された時に、優れた印刷適性及び接着性を有することで、美粧印刷を可能にするとともに、ラミネート加工が行われた場合には、優れたラミネート適性を有することで、包装容器として適用できる分野を拡大させる、アルミナ蒸着フィルム用印刷インキ組成物を提供する。 - 特許庁