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「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索
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Depositionを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 17021



例文

A cassette 105 is charged in an atmospheric carrying system 104, and a final substrate for film deposition in the cassette 105 is carried out from a film deposition chamber 101 after the film deposition, the gas cleaning recipe is performed in the film deposition chamber 101.例文帳に追加

カセット105を大気搬送システム104に投入し、カセット105の最後の被成膜基板が成膜後成膜室101から搬出されると、成膜室101にてガスクリーニングレシピを実施する。 - 特許庁

MATTE ACRYLIC RESIN FILM FOR VAPOR DEPOSITION OF METAL例文帳に追加

金属蒸着用艶消しアクリル系樹脂フィルム - 特許庁

ION NITRIDING APPARATUS AND DEPOSITION SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

イオン窒化装置およびこれを用いた成膜装置 - 特許庁

the deposition of pigment in animals or plants or human beings 例文帳に追加

動物、植物または人間の色素沈着 - 日本語WordNet

例文

SYSTEM AND METHOD FOR CVD FILM DEPOSITION例文帳に追加

CVD成膜装置及びCVD成膜方法 - 特許庁


例文

METHOD OF MANUFACTURING LAMINATE ELEMENT, AND FILM DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

積層素子の製造方法および成膜装置 - 特許庁

To provide a vapor deposition material-supplying means capable of continuously supplying a vapor deposition material from an arbitrary direction, in a vapor deposition crucible having the vapor deposition material- supplying means.例文帳に追加

蒸着材料供給手段を備えた蒸着用坩堝において、蒸着材料を坩堝へ任意の方向から連続的に供給できる蒸着材料供給手段を提供すること。 - 特許庁

INORGANIC VAPOR DEPOSITION FILM LAMINATE AND PACKAGE THEREBY例文帳に追加

無機蒸着フイルム積層体および包装体 - 特許庁

DEPOSITION SHIELD AND VACUUM FILM-FORMATION EQUIPMENT THEREWITH例文帳に追加

防着板及びこれを用いた真空成膜装置 - 特許庁

例文

EVAPORATION SOURCE AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS PROVIDED WITH IT例文帳に追加

蒸発源及びこれを備えた蒸着装置 - 特許庁

例文

To provide a film deposition system and a film deposition method by which a shadow effect in film deposition using a mask is prevented, and thin film deposition having a uniform film thickness can be performed in a substrate face.例文帳に追加

マスクを用いた成膜においてのシャドウ効果を防止し、基板面内において均一な膜厚での薄膜形成を行うことが可能な成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

CONVECTION COOLING METHOD IN SELECTIVE DEPOSITION MOLDING例文帳に追加

選択堆積造形における対流冷却法 - 特許庁

METHOD OF PREVENTING DEPOSITION OF PLATINUM GROUP IN GLASS MELTING FURNACE例文帳に追加

ガラス溶融炉の白金族堆積防止方法 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR FILM DEPOSITION USING METAL PLASMA例文帳に追加

金属プラズマを用いた成膜装置及び方法 - 特許庁

To provide a film deposition method where, at the time of depositing a metal-containing thin film by an ALD (Atomic Layer Deposition) method, the film deposition rate can be increased.例文帳に追加

ALD法によって金属を含む薄膜を形成する際に、成膜速度を上昇させることができる成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition method, a substrate holder and a film deposition system where a pin hole defect caused by dust produced in the film deposition system is suppressed.例文帳に追加

成膜方法、基板保持具及び成膜装置において、成膜装置内で発生した塵埃に起因するピンホール欠陥を抑制することを目的とする。 - 特許庁

The vacuum deposition system, such as a sputtering system, includes such components 1 in the form of holding sections for samples to be deposited with the films, holding sections for deposition sources, and deposition protecting components, etc.例文帳に追加

スパッタリング装置などの真空成膜装置は、このような部品1を被成膜試料保持部、成膜源保持部、防着部品などとして具備する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus which can deposit a good quality thin film free from microparticles at a high film deposition rate by using an arc as a plasma source; and to provide a film deposition method.例文帳に追加

アークをプラズマ源とし、マクロパーティクルを含まない良質の薄膜を高い成膜レートで形成できる成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system which increases a film deposition rate, can perform film deposition to a film with a large area, and also, can obtain a dense deposited film.例文帳に追加

成膜速度を増大し、大面積のフィルムに成膜することができ、かつ、緻密な成膜を得ることができる成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition system and a film deposition method by which electric discharge to a hearth can be stabilized and film deposition can also stabilized over a long period of time.例文帳に追加

ハースへの放電を安定化させ、長時間に亘って成膜を安定化させることができる成膜装置及び成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system 1 which is excellent in maintenability capable of performing the maintenance of a film deposition system and the reregulation of a film deposition source in a short period of time.例文帳に追加

成膜装置の保守点検・成膜源の再調整を短時間で行うことができるメンテナンス性に優れた蒸着装置1を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus capable of precisely controlling the vapor deposition rate of a film material, and to provide a vapor deposition method and a method of manufacturing an organic EL apparatus.例文帳に追加

膜材料の蒸着レートをより精密に制御可能な蒸着装置、蒸着方法、および有機EL装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ALD(Atomic Layer Deposition) thin film vapor deposition apparatus provided with a cleaning apparatus by which dry cleaning is efficiently performed, and after the cleaning, thin film vapor deposition can easily be performed.例文帳に追加

効率良く乾式クリーニングし、クリーニング後、薄膜蒸着が容易に行えるクリーニング装置を備えたALD薄膜蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method for considerably shortening the time required for generating an interlayer insulating film, and a film deposition apparatus for performing the film deposition method.例文帳に追加

層間絶縁膜を生成するためにかかる時間を大幅に短縮する成膜方法、及び当該成膜方法を実施するための成膜装置の提供。 - 特許庁

To provide a film deposition method and a film deposition apparatus capable of executing the film deposition of a metallic film containing less impurities at low temperature and with excellent step coverage.例文帳に追加

不純物が少ない金属膜を低温でかつ良好なステップカバレッジで成膜することができる成膜方法および成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition method and a film deposition apparatus, capable of depositing a thin film having excellent film thickness distribution and film quality while maintaining the film deposition rate.例文帳に追加

膜厚分布や膜質に優れた薄膜を、成膜速度を維持しつつ堆積することができる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition with which the regulation of film thickness can be performed even in a single vapor deposition chamber, and to provide a vapor deposition method using the mask.例文帳に追加

単一蒸着室でも膜厚調整を行うことができる蒸着用マスク及びそのマスクを用いた蒸着方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method and a vapor deposition system where a crucible and cooling water are made needless, structure is simplified, further, injection energy is reduced, and further, the generation of splashes upon film deposition is prevented.例文帳に追加

るつぼや冷却水が不要となり、構造を簡素化するとともに、投入エネルギを低減し、更に成膜時におけるスプラッシュの発生を防止する。 - 特許庁

The vapor deposition system 30 is provided with: a vapor deposition chamber 31 for storing a front substrate 2; and an evacuation device 32 for evacuating the inside of the vapor deposition chamber 32.例文帳に追加

蒸着装置30は、前面基板2を収納する蒸着室31と、蒸着室内を真空排気する真空排気装置32と、を備えている。 - 特許庁

To enhance a recovering efficiency of a vapor deposition material to improve productivity, in a vapor deposition apparatus with a device for recovering the vapor deposition material.例文帳に追加

蒸着材料の回収手段を備えた蒸着装置において、蒸着材料の回収効率を向上し、生産性の改善を図る。 - 特許庁

To well reproducibly prevent peeling of deposition materials stuck to parts during a deposition step even when high-stress films etc., are deposited by a vacuum deposition system.例文帳に追加

真空成膜装置で高ストレス膜などを成膜する場合においても、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を再現性よく防止する。 - 特許庁

The deposition pattern of the resulting substrate 102 thus exhibits a density greater than density of the deposition mask aperture 112 while avoiding deposition pattern distortion.例文帳に追加

従って、得られる基板102の蒸着パターンは、蒸着マスク開口112の密度よりも高い密度を示す一方で、蒸着パターンの歪みが回避される。 - 特許庁

To prevent the sticking of particles dropped from a mask to a film vapor-deposited on the film deposition face of a substrate in the case vapor deposition is performed by down deposition.例文帳に追加

ダウンデポジションで蒸着を行う場合に、基板の成膜面に蒸着させた膜にマスクから落下したパーティクルが付着しないようにする。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method capable of accurately performing vapor deposition on a part to be subjected to vapor deposition even when a base plate is expanded or contracted.例文帳に追加

基板が膨張又は収縮した場合においても蒸着すべき部分に精度良く蒸着を行うことができる蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus with which the reduction of a vapor deposition material before vapor deposition can be effectively prevented and a high quality functional element can be produced.例文帳に追加

蒸着前の蒸着材料の減少を効果的に防ぐとともに、高品質の機能素子を製造することができる蒸着装置等を提供する。 - 特許庁

To provide the deposition holder of a semiconductor device that definitely prevents a deposition element from wrapping around the opposite deposition source end of a semiconductor device.例文帳に追加

成膜元素が半導体デバイスの反成膜源側端面に回り込むことを確実に防止する半導体デバイスの成膜用ホルダを提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method and a film deposition apparatus for allowing film deposition at low temperatures without inflicting charge-up damage to a substrate, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

低温で成膜でき、且つ、基板にチャージアップダメージを与えることの無い成膜方法及び成膜装置、並びに半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a TiN film deposition method capable of enhancing the productivity by effectively increasing the film deposition rate when performing film deposition of TiN by a CVD method.例文帳に追加

CVD法によってTiNを成膜する場合に、成膜速度を効果的に高めて生産性を向上させたTiNの成膜方法を提供する。 - 特許庁

A jig for vapor deposition through resistance heating forms vapor deposition material blocking parts 1F and 1G between fixed parts 1A and 1B and a vapor deposition material installation part 1C.例文帳に追加

この抵抗加熱蒸着治具1は、固定部1A,1Bと蒸着材料設置部1Cとの間に、蒸着材料せき止め部1F,1Gを形成した。 - 特許庁

The inorganic oxide layer is preferably manufactured by a vacuum deposition method, a spattering method, an ionization vapor deposition method, an ion beam method, or a chemical vapor phase deposition method.例文帳に追加

前記無機酸化物層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオンビーム法、または化学気相蒸着法により作製されるのが好ましい。 - 特許庁

To increase uniformity of a film deposition rate when a plurality of wafers is simultaneously subjected to batch treatment using a film deposition system where film deposition is performed by a supercritical process.例文帳に追加

超臨界プロセスによって成膜を行う成膜装置で、複数のウエハを同時にバッチ処理する際の成膜レートの均一性を高める。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of suppressing the delay time for the mechanical operation of a shutter 8 when the film deposition is stopped, and performing the film deposition with excellent reproducibility.例文帳に追加

成膜の停止時の機械的なシャッタ8動作のための遅延時間を抑制でき、再現性良く成膜を行うことができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To make the flow of a current in a metal deposition segment sectioned by a non-deposition slit more uniform than before, in a metal deposition film.例文帳に追加

金属蒸着フィルムにおいて、非蒸着スリットにより区画された金属蒸着セグメントにおける電流の流れを従来よりも均一化させる。 - 特許庁

Material may be deposited onto the substrate through the deposition mask 110 from more than one deposition source 300 oriented at a unique deposition angle.例文帳に追加

材料は、固有の蒸着角度で配向された1を越える蒸着源300から、蒸着マスク110を介して基板上に蒸着される。 - 特許庁

To perform the starting and stopping of deposition, the setup of various data, the completion of deposition preparations and the check of deposition elapsed time at a separate position from an electrodeposition device.例文帳に追加

融着の開始・停止、各種のデータの設定、融着準備の完了や融着経過時間の確認を、電気融着装置から離れた位置において行なう。 - 特許庁

In addition, a film deposition substrate such as a circuit board for a compact and thin MCM (Multi Chip Module) with an embedded capacitor can be manufactured by the film deposition device and the film deposition method.例文帳に追加

また本発明の成膜装置、成膜方法によって、小型・薄型のキャパシタ内蔵MCM用回路基板などの成膜基板が製造可能となる。 - 特許庁

To achieve high productivity by realizing the whole deposition of a thin film or deposition continuous for a long time by providing sufficient vapor deposition source material.例文帳に追加

十分な蒸着源材料を提供して薄膜堆積全体あるいは長時間の継続した堆積を提供して高い生産性を達成する。 - 特許庁

To provide an enhanced method for designing a thermo-physical vapor deposition system in which a material is evaporated along the longitudinal direction of a vapor deposition source in a vapor deposition zone.例文帳に追加

蒸着ゾーン内の蒸着源の長さ方向に沿って材料が蒸発される熱物理蒸着システムを設計する向上された方法の提供。 - 特許庁

To improve the operation efficiency of a vapor deposition apparatus by regenerating a resonator of a film thickness detection device provided in a vapor deposition chamber in such a state that the resonator is placed in the vapor deposition chamber.例文帳に追加

蒸着室内の膜厚検知装置の振動子を蒸着室内において再生することで蒸着装置の稼動効率を向上させる。 - 特許庁

例文

The method is preferably carried out by using plasma enhanced atomic layer deposition, plasma enhanced chemical vapor deposition, and plasma enhanced cyclic chemical vapor deposition.例文帳に追加

この方法は、好ましくは、プラズマ原子層堆積、プラズマ化学気相成長、及びプラズマサイクリック化学気相成長を用いることによって実行される。 - 特許庁




  
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