Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF DETERMINING FILM DEPOSITION TIME, CHAMBER, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE AND BOAT THEREFOR, ETCHING DEVICE, AND FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
半導体装置の製造方法、成膜時間の決定方法、チャンバー、化学気相成長装置及びそのボート、エッチング装置、並びに成膜処理システム - 特許庁
To provide a method of manufacturing a film deposition substrate improved in adhesion force between a glass substrate and a molybdenum layer, a film deposition substrate, and a film deposition device.例文帳に追加
ガラス基板とモリブデン層との密着力の向上が図られた成膜基板を製造する方法、成膜基板、及び成膜装置を提供すること。 - 特許庁
A tungsten bulk fill may then be deposited on the nucleation layer employing cyclical deposition, chemical vapor deposition or physical vapor deposition techniques.例文帳に追加
その後、周期的堆積、化学気相堆積、又は、物理的気相堆積技術を用いて、タングステンのバルクフィルが核形成層上に堆積されてもよい。 - 特許庁
Since vapor deposition molecules are simultaneously evaporated onto the glass substrate 130 from the plurality of vapor deposition sources 10, 11, vapor deposition is performed at random angles.例文帳に追加
複数の蒸着源１０，１１から同時に蒸着分子がガラス基板１３０に対して蒸発されるため、よりランダムな角度から蒸着が行われる。 - 特許庁
Consequently, the vacuum deposition apparatus can stably measure the exact vapor deposition rate, and can form the high-accuracy vapor deposition film based on the rate.例文帳に追加
そのため、真空蒸着装置は正確な蒸着レートを安定的に計測でき、これに基づいて高精度な蒸着膜を形成することができる。 - 特許庁
To stabilize the amount of vapor deposition by improving reproducibility of the amount of the vapor deposition for each batch in a vacuum processing apparatus using a coaxial vacuum arc vapor deposition source.例文帳に追加
同軸型真空アーク蒸着源を用いた真空処理装置における蒸着量のバッチ毎の再現性を改善し、その安定化を提供する。 - 特許庁
To provide a cleaning method of a deposition system that prevents a constituent of the deposition system from being damaged, and removes a silicon base deposit in the deposition system.例文帳に追加
成膜装置の構成部材への損傷を抑制して、成膜装置内部のシリコン系堆積物を除去し得る成膜装置のクリーニング方を提供する。 - 特許庁
To stably measure an exact vapor deposition rate, and to allow a high-purity vapor deposition film to be formed based on the vapor deposition rate.例文帳に追加
真空蒸着装置において、正確な蒸着レートを安定的に計測して、この蒸着レートに基づいて高精度な蒸着膜を形成する。 - 特許庁
In the method and system for vacuum deposition by which the vapor deposition material is evaporated in a vacuum chamber 10 to form a deposit film of the vapor deposition material on a substrate 40 for vapor deposition, pressure in the vacuum chamber 10 is controlled to control the deposition rate of the vapor deposition material.例文帳に追加
真空槽１０内部において蒸着物質を蒸発させて被蒸着物４０に蒸着物質の蒸着膜を成膜する真空蒸着法及び真空蒸着装置において、真空槽１０内部の圧力を制御することによって、蒸着物質の蒸着速度を制御することを特徴とする。 - 特許庁
In depositing five layers of the antireflection films, the respective layers are continuously deposited by opening a shutter 24 for starting the vapor deposition of a material for vapor deposition (ZrO_2) 12a for deposition of the second layer before closing a shutter 23 for stopping the vapor deposition of a material for vapor deposition (SiO_2) 11a for deposition of the first layer.例文帳に追加
蒸着により５層の反射防止膜１６を成膜する際に、第１の層を成膜する蒸着材料（ＳｉＯ_2）１１ａの蒸着を停止するシャッター２３を閉じる前に、第２の層を成膜する蒸着材料（ＺｒＯ_2）１２ａの蒸着を開始させるシャッター２４を開けて、各層を連続で成膜する。 - 特許庁
The vacuum film deposition apparatus 200 includes a film deposition chamber 220 to be evacuated, a vapor deposition source 280 arranged opposite to a first substrate 10 in the film deposition chamber 220, a gas inlet 260 for introducing reactive gas in the film deposition chamber 220, and an exhaust port 270 for performing the exhaust from the film deposition chamber 220.例文帳に追加
真空成膜装置２００は、真空状態とされる成膜室２２０と、成膜室２２０内で第１基板１０に対向配置された蒸着源２８０と、成膜室２２０内に反応ガスを導入するガス導入口２６０と、成膜室２２０内からの排気を行なうための排気口２７０とを有している。 - 特許庁
To provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method in which a plurality of vapor-deposited films of uniform vapor deposition angle and/or vapor deposition film thickness can be easily formed over the entire substrate surface as a work to be vapor- deposited, and a manufacturing method of a liquid crystal device using the vapor deposition apparatus and the vapor deposition method.例文帳に追加
被蒸着材たる基板面全体に亙って、蒸着角度及び／又は蒸着膜厚の均一な蒸着膜を簡便に複数層積層して形成することが可能な蒸着装置、及び蒸着方法、ならびに蒸着装置、蒸着方法を用いた液晶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The substrate transfer apparatus used for film deposition of the substrate is applied to, for example, an in-line type film deposition apparatus.例文帳に追加
基板の成膜に用いる基板移載装置は例えばインライン式成膜装置に適用される。 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND SYSTEM FOR MANUFACTURING DISPLAY UNIT例文帳に追加
蒸着装置、および表示装置の製造システム - 特許庁
VAPOR DEPOSITION APPARATUS, METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
気相成長装置、気相成長装置の温度制御方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
POLYESTER RESIN COMPOSITION FOR COATING/DEPOSITION MOLDED PRODUCT例文帳に追加
塗装・蒸着成形品用ポリエステル樹脂組成物 - 特許庁
The film deposition chamber 100 is arranged in the vacuum vessel 10 to execute film deposition on a substrate 200 to be film-deposited.例文帳に追加
成膜室１００は真空容器１０内に配置され、被処理基板２００に成膜処理を行う。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus and a film deposition method capable of efficiently raising/dropping the temperature of a substrate.例文帳に追加
基板の温度の昇降を効率化することが可能な成膜装置、成膜方法を提供する。 - 特許庁
THICKNESS MEASURING METHOD FOR CYLINDRICAL INNER SURFACE DEPOSITION LAYER例文帳に追加
筒状体内面付着層の厚さ測定方法 - 特許庁
VEHICULAR POWER SUPPLY DEVICE, AND DEPOSITION DETECTING METHOD WHICH DISTINGUISHES DEPOSITION OF CONTACTOR OF THIS POWER SUPPLY DEVICE例文帳に追加
車両用の電源装置とこの電源装置のコンタクターの溶着を判別する溶着検出方法 - 特許庁
PLASMA DISCHARGE TREATMENT APPARATUS, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
プラズマ放電処理装置及び薄膜形成方法 - 特許庁
VAPOR-DEPOSITION MATERIAL OF METAL OXIDE, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND METHOD FOR PRODUCING VAPOR-DEPOSITION FILM OF METAL OXIDE例文帳に追加
金属酸化物蒸着材、その製造方法、および金属酸化物蒸着膜の製造方法 - 特許庁
VAPOR PRODUCTION DEVICE, VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加
蒸気発生装置、蒸着装置、成膜方法 - 特許庁
DEPOSITION METHOD, X-RAY IMAGE TUBE MANUFACTURING METHOD, DEPOSITION DEVICE AND X-RAY IMAGE TUBE MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
蒸着方法、Ｘ線イメージ管製造方法、蒸着装置およびＸ線イメージ管製造装置 - 特許庁
BARRIER LAYER DEPOSITION USING HDP-CVD例文帳に追加
ＨＤＰ−ＣＶＤを適用したバリヤ層の堆積 - 特許庁
To provide a thin film deposition device and a manufacturing method of an organic luminescence display device using the thin film deposition device.例文帳に追加
薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a film deposition system and a film deposition method where the uniformity of the film thickness in the film to be deposited is excellent.例文帳に追加
成膜される膜の膜厚均一性に優れた成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁
MASK, FILM DEPOSITION METHOD, LIGHT EMITTING DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
マスク、成膜方法、発光装置および電子機器 - 特許庁
The conductor pattern 25 comprises a metal thin film formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition.例文帳に追加
導体パターン２５を物理的蒸着又は化学的蒸着による金属薄膜によって構成する。 - 特許庁
VAPOR CONCENTRATION MEASUREMENT DEVICE FOR VACUUM VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
真空蒸着装置の蒸気濃度計測装置 - 特許庁
FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, PATTERNING METHOD, OPTICAL APPARATUS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
製膜装置、製膜方法、パターニング方法、光学装置の製造方法、および電子装置の製造方法 - 特許庁
COATING COMPOSITION FOR PREVENTING DEPOSITION OF SNOW AND ICE AND FORMATION OF COATING FILM FOR PREVENTING DEPOSITION OF SNOW AND ICE例文帳に追加
着雪・着氷防止用コーティング組成物および着雪・着氷防止用塗膜の形成方法 - 特許庁
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