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「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索
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Depositionを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 17021



例文

LIQUID RAW MATERIAL FOR SPRAY TYPE CVD FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

噴霧型CVD成膜装置用液体原料 - 特許庁

VACUUM DEPOSITION DEVICE AND METHOD FOR FORMING THIN FILM例文帳に追加

真空蒸着装置及び薄膜の製造方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR LIGHT-EMITTING ELEMENT例文帳に追加

成膜方法および発光素子の作製方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION RAW MATERIAL AND METHOD OF PREPARING THE SAME例文帳に追加

蒸着原料材料及びその製造方法 - 特許庁

例文

FILM DEPOSITION APPARATUS, AND CLEANING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

成膜装置、および成膜装置のクリーニング方法 - 特許庁


例文

DEPOSITION TREATMENT APPARATUS OF INSULATING FILM AND ITS TREATMENT例文帳に追加

絶縁膜の成膜処理装置及び処理方法 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of reducing the number of particles inside a film deposition furnace.例文帳に追加

本発明は、成膜炉内のパーティクル数を抑制できる成膜装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a thin film deposition apparatus in which a substrate after film deposition is quickly cooled and the productivity is improved.例文帳に追加

薄膜形成装置において成膜後の基板を迅速に冷却し、生産性の向上を図る。 - 特許庁

The film deposition apparatus has the cooling chamber 15.例文帳に追加

成膜装置は、この冷却室15を備えている。 - 特許庁

例文

VACUUM VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND THIN FILM FORMING METHOD例文帳に追加

真空蒸着装置および薄膜形成方法 - 特許庁

例文

To provide a film deposition apparatus and a film deposition method by which occurrence of a warp in a substrate can be suppressed.例文帳に追加

基板の反りの発生を抑制することができる成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

SOLID CARBON BASED EVAPORATION SOURCE, EVAPORATION SOURCE, CARBON BASED THIN FILM DEPOSITION METHOD, AND CARBON BASED THIN FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

固体炭素系蒸発源、蒸発源、炭素系薄膜の形成方法及び炭素系薄膜形成装置 - 特許庁

ATOMIC LAYER VAPOR DEPOSITION APPARATUS UTILIZING NEUTRAL BEAM AND ATOMIC LAYER VAPOR DEPOSITION METHOD UTILIZING THE APPARATUS例文帳に追加

中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法 - 特許庁

DIELECTRIC-COVERED ELECTRODE, AND THIN FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

誘電体被覆電極及び薄膜形成装置 - 特許庁

ARC EVAPORATION SOURCE AND ARC EVAPORATION TYPE DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

アーク蒸発源、及びアーク蒸発式成膜装置 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR FORMING DEPOSITION FILM例文帳に追加

堆積膜形成装置及び堆積膜形成方法 - 特許庁

ALD APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ALD装置及びこれを用いた成膜方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SOLID ORGANIC MATERIAL FOR VAPOR DEPOSITION, AND SOLID ORGANIC MATERIAL FOR VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

蒸着成膜用固形有機材料の製造方法及び蒸着成膜用固形有機材料 - 特許庁

MEMBER FOR FILM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

成膜装置用部材およびその製造方法 - 特許庁

To promote deposition of soot in MCVD method.例文帳に追加

MCVD法においてスートの堆積を促進する。 - 特許庁

To provide a lens array unit capable of suppressing deposition of an alkali component and delaying a deposition time.例文帳に追加

アルカリ成分の析出を抑え、析出時間を遅らせることができるレンズアレイユニットを提供する。 - 特許庁

ORGANIC RUTHENIUM COMPOUND FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD USING THE ORGANIC RUTHENIUM COMPOUND例文帳に追加

化学蒸着用の有機ルテニウム化合物及び該有機ルテニウム化合物を用いた化学蒸着方法 - 特許庁

POLYPHENYLENE SULFIDE FILM ROLL FOR DEPOSITION AND CAPACITOR例文帳に追加

蒸着用ポリフェニレンサルファイドフィルムロールおよびコンデンサー - 特許庁

TARGET VAPOR DEPOSITION METHOD OF NANOTUBE, AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ナノチューブの目標蒸着法および電子部品 - 特許庁

VACUUM VAPOR DEPOSITION METHOD AND EL DISPLAY PANEL例文帳に追加

真空蒸着方法及びELディスプレイ用パネル - 特許庁

To provide a thin film deposition device where pretreatment and film deposition can be continuously performed by one chamber.例文帳に追加

一つのチャンバで前処理と成膜とを連続して行うことができる薄膜作製装置を提供する。 - 特許庁

IN-LIQUID PLASMA FILM DEPOSITION METHOD, COATING FILM FORMED BY THE SAME, AND IN-LIQUID PLASMA FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

液中プラズマ成膜方法、その方法により成膜される被覆膜および液中プラズマ成膜装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM VACUUM VAPOR DEPOSITION METHOD, AND ITS APPARATUS例文帳に追加

電子ビーム真空蒸着方法およびその装置 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION DEVICE FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT USING ELECTROMAGNET AND VAPOR DEPOSITION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電磁石を用いた有機電界発光素子製作用蒸着装置及びこれを用いた蒸着方法 - 特許庁

SUBSTRATE COOLING METHOD IN VACUUM FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

真空成膜装置における基板の冷却方法 - 特許庁

POLYPROPYLENE FILM FOR VAPOR DEPOSITION AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

蒸着用ポリプロピレンフィルム及びその製造方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD FOR R-T-B BASED MAGNET例文帳に追加

R−T−B系磁石の皮膜形成方法 - 特許庁

The fluorine compound gas such as ethylene fluoride is introduced into a film deposition chamber during silicon dioxide film deposition.例文帳に追加

フッ化エチレンなどのフッ素化合物ガスを二酸化珪素膜の被覆中に成膜室に導入する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR HIGH SPEED ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加

高速原子層めっきのための方法及び装置 - 特許庁

APPARATUS FOR FABRICATING VERTICAL DEPOSITION MASK, AND METHOD FOR FABRICATING VERTICAL DEPOSITION MASK USING THE SAME例文帳に追加

垂直蒸着型マスクの製造装置及びこれを用いた垂直蒸着型マスクの製造方法 - 特許庁

SYSTEM FOR VACUUM DEPOSITION OF COATING ON WEB MATERIAL例文帳に追加

ウエブ材料に被覆を真空蒸着する装置 - 特許庁

METAL MULTI-LAYERED FILM STRUCTURE AND FILM DEPOSITION METHOD THEREFOR例文帳に追加

金属多層膜構造およびその成膜方法 - 特許庁

To prevent clogging of a nozzle tip part caused by salt deposition.例文帳に追加

塩の析出によるノズルの詰まりを防止する。 - 特許庁

This lower surface is connected to the roof panel 11 by an injection molding deposition or a foaming deposition.例文帳に追加

この下面は特に射出成形付着または発泡付着によってルーフパネル11に連結される。 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE AND METHOD FOR FORMING FILM例文帳に追加

化学的気相成長装置及び成膜方法 - 特許庁

MASK, DEPOSITION APPARATUS AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

マスク、蒸着装置、有機電界発光表示装置 - 特許庁

APPARATUS FOR APPLYING PATTERNING FILM AND VACUUM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

パターニング膜塗布装置および真空蒸着装置 - 特許庁

To provide a crucible for vapor deposition, which can efficiently deliver a vapor deposition material to a substrate to be treated and can make the vapor deposition material incident on the substrate to be treated as perpendicularly as possible; to provide a vapor deposition method therefor; and to provide a vapor deposition apparatus therefor.例文帳に追加

被処理基板に対して蒸着材料を効率よく到達させることができ、かつ、被処理基板に対して蒸着材料が垂直に入射する状態に近づけることのできる蒸着用坩堝、蒸着法および蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

This deposition source uses an organic compound as a deposition material, and is provided with the vessel 12 for storing the deposition material, and a heating means 13 for heating the deposition material 11 in the vessel 12, and further provided with a running means for running the deposition material 11 in the vessel 12.例文帳に追加

有機化合物を蒸着材料とし、蒸着材料を収容する容器12と容器12内の蒸着材料11を加熱する加熱手段13を備え、更に、蒸着材料11を容器12内で流動させる流動手段を備える。 - 特許庁

To provide a method for measuring deposition thickness by which deposition thickness on a substrate is accurately converted from a deposition rate of an organic gaseous material effused from a vertically moving deposition source, and to provide a deposition system using the same.例文帳に追加

垂直上下方向に移動する蒸着源から噴射される有機気相物質の蒸着率から基板に形成される蒸着膜の厚さを正確に換算することができる蒸着膜厚測定方法及びこれを用いた蒸着システムを提供する。 - 特許庁

Even if the heating by the electron beam is stopped after the deposition is completed, the molten condition of the raw material for deposition can be maintained, and the raw material for deposition is not solidified and the solidified raw material for deposition needs not be heated or melted from the beginning in the next deposition.例文帳に追加

このように、蒸着終了後に電子ビームによる加熱が停止しても、蒸着原料は溶融状態が保持されるので、蒸着原料が固化しなく、次の蒸着処理時に固化した蒸着原料を再び一から加熱溶融させなくても済む。 - 特許庁

This invention is characterized in that an elongated rectangular vapor deposition source holder 17 having a plurality of containers in which a vapor deposition material is enclosed is arranged in a vapor deposition chamber, and vapor deposition is carried out while moving the vapor deposition source holder with respect to a substrate 13 at a certain pitch.例文帳に追加

本発明は、蒸着室内において、蒸着材料が封入された容器を複数個設置した細長い矩形形状の蒸着源ホルダ17に設け、基板13に対してあるピッチで移動しながら蒸着を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The vapor deposition method for the thin films of forming the thin films by depositing a material 2 to be deposited by evaporation on the substrate 1 comprises arranging the substrate 1 and a plurality of vapor deposition boats V1, V2, V3, and V4 in which vapor deposition sources are put, into a vapor deposition vessel and performing vapor deposition.例文帳に追加

基板1に蒸着物2を蒸着させて薄膜を形成させる薄膜の蒸着方法であって、基板1と、蒸着源が入れられた複数の蒸着ボートV1,V2,V3,V4とを蒸着槽内に配置して蒸着を行うことを特徴とする。 - 特許庁

At this time, the deposition apparatus may include a deposition preventive wall 50 vertically formed between the deposition boat 10 and the wafer-transfer device 30 for the purpose of preventing the deposition of the vaporized deposition material on the wafer-transfer device 30 as well.例文帳に追加

この時、蒸着装置は、気化された蒸着材料が基板移送装置30に蒸着されることを防止するために、蒸着ボート10と基板移送装置30との間に垂直に形成された蒸着防止壁50をさらに含んでいてもよい。 - 特許庁

例文

To provide a vacuum vapor deposition apparatus which can perform vapor deposition at an always high vapor deposition rate, and nevertheless does not give damage to a semiconductor substrate to be subjected to vapor deposition, and does not give rise to curing of a photoresist, and an electron beam irradiation method of the vacuum vapor deposition apparatus.例文帳に追加

常に高い蒸着レートにより蒸着を行うことができ、しかも蒸着を行う半導体基板に損傷を与えたり、フォトレジストの硬化を引き起こすことのない、真空蒸着装置及びこの装置の電子ビーム照射方法を提供する。 - 特許庁




  
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