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「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索
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Immersionを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 3841



例文

The photosensitive layer comprising a resin containing an organic photosensitive material is immersed in an immersion solvent in a solvent immersion step (S2) to be swollen without eluting in the solvent.例文帳に追加

有機感光材料を含む樹脂からなる感光層は、溶剤浸漬工程(S2)において、浸漬溶剤中に浸漬されることにより、溶剤中に溶出せずに膨潤する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure having good lithography characteristics and also having hydrophobicity suitable for immersion exposure, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Gesture recognition is already being used for interaction with a 3-D immersion environment. 例文帳に追加

ジェスチャー認識はすでに三次元没入環境との対話のために使われている。 - コンピューター用語辞典

COMPOSITION FOR FORMING PROTECTIVE FILM FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

例文

The immersion water storage chamber 70 is provided with an electrode type liquid level sensor 80.例文帳に追加

浸水溜まり室70には、電極式の液面センサ80が設けられている。 - 特許庁


例文

To make the shape of a resist pattern, obtained by immersion lithography, excellent.例文帳に追加

液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。 - 特許庁

To accurately simulate an air pocket generated in an immersion-processed object even in the immersion-processed object provided in a such state that another member is put inside one member.例文帳に追加

一の部材の内側に他の部材が入り込んで設けられる被浸漬処理物であっても、被浸漬処理物に発生する空気溜まりを正確にシミュレーションする。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle for continuously casting steel using a refractory material for powder line part in the immersion nozzle having good errosion resistance, low cost in raw material and gentle to the environment.例文帳に追加

耐食性が良く、原料が安く、しかも環境に優しい浸漬ノズルのパウダーライン部用耐火材料を使用した鋼の連続鋳造用浸漬ノズルを提供する。 - 特許庁

To reduce friction generated between an outer surface of an immersion body 1 and the ground 3 when the immersion body 1 is immersed under the ground 3 to construct a building under the ground.例文帳に追加

沈設体1を地盤3に沈設させて地中に構造物を構築する際に、沈設体1の外表面と地盤3との間に発生する摩擦をより低減できるようにする。 - 特許庁

例文

To provide a sealing member or barrier member which reduces a turbulent flow and reduces overflowing of an immersion liquid in a liquid supply system used for an immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置用の液体供給システムにおいて、乱流を低減し、且つ浸漬液のオーバーフローを低減するシール部材またはバリア部材を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a top coating composition for a photoresist that can be used in a liquid immersion lithography process, and to provide a method for forming a photoresist pattern by a liquid immersion lithography process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ工程に適用されうるフォトレジスト用のトップコーティング組成物、及び液浸リソグラフィ工程によるフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A method of operating the liquid containment system of the immersion lithography apparatus is disclosed.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置の流体閉じ込めシステムを動作する方法が開示される。 - 特許庁

PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The immersion lithographic apparatus includes first and second objects separated via a gap and having the immersion liquid provided on an upper surface, and a gutter that is positioned below the gap and collects all immersion liquids passing through the gap, wherein a forward contact angle of the immersion liquids is less than 30° to the surfaces of the first and second objects demarcating the gap.例文帳に追加

ギャップを挟んで離間し、その上面に液浸液が提供される第1及び第2のオブジェクトと、ギャップの下に位置し、ギャップを通過するあらゆる液浸液を回収するように構成された側溝とを含み、ギャップを画定する第1及び第2のオブジェクトの表面との液浸液の前進接触角が30°未満である液浸リソグラフィ装置。 - 特許庁

To provide a material for forming a resist protective film which simultaneously prevents deterioration in a resist film during liquid immersion lithography using water or other various liquids for liquid immersion lithography and deterioration in the liquid itself for liquid immersion lithography used in a liquid immersion lithography process, does not increase the number of processing steps, and improves the post exposure time delay resistance of the resist film.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、水を始めとした各種液浸露光用液体を用いた液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体自体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数を増加させることなく、レジスト膜の引き置き耐性を向上させることができるレジスト保護膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

To provide a method of heating an immersion nozzle by which when the immersion nozzle for pouring molten steel for high cleanliness steel is preheated, temperature of the whole immersion nozzle is uniformly raised according to a prescribed temperature-raising profile and the erosion of the immersion nozzle at the casting time is prevented by preventing decarburization at the preheating time and thus, the high quality of the high cleanliness steel can be produced.例文帳に追加

高清浄鋼用の溶鋼を注湯するための浸漬ノズルの予熱において、所定の昇温プロファイルに従って浸漬ノズル全体を均一に昇温して、予熱時の脱炭防止により鋳造時の浸漬ノズルの溶損を防止し、高品質の高清浄鋼を製造することができる加熱方法を提供すること。 - 特許庁

In the immersion lithography system, areas that an immersion medium comes into contact with during an exposure process is cleaned using the cleaning fluid containing the ether-based solvent, alcohol-based solvent, and semi-water type solvent when a predetermined period has elapsed after a plurality of wafers each having a photoresist film formed are exposed in the immersion lithography process using the immersion medium.例文帳に追加

液浸リソグラフィシステムで、フォトレジスト膜が形成された複数のウェーハを、液浸媒体を利用する液浸リソグラフィ工程によって露光した後、所定の周期が経過したとき、露光工程中に液浸媒体が接触した領域をエーテル系溶剤と、アルコール系溶剤と、準水系溶剤とを含む洗浄液を使用して洗浄する。 - 特許庁

To provide a substrate holding technology which suppresses intruding of a liquid immersion liquid to the rear surface of a substrate.例文帳に追加

液浸液の基板裏面への入り込みを抑制した基板保持技術を提供する。 - 特許庁

The sampler 90 may be removable from the immersion lithographic apparatus for inspection.例文帳に追加

サンプラ90は、検査するために液浸リソグラフィ装置から取り外し可能にすることができる。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle which can suppress a drift in the thickness direction of a mold in a high level.例文帳に追加

鋳型厚み方向の偏流を高いレベルで抑制できる浸漬ノズルを提供する。 - 特許庁

DEVICE FOR PREVENTING IMMERSION OF UNDERFLOOR VENTILATION HOLE, RETAINING UNDERFLOOR HEAT IN WINTER, AND PREVENTING PEST INSECT FROM ENTERING例文帳に追加

床下換気孔浸水防止、冬季の床下保温及び害虫侵入防止器具 - 特許庁

To provide a solar cell module capable of suppressing water immersion.例文帳に追加

水の浸入を抑制することができる太陽電池モジュールを提供することを目的とする。 - 特許庁

The bottom of the solid immersion lens 12 is molded into a spherical form which is convex downward.例文帳に追加

ここで、固体浸レンズ12の底面は、下方に凸の球面形状に形成される。 - 特許庁

The apparatus for producing the thin plate includes a crucible 101, an immersion device, and a movable plate 105.例文帳に追加

薄板製造装置は、坩堝101と、浸漬装置と、可動板105とを備えている。 - 特許庁

To provide a means of suppressing gas from being produced from a composition for liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光用組成物から気体の発生を抑制する手段を提供すること。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD OF REDUCING DISTURBANCE GENERATED BY MOVEMENT IN LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

液浸リソグラフィシステム内の運動によって生じる外乱を低減させるシステムおよび方法 - 特許庁

An air diffusing pipe 16 is arranged in the lower part of a treatment tank 14 of this immersion type flat membrane-used filtration apparatus.例文帳に追加

浸漬平膜濾過装置の処理槽14には、下方に散気管が配設される。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR THIN-FILM APPLICATION, AND APPARATUS AND METHOD FOR EXPOSING LIQUID IMMERSION例文帳に追加

薄膜塗布装置および薄膜塗布方法ならびに液侵露光装置および液侵露光方法 - 特許庁

To disclose a substrate support constituted to support a substrate for immersion lithographic processing.例文帳に追加

液浸リソグラフィ処理用に基板を保持するように構成された基板支持体が開示される。 - 特許庁

RESIST MATERIAL FOR IMMERSION EXPOSURE PROCESS AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING RESIST MATERIAL例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト材料および該レジスト材料を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

It is constituted as an immersion objective whose NA to decide the effective diameter is ≥0.6.例文帳に追加

また、有効径を決めるNAが0.6以上の水浸対物レンズとして構成されている。 - 特許庁

DEVICE FOR ADJUSTING POSITION OF IMMERSION NOZZLE FOR CONTINUOUS CASTING AND CONTINUOUS CASTING METHOD OF METAL例文帳に追加

連続鋳造用浸漬ノズルの位置調整装置および金属の連続鋳造方法 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of grasping the state of liquid immersion area of liquid.例文帳に追加

液体の液浸領域の状態を把握することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

The sealing member that prevents the entry of an immersion liquid into a gap between components is provided.例文帳に追加

コンポーネント間のギャップへの液浸液の侵入を防止する封止部材が提供される。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of grasping a state of a liquid immersion area of liquid.例文帳に追加

液体の液浸領域の状態を把握することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for cleaning the inside of an immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置の内部を洗浄するための方法と装置を提供すること。 - 特許庁

In the exposure system 17, a substrate W is exposed to light by an immersion liquid method.例文帳に追加

露光装置17においては、液浸法により基板Wの露光処理が行われる。 - 特許庁

In the exposure system 15, a substrate W is exposed to light by an immersion liquid method.例文帳に追加

露光装置15においては、液浸法により基板Wの露光処理が行われる。 - 特許庁

The exposure device EX comprises a liquid immersion member 6 in contact with exposure liquid LQ1.例文帳に追加

露光装置EXは、露光液体LQ1と接触する液浸部材6を備えている。 - 特許庁

Even in a situation with temporary immersion in water, vegetation is possible.例文帳に追加

従って、一時的に水に浸かるような状況下であっても、植生を行うことが出来る。 - 特許庁

IMMERSION NOZZLE FOR CONTINUOUS CASTING OF MOLTEN METAL, AND CONTINUOUS CASTING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

溶融金属の連続鋳造用浸漬ノズルおよびそれを用いた連続鋳造方法 - 特許庁

To provide an electronic gas meter capable of determining immersion of a small amount of water.例文帳に追加

少量の水の浸入を判断することが可能な電子式ガスメータを提供する。 - 特許庁

In the aligner 17 exposure processing of a substrate W is executed by immersion method.例文帳に追加

露光装置17においては、液浸法により基板Wの露光処理が行われる。 - 特許庁

To provide a device for gripping an immersion tube, which is used in a facility for refining molten steel and causes few failures.例文帳に追加

溶鋼精錬設備における故障の少ない浸漬管の把持装置を提供する。 - 特許庁

Further, the solid immersion lens is manufactured by press molding a fused glass material by using a metallic mold.例文帳に追加

また、固浸レンズは溶融したガラス材を金型を用いた押圧成形により製作される。 - 特許庁

To provide an exposure method suppressing the occurrence of poor exposure in immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光において、露光不良の発生を抑制できる露光方法を提供する。 - 特許庁

The exposure treatment of the substrate W is performed by a liquid immersion method in the exposing device 17.例文帳に追加

露光装置17においては、液浸法により基板Wの露光処理が行われる。 - 特許庁

To prevent occurrence of defective shapes in a resist pattern, in immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにおいて、レジストパターンに生じる形状不良を防止できるようにする。 - 特許庁

例文

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁




  
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