Immersionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3841件
Then, when pure air is jetted into the chamber 40 through the supply nozzle 35, the pure air cleaned by an FFU 30 and containing no organic substance and no particle is supplied around the pure water PW near the focal position of the liquid immersion objective lens 8 (that is, in between the liquid-immersion objective lens 8 and the wafer W).例文帳に追加
従って、供給ノズル35から清浄な空気がチャンバ40内に噴出されると、液浸対物レンズ8の焦点位置近傍(即ち、液浸対物レンズ8とウエハWの間)の純水PWの周囲に、FFU30によって清浄化された有機物やパーテイクルを含まない清浄な空気を供給することができる。 - 特許庁
The phosphate ion solidification apparatus may have a structure in which a column filled with the phosphate ion solidification agent is installed and target water containing phosphate ion to be treated is passed through the column, or in which a water-permeable container containing the phosphate ion solidification agent is immersed in an immersion tank and object water containing phosphate ion to be treated is passed through the immersion tank.例文帳に追加
リン酸イオン固体化装置としては、リン酸イオン固体化剤を充填したカラムを設け、このカラムにリン酸イオン含有被処理水を通過させるようにしたもの、リン酸イオン固体化剤を収納した通水性容器を浸漬槽に浸漬し、この浸漬槽にリン酸イオン含有被処理水を通過させるようにしたものがある。 - 特許庁
The exposure apparatus comprises: an optical member irradiating exposing light; an immersion member located in the vicinity of the optical member and forming an immersion space so that a light path of the exposing light between the optical member and an object is filled with a liquid; a feed opening feeding the liquid onto the object; and a recover opening recovering the liquid on the object.例文帳に追加
露光装置は、露光光を射出する光学部材と、光学部材の近傍に配置され、光学部材と物体との間の、露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成可能な液浸部材と、物体上に液体を供給可能な供給口と、物体上の液体を回収可能な回収口とを備える。 - 特許庁
The immersion objective lens OL for a microscope is arranged on the object side in the observation optical system of a microscope and the surface of the lens OL closest to the object side is located in immersion liquid and used to emit an enlarged image of the object, wherein the lens surface closest to the object side of a lens L1 which is located closest to the object is formed concave with respect to the object.例文帳に追加
顕微鏡の観察光学系において物体側に配置され、最も物体側の面が浸液内に位置して物体の拡大像を出射する液浸系顕微鏡対物レンズOLにおいて、最も物体側に位置するレンズL1の最も物体側のレンズ面が物体側に凹面となるように形成される。 - 特許庁
Hydrogen peroxide water is continuously or intermittently added to an immersion treating liquid of 30 to 70°C containing 25 to 250 g/L sulfuric acid, 1 to 25 g/L hydrochloric acid, 1 to 50 g/L hydrofluoric acid and ≥5 g/L Fe^3+ ions and simultaneously air is continuously blown at ≥10 m^3/hr/m^3 into the immersion treating liquid.例文帳に追加
その後、硫酸を25〜250g/L、塩酸を1〜25g/L、弗酸を1〜50g/L含有し、かつ、Fe^3+イオンを5g/L以上含有する30〜70℃の浸漬処理液に、過酸化水素水を継続あるいは断続的に添加するとともに、同時に該浸漬処理液に空気を10m^3/hr/m^3以上継続して吹き込む。 - 特許庁
The apparatus also has a liquid confinement structure defining, in use, in part with the lower surface and the substrate and/or substrate table, an immersion space, and the immersion space has, in use, a liquid meniscus between a part of the lower surface facing a surface of the liquid confinement structure and a facing surface of the liquid confinement structure facing the part of the lower surface.例文帳に追加
装置は、使用時に、部分的に下面及び基板及び/又は基板テーブルとともに液浸空間を画定する液体閉じ込め構造も有し、液浸空間は、使用時に液体閉じ込め構造の表面に対面する下面の一部と、下面の一部に対面する液体閉じ込め構造の対面表面との間に液体メニスカスを備える。 - 特許庁
The manufacturing equipment 40 for the metal master is equipped with an immersion tank 44 for immersing an intermediate material 10 of the metal master for making the stamper masked except for an annular region 16 by housing the intermediate material 10 therein and storing an etchant capable of etching the intermediate material 10 and an air feeding means 46 for discharging bubbles and stirring the etchant of the immersion tank 44.例文帳に追加
メタルマスタの製造装置40は、環状領域16を除いてマスキングされたスタンパ作製用メタルマスタの中間材10を収容し、且つ、中間材10を腐食可能であるエッチング液を貯留して中間材10を浸漬するための浸漬槽44と、浸漬槽44のエッチング液に気泡を吐出して攪拌するための給気手段46と、を備える。 - 特許庁
In the optical lens device composed by holding a first optical lens 51 by the solid immersion lens by a lens holding body, at least a part of the lens holding body 62 is composed of a pressure absorber 60, and pressure generated between the first optical lens 51 of the solid immersion lens and its object is absorbed by the pressure absorber 60.例文帳に追加
ソリッドイマージョンレンズによる第1の光学レンズ51が、レンズ保持体に保持されて成る光学レンズ装置にあって、レンズ保持体62の少なくとも一部が、圧力吸収体60より成り、該圧力吸収体60によってソリッドイマージョンレンズの第1の光学レンズ51と、その対物との間に生じる圧力を吸収する構成とする。 - 特許庁
The immersion lithography apparatus incorporates a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit for supplying an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加
液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁
The immersion lithographic device includes a temperature control system CS constructed to supply feedback signals, feed-forward signals, or both of these signals based on measured values and/or predicted values obtained by a measurement system MS and/or a prediction system PS constructed to measure and/or predict temperature variations of the immersion liquid, respectively.例文帳に追加
液浸液の温度変動を測定および/または予測するようにそれぞれ構成された測定システムMSおよび/または予測システムPSによって得られた測定値および/または予測値に基づいて、フィードバック制御信号、フィードフォワード制御信号、またはこれら両方を供給するように構成された温度制御制御システムCSを含む。 - 特許庁
A batch-processing type cleaning device 10 comprises an immersion tank 11 opened to atmosphere and accumulating supersaturated ozone water 14, a supersaturated ozone water supply pipeline 12 for supplying the supersaturated ozone water 14 from a bottom of the immersion tank 11, and a needle valve 13 for adjusting a flow rate of the supersaturated ozone water 14 flowing in the supersaturated ozone water supply pipeline 12.例文帳に追加
バッチ処理式洗浄装置10は、大気に開放され、過飽和オゾン水14を貯留する浸漬槽11と、過飽和オゾン水14を浸漬槽11の底部から供給する過飽和オゾン水供給配管12と、過飽和オゾン水供給配管12内を流れる過飽和オゾン水14の流量を調節するニードルバルブ13とを備える。 - 特許庁
A sensor carrier 4 installed in a longitudinal direction perforation 3 at the center of a measuring head 1 has under a protection cap 7, one or more heat elements and/or electric sensors for determining the gas content in a molten metal in analysis using this immersion measuring probe, and a ring 9 made of molding sand is arranged on a peripheral position of the sensor carrier 4 on the immersion end.例文帳に追加
測定用ヘッド1の中央の長手方向穿孔3に取り付けたセンサキャリヤ4が、保護キャップ7の下に、浸漬測定プローブを使用する分析に際し溶融金属のガス含有量を決定するための一つ以上の熱要素及びあるいは電気センサを有し、浸漬端のセンサキャリヤ4の周囲位置には鋳物砂製のリング9が配置される。 - 特許庁
A cleaning method is for cleaning an optical member and a liquid immersion member that is disposed in at least a part of a surrounding of a light path of exposure light passing in an exposure liquid between the optical member and a substrate in a liquid immersion exposure apparatus exposing the substrate with the exposure light via an exposure liquid and has a first recovery port enabled to recover the exposure liquid.例文帳に追加
露光液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と基板との間の露光液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、露光液体を回収可能な第1回収口を有する液浸部材のクリーニング方法である。 - 特許庁
To prevent erroneous solderings, such as bridging, undoped soldering, and the like in soldering leads of a flat package IC to the connection lands of a circuit board through an immersion method.例文帳に追加
浸漬法によってフラットパッケージICのリードを回路基板の接続用ランドに半田付けする際におけるブリッジや未半田等の半田不良の発生を防止することを目的とする。 - 特許庁
To provide a magazine tray having simple structure and capable of gradually feeding a plurality of work pieces while suppressing the attachment of dust to the plurality of work pieces , and to provide a magazine set device of immersion treatment apparatus.例文帳に追加
簡単な構造で、複数のワークに塵埃が付着するのを抑制しつつこれを徐給材することができるマガジントレイ、浸漬処理装置のマガジンセット装置を提供する。 - 特許庁
The bottom 21a of the treating tub 20a is elevated by a hydraulic cylinder 32a, the height of the liquid surface of the treating liquid 2 inside the treating tub 20a is elevated, and the immersion treatment of the substrate 1 is executed.例文帳に追加
油圧シリンダ32aにより処理槽20aの底21aを上昇させて、処理槽20a内の処理液2の液面の高さを上昇させ、基板1の浸漬処理を行う。 - 特許庁
The OTDR measuring instrument 19 identifies the underground closure having caused immersion from the positions of the underground closures (13a-13d) identified by the reflection light and the measured loss occurrence point distance.例文帳に追加
OTDR測定器19は、反射光で特定した地下クロージャ(13a〜13d)の位置と測定した損失発生点距離とから浸水が発生した地下クロージャを特定する。 - 特許庁
The polysulfone based hollow thread film being subjected to a dry/wet spinning is immersed in a glycol represented by the formula: HO(CH_2) nOH (wherein (n) is 2, 3 or 4) and is subjected to an immersion treatment at a temperature of 100 to 150°C.例文帳に追加
乾湿式紡糸されたポリスルホン系中空糸膜を一般式 HO(CH_2)nOH(ここで、nは2、3または4である)で表わされるグリコールの水溶液中に浸漬し、100〜150℃の温度で浸漬処理する。 - 特許庁
Focus is continuously varied at every point on the substrate by passively using force generated in this immersion liquid or by moving the final element to improve focal latitude.例文帳に追加
この浸液で発生する力を受動的に利用したり、最終要素を移動させることにより、基板上のあらゆる点で連続的に焦点を変化させて焦点寛容度を向上させる。 - 特許庁
For example, a closing member 30 is used to receive liquid in a liquid confinement structure 12 while the substrate is replaced on a substrate table WT2 in an immersion lithographic apparatus.例文帳に追加
液浸リソグラフィ装置で、例えば基板が基板テーブルWT2上で交換中に流体閉じ込め構造12内に流体を収容するために閉鎖部材30が使用される。 - 特許庁
To prevent a drift in a mold by preventing the drift of a molten metal discharged from an immersion nozzle, uniformizing a discharge flow, and stabilizing the flow of the molten metal in the mold.例文帳に追加
浸漬ノズルの吐出口から吐出する溶鋼の偏流を防止し、吐出流を均等化させて、モールド内の溶鋼の流れを安定化することでモールド内の偏流を防止することにある。 - 特許庁
The immersion treatment apparatus 100 for the powder resin is equipped with a work grasping device 10, a level sensor 20, a fluidized tank 30, the powder resin 40, a perforated plate 50, an air chamber 60 and a vibrator 70.例文帳に追加
粉体樹脂浸漬処理装置100は、ワーク把持装置10、レベルセンサ20、流動槽30、粉体樹脂40、多孔板50、エアチャンバ60、加振装置70を備えている。 - 特許庁
To prevent a water immersion to an electrode layer in order to prevent a cause of insulation failure and a performance deterioration of a dielectric film, which provides a thin film capacitor having a stable performance for a long period of time.例文帳に追加
電極層への水分の浸入を防止し、誘電体膜の絶縁不良、性能劣化の原因となることを防止し、長期間にわたり性能の安定した薄膜キャパシタを得る。 - 特許庁
At the bright field observation, a half mirror 7 is located on the position of the optical axis (L1) of the liquid-immersion objective lens 8, and nearly half the UV emitted from an illuminating optical source 2 is vertically emitted on a wafer W.例文帳に追加
明視野観察時には、ハーフミラー7は、液浸対物レンズ8の光軸(L1)位置にあり、照明光源2の紫外光の略半分はウエハWに落射させる。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which can achieve both excellent developability and excellent conformability to an immersion liquid, and a patterning method using the composition.例文帳に追加
優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a gap controller in which a reference level of gap control can be found reasonably in gap control in which a gap between an SIL (solid immersion lens) and an optical disc is kept constant.例文帳に追加
SIL(ソリッドイマージョンレンズ)と光ディスクとのギャップを一定に保つギャップ制御において、合理的にギャップ制御の基準レベルを見出すことができるギャップ制御装置を提供する。 - 特許庁
An additive containing a hexafluorosilicic acid solution (H_2SiF_6+H_2O) is sequentially charged into a phosphoric acid solution pooled in an immersion bath 10 from an additive input mechanism 30.例文帳に追加
浸漬処理槽10に貯留されているリン酸水溶液中には添加剤投入機構30からヘキサフルオロケイ酸水溶液(H_2SiF_6+H_2O)を含む添加剤が逐次投入される。 - 特許庁
To provide a photoresist protective film applicable for a liquid immersion lithographic process, to provide a composition for a photoresist protective film for forming the protective film, and to provide a method for forming a photoresist pattern using the photoresist protective film.例文帳に追加
液浸リソグラフィプロセスに適用できるフォトレジスト保護膜、該保護膜を形成できるフォトレジスト保護膜用組成物、該フォトレジスト保護膜を用いたフォトレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁
In a feeding tank 38 and the storage tank 32, a plurality of floating members 104 comprising spherical bodies are floated at liquid levels of the cavitation generation liquid L2 and the immersion liquid L1.例文帳に追加
なお、供給槽38および貯留槽32において、キャビテーション発生用液L2および浸漬液L1の液面には、球体からなる浮遊部材104が複数個浮遊している。 - 特許庁
To provide a bearing device for a wheel capable of preventing unexpected immersion of muddy water by making flow of muddy water on an outer circumference surface of a main body cylinder part of an outer seal member smooth.例文帳に追加
外側シール部材の本体筒部の外周面に対する泥水の流れを円滑化し、泥水の不測の浸入を防止することができる車輪用軸受装置を提供する。 - 特許庁
To provide a light receiving unit capable of preventing the invasion of a liquid immersion material (liquid) and of detecting even light having a NA exceeding 1, and also to provide an exposing apparatus equipped with the light receiving unit.例文帳に追加
液浸材(液体)の侵入を防止すると共に、NAが1を超える光も検出することができる受光ユニット及びかかる受光ユニットを有する露光装置を提供する。 - 特許庁
The clad-type positive electrode plat subjected to immersion treatment and a paste-type negative electrode plate having been used conventionally are combined to assemble a clad-type lead battery, and its battery case is subjected to chemical conversion treatment.例文帳に追加
浸漬処理をしたクラッド式正極板と、従来から使用されているペースト式負極板とを組み合わせてクラッド式鉛蓄電池を組み立てて電槽化成をする。 - 特許庁
Also, a surface of a lithographic apparatus is disclosed which comes into contact with the immersion liquid and is separated by a threshold distance from a surface exposed to a projection beam in use with a superhydrophobic property.例文帳に追加
また、液浸液に接触し使用時に投影ビームに曝露される表面からしきい値の距離にあって超疎水性特性を有するリソグラフィ装置の表面が開示される。 - 特許庁
The liquid immersion region is moved from one of the first and second stages to the other through the cover member through movement of the first and second stages while maintained directly under the projection optical system during the transition.例文帳に追加
液浸領域は、遷移において投影光学系の直下に維持されつつ、第1、第2ステージの移動により、カバー部材を介して第1、第2ステージの一方から他方に移動される。 - 特許庁
To provide a coating liquid for a charge transporting layer, the coating liquid hardly degrading even in a long-term immersion coating process in a circulation system, and to provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor using the coating liquid.例文帳に追加
長期間の循環式浸漬塗工においても、劣化しにくい電荷輸送層用塗布液およびそれを用いた電子写真感光体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for preventing the development of surface defect, particuliarly longitudinal crack, as a continuous casting for beam blank performed by disposing one piece of immersion nozzle at the one side of flange part of a mold.例文帳に追加
1本の浸漬ノズルをモールドの一方のフランジ部に配置して行うビームブランクの連続鋳造において、表面欠陥、特に縦割れの発生を回避する手法について提案する。 - 特許庁
Then, while the adhesion part is tightly closed with the upper cover 36 and the lower cover 34, the metal mask is subjected to immersion cleaning or the shower cleaning by using a cleaning solvent that dissolves the adhesive.例文帳に追加
次に、接着部が上部カバー36及び下部カバー34で密閉された状態で、接着剤を溶かす洗浄溶剤を用いてメタルマスクを浸漬洗浄又はシャワー洗浄する。 - 特許庁
A movable body 6 is displaced by deformation in a restoration direction of the elastic member 5 by dissolution of the water-soluble fixing material 4 caused by immersion, and thereby bending can be applied to the optical fiber 2 for detection.例文帳に追加
浸水による水溶性固定材4の溶解による弾性部材5の復元方向の変形によって、可動体6を変位させて検知用光ファイバ2への曲げ付与が可能である。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus which can recover the liquid in a liquid immersion space even when the moving speed (scanning speed) of a substrate is increased and can suppress the remaining of the liquid on the substrate.例文帳に追加
基板の移動速度(走査速度)の高速化しても液浸空間の液体を回収でき、基板上の液体の残留を抑えることができる露光装置を提供する。 - 特許庁
And terminal parts 13 of the immersion heaters 6 pulled out to outside the reboiler vessel are housed in a vacuum heat insulating vessel to prevent dew condensation of the terminal parts and heat entered from the outside.例文帳に追加
また、リボイラ容器の外側に引き出された投げ込みヒータ6の端子部13を真空断熱容器内に収容して、端子部の結露並びに外部からの侵入熱を防止する。 - 特許庁
The method for producing the high cleanliness steel is provided by which the molten steel 6 sucked up in the vacuum vessel 2 through an immersion tube 1 is stirred and is subjected to vacuum-degassing refining in the vacuum vessel under reduced pressure.例文帳に追加
浸漬管1を介して真空槽2内に吸上げた溶鋼6を減圧した真空槽2内で攪拌して真空脱ガス精錬を行い、高清浄鋼を製造する方法である。 - 特許庁
To provide a projection optical system of an immersion type which can secure a large image-side numerical aperture and a good imaging performance, by suppressing the influence of inherent birefringence of an interface optical element.例文帳に追加
境界光学素子の固有複屈折の影響を抑えて、大きな像側開口数および良好な結像性能を確保することのできる液浸型の投影光学系。 - 特許庁
To obtain an apparatus for measuring a wavefront aberration capable of accurately measuring the aberration at a low cost even in a bright optical system having a large NA or an optical system having a solid immersion lens.例文帳に追加
NAの大きな明るい光学系やソリッドイマージョンレンズを含む光学系であっても精度良く波面収差を測定可能でかつ安価な波面収差測定装置を提供する。 - 特許庁
When the number of times of immersion becomes a preset replenishment reference lot number N or more, a tank controller 20 controls a feed valve 15 and makes the processing liquid replenished to the processing tank 10.例文帳に追加
その浸漬回数が予め設定された補充基準ロット数N以上となったときには、槽コントローラ20が投入バルブ15を制御して、処理槽10に処理液を補充させる。 - 特許庁
The electrocardiographic electrode 10 for immersion in liquid consists of metallic wire W which is two-dimensionally or three-dimensionally bent and formed to obtain at least planar spread.例文帳に追加
液体浸漬用の心電計測電極10が、少なくとも平面的な広がり状態となるように2次元的又は3次元的に曲げ形成した金属ワイヤーWからなる。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus which can transfer a pattern with a proper accuracy by suppressing environmental changes even if a liquid outflows to the outside of a substrate when exposure processing is performed using a liquid immersion method.例文帳に追加
液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。 - 特許庁
To prevent a risk of immersion of a fuel cell power generation apparatus even in the case where failure in a check valve, electromagnetic valve, etc. and air suction in a piping are caused simultaneously.例文帳に追加
逆止弁又は電磁遮断弁等の故障及び配管内の空気吸込が同時に生じた場合にも、燃料電池発電装置への浸水の危険性を回避すること。 - 特許庁
Additives containing a hexafluorosilicic acid solution (H_2SiF_6+H_2O) are sequentially charged into the aqueous phosphoric acid solution reserved in an immersion processing tank 10 from an additive charging mechanism 40.例文帳に追加
浸漬処理槽10に貯留されているリン酸水溶液中には添加剤投入機構40からヘキサフルオロケイ酸水溶液(H_2SiF_6+H_2O)を含む添加剤が逐次投入される。 - 特許庁
To provide a method for remarkably restraining the development of HIC and preventing the clogging of an immersion nozzle regardless of the level of casting speed in the continuous casting of steel having hydrogen induced cracking resistance.例文帳に追加
耐水素誘起割れ鋼の連続鋳造において、鋳込み速度の大小に係わらず、HICの発生を顕著に抑制するとともに、浸漬ノズルの閉塞を防止する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an immersion objective of a microscope being a lens system which has a large numerical aperture and a large magnification and whose aberration is satisfactorily corrected, and made excellent in observation of feeble light.例文帳に追加
大きな開口数と大きな倍率を有し、諸収差が良好に補正されたレンズ系で、微弱な光の観察に優れた液浸系顕微鏡対物レンズを提供することにある。 - 特許庁
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