「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain an immersion type membrane filtration apparatus for water treatment having an automatic membrane breakage detecting device that can accurately, surely, and promptly detect the breakage of a hollow fiber membrane.例文帳に追加

高い精度で、確実にかつ迅速に中空糸膜の破断を検知できる自動膜破断検知装置を具備した水処理用の浸漬型膜ろ過装置を得る。 - 特許庁

This device 10 for performing immersion measurement of fluid pressure is provided with a disposable housing 12 having a fluid contact area 14 and a fluid noncontact area 16.例文帳に追加

流体圧力を侵入式に測定するための装置１０は、流体接触領域１４及び非流体接触領域１６を有する使い捨てハウジング１２を備える。 - 特許庁

The liquid immersion lithographic apparatus has a drain formed for draining the liquid through the gap between an edge of a substrate and the substrate table on which the substrate is supported.例文帳に追加

基板のエッジと基板が支持されている基板テーブルとの間のギャップから液体を除去するように構成されたドレインを有する液浸リソグラフィ装置について説明する。 - 特許庁

To form a resist film suppressing generation of defects due to development failure in liquid immersion exposure while the hydrophobicity of a film surface is increased and also being excellent in lithographic performance.例文帳に追加

液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、現像不良による欠陥の発生を抑制でき、しかもリソグラフィ性能に優れたレジスト被膜を形成する。 - 特許庁

To provide a titanium-containing member in contact with a liquid for immersion from which titanium is hardly eluted when washed with a solution containing hydrogen peroxide and to provide a method for manufacturing the titanium-containing member.例文帳に追加

過酸化水素を含む溶液で洗浄する際にチタンが溶出しにくい、液浸用液体と接触するチタン含有部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The immersion tubes 21, 22 are arranged so as to be relatively shiftable to the ladle 3 and constituted so as to stir the molten metal 8 in the ladle 3 with this shifting.例文帳に追加

浸漬管２１，２２は取鍋３に対して相対的に移動可能に設けられ，その移動によって取鍋３内の金属溶湯８を攪拌できるように構成されている。 - 特許庁

An immersion battery is equipped with a cylindrical case 2 forming a negative electrode, an electrode rod 3 forming a positive electrode, and caps 4, 5 covering both ends of the cylindrical case 2.例文帳に追加

浸漬式電池は、陰極を構成する筒状ケース２と、陽極を構成する電極棒３と、筒状ケース２の両端に被せられるキャップ４，５とを有している。 - 特許庁

After the solder coat 9 is formed, crushing is performed by applying loading before solidification or immersion is performed into melting solder bathtub, and the solder coat 9 whose thickness is at most 50 μm is formed.例文帳に追加

ハンダコート９を形成後、固化する前に荷重を掛けて押し潰すか、あるいは溶融ハンダ浴槽中に浸漬させて厚さ５０μｍ以下のハンダコート９を形成する。 - 特許庁

In the steel, when immersed into an aqueous solution of 5 weight % NaCl having pH 3 by 24 hours, the amount of diffusible hydrogen after the immersion may be ≤0.5 ppm (mass%).例文帳に追加

前記鋼は、ｐＨ３の５重量％ＮａＣｌ水溶液に２４時間浸漬したとき、浸漬後の拡散性水素量が０．５ｐｐｍ（質量基準）以下であってもよい。 - 特許庁

An immersion lithographic apparatus is described in which a two-phase flow is separated into liquid-rich and gas-rich flows by causing the liquid-rich flow to preferentially flow along a surface.例文帳に追加

液体の豊富な流れを優先的に表面に沿って流すことにより、２相流を液体の豊富な流れと気体の豊富な流れに分離する液浸リソグラフィ装置。 - 特許庁

The liquid removing device can act as a meniscus-fixed fixing device in a liquid immersion hood or used in a drying device for removing a liquid droplet from the substrate.例文帳に追加

液体除去デバイスは、液浸フード内のメニスカス固定固定デバイスとして作用するか、基板から液滴を除去する乾燥デバイス内で使用することができる。 - 特許庁

Prior to etching treatment, an aluminum material comprising Al-Ni based precipitates on the surface is subjected to immersion treatment in an aqueous solution containing hydrophosphoric acid and/or hydrophosphite.例文帳に追加

エッチング処理に先立って、表面にＡｌ−Ｎｉ系析出物を有するアルミニウム材を次亜リン酸または／および次亜リン酸塩を含む水溶液中で浸漬処理する。 - 特許庁

To prevent the erosion of an immersion tube in an RH vacuum-degassing apparatus with slag, when an Al-less extra- low carbon steel is produced by using a converter and the RH vacuum-degassing apparatus.例文帳に追加

転炉とＲＨ真空脱ガス装置とを用いてＡｌレス極低炭素鋼を溶製するに当たり、ＲＨ真空脱ガス装置の浸漬管のスラグによる溶損を防止する。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having a favorable profile by preventing elution of an acid generating agent from a resist film into a liquid used for immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィに用いる液体にレジスト膜からの酸発生剤の溶出を防止できるようにして、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

In the cleaning member 1 for the immersion exposure device, a plurality of titanium oxide films 3 is formed regularly in an island shape as a photocatalyst film on both surfaces of a quartz glass substrate 2.例文帳に追加

液浸露光装置用洗浄部材１では、石英ガラス基板２の両面に、複数の酸化チタン膜３が光触媒膜として島状に規則的に形成されている。 - 特許庁

The alkali may be originated from an aqueous alkali solution caused to be present on the surface by spraying, application or immersion, or the surface may be formed with an alkali-containing material.例文帳に追加

前記アルカリは、前記表面に噴霧、塗布、或いは浸漬されたアルカリ水溶液によるものでも良いし、前記表面をアルカリ含有材料によって形成しても良い。 - 特許庁

To provide a resin-sealed type semiconductor device which has its moldability improved as a resin-sealed type semiconductor device using an immersion type heat spreader and its manufacturing method.例文帳に追加

投げ込み式ヒートスプレッダを用いた樹脂封止型半導体装置において、成形性を向上させた樹脂封止型半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

For the objective lens, an immersion lens having a high abstraction field is used, and identification of azimuth of the electrons scattered on the surface of the sample is made possible.例文帳に追加

対物レンズには、高い抽出電界を有するように構成されたイマージョンレンズが使用され、標本表面で散乱された電子の方位角の識別を可能にする。 - 特許庁

The material for forming a resist-protecting film for immersion exposure process contains at least one component selected from water-soluble and alkali-soluble film-forming materials.例文帳に追加

水溶性及びアルカリ可溶性膜形成成分から選ばれる少なくとも１種を含有させ、液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料を構成する。 - 特許庁

The members 16a for lenses are thereafter processed from the jig 22 side until the solid immersion lenses 16 are formed and, further the substrate is subjected to cutting out of every slider, etc., by which sliders are formed.例文帳に追加

その後、治具２２側からレンズ用部材１６ａが固体イマージョンレンズ１６になるまで加工し、さらに、スライダ毎の切り出し等を経て、スライダ１０を形成する。 - 特許庁

To control hot water sterilization temperature in an immersion bath to an optimum level and to effectively remove soil and dust attached to a konjac seed tuber.例文帳に追加

浸漬槽内の温湯を温湯消毒温度の適正温度となるように温度管理するとともに、コンニャク種芋に付着する土砂やごみを効果的に除去できるようにする。 - 特許庁

Then, after exposure treatment is performed by the F_2 laser (S105), the immersion liquid adhering to the semiconductor substrate is removed (S106) with perfluoroalkane as a rinsing liquid.例文帳に追加

続いて、Ｆ_２レーザによる露光処理を行なった後（Ｓ１０５）、パーフルオロアルカンをリンス液として用いて、半導体基板に付着した液浸液を除去する（Ｓ１０６）。 - 特許庁

A front lens used in immersion optics for microlithography at a wavelength of 200 nm or less is an example of a preferred optical element according to the present invention.例文帳に追加

２００ｎｍ以下の波長で行われるマイクロリトグラフィー用の液浸光学器械において用いられる前面レンズは本発明に従った光学素子の好ましい一例である。 - 特許庁

To provide an information recording and reproducing device increased in recording density to an extent expectable from NA(numerical aperture) even when an NA is raised by using a solid immersion lens.例文帳に追加

固体浸レンズを用いる等して高ＮＡ化した場合でも、ＮＡから期待される程度に記録密度を上昇させた情報記録再生装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The lithographic device has a first movable element (like an immersion liquid supply system), and operates while contacting the surface of a second movable element (like a substrate table).例文帳に追加

リソグラフィ装置が第１可動要素（浸液供給システムのような）を具備し、それは第２可動要素（基板テーブルのような）の表面に接触して動作している。 - 特許庁

To provide an exposure system which prevents the evaporation of an immersion liquid 12 in recollect flow paths (22, 24, and 25) of a stage 7, thereby suppressing a drop in a temperature of the stage 7.例文帳に追加

ステージ７の回収流路（２２，２４，２５）で浸液１２が蒸発することにより、ステージ７の温度が低下してしまうことを抑制できる露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an aligner and an exposure method capable of effecting exposure of a substrate with desired performance even if a liquid immersion method for exposing the substrate via liquid is applied.例文帳に追加

液体を介して基板を露光する液浸法を適用した場合にも、所望の性能で基板の露光を行うことができる露光装置、及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion type membrane filter apparatus in which the load on a filter membrane is dispersed without substantially changing the recovering rate of the whole apparatus and which can be stably operated.例文帳に追加

装置全体での回収率は実質的に変更せずに、濾過膜への負荷を分散し、安定した運転を確保できる浸漬型膜濾過装置を提供する。 - 特許庁

The slag S stuck to the outer periphery of the immersion tube 4 can be shaven off with the cutter edge 15 by utilizing the strong pushing-up of the ascending part 8 of the ladle ascending/descending apparatus.例文帳に追加

取鍋昇降装置の上昇部８の強力な押上げを利用して、浸漬管４外周に付着したスラグＳをカッター刃１５で削り取ることができる。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus suppressing or preventing leakage or spillage of an immersion liquid during operation to the minimum, and also to provide a lithographic projection method and a device manufacturing method.例文帳に追加

動作中に液浸液の漏れ又は零れを最小限に抑えるか、さらには防止できるリソグラフィ装置、リソグラフィ投影方法、及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pump that can suppress the water immersion to a vent hole even if leaked water is produced via a through-hole of an impeller case caused by a mechanical seal or an abnormality of the mechanical seal.例文帳に追加

メカニカルシール又はメカニカルシールの異常によりインペラケースの貫通孔を介した漏水が発生しても、通気口への浸水を抑制できるポンプの提供。 - 特許庁

In the immersion step, the aromatic polymer membrane 12 is covered with a protection member such that a portion of the aromatic polymer membrane 12 corresponding to the introduction part 13 is exposed.例文帳に追加

浸漬工程では、芳香族高分子膜１２において導入部１３に対応する箇所が露出するように、芳香族高分子膜１２を保護部材で覆う。 - 特許庁

To provide a wafer for oil immersion lithography and the manufacturing method of the same, capable of effecting exposure process while preventing the outflow of liquid to the outside of the wafer upon exposing the neighborhood of outer peripheral part of the wafer, in the oil immersion lithography for effecting exposure treatment under a condition that a gap between the projection optical system of exposure device for manufacturing semiconductor and the wafer is filled with liquid.例文帳に追加

半導体製造用露光装置の投影光学系とウェハとの間を液体で満たした状態で露光処理する液浸リソグラフィにおいて、ウェハの外周部付近を露光する際にもウェハの外側へ液体が流出するのを防ぎつつ露光処理できる液浸リソグラフィ用ウェハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of pattern formation that is improved in the pattern collapse, line edge roughness and scum occurrence, being free from any profile deterioration, and that exhibits appropriate following properties for the liquid for liquid immersion at the stage of liquid immersion exposure, while improving performance of reducing bubble defects, and to provide a method of forming a pattern with the use of the composition.例文帳に追加

現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The metal porous film is formed by forming a lithium alloy on the surface of a metal electrode by using lithium as a counter electrode and maintaining a metal electrode at a potential lower than a natural immersion potential in an organic solvent containing a lithium salt to form a lithium alloy on the surface of the metal electrode and, thereafter, dealloying the metal electrode while maintaining the metal electrode at a potential of the natural immersion potential before the alloying or more.例文帳に追加

リチウム塩を含む有機溶媒中で、リチウムを対極とし金属電極を自然浸漬電位より低い電位に維持して金属電極表面にリチウム合金を形成した後、該金属電極を合金化前の自然浸漬電位以上の電位に維持して脱合金することにより金属多孔質膜を形成する。 - 特許庁

To provide a copolymer capable of forming a coating film on a photoresist without causing intermixing with the photoresist film, maintaining a stable coating film without dissolving in a medium used in immersion exposure, being free from pattern form deterioration even in the case of performing dry exposure which is not the immersion exposure, and forming an upper film which is easily soluble in an alkaline developer.例文帳に追加

フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する共重合体を提供する。 - 特許庁

When the laser light of a specified wavelength emitted from one light source 3 is made incident from the transparent substrate 17 of an optical element 10 for an optical pickup on a solid immersion lens 11, light refraction occurs, a laser light is converged to the bottom surface of the solid immersion lens 11, and it is projected as a very small spot on an optical information recording medium D.例文帳に追加

一の光源３から出射された所定の波長のレーザ光を光ピックアップ用光学素子１０の透明基板１７からソリッドイマージョンレンズ１１へと入射させた場合には、光の屈折を生じることになり、レーザ光をソリッドイマージョンレンズ１１の底面に収束させ、光情報記録媒体Ｄ上に微小な光スポットとして照射させる。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition having good conformability to a liquid for liquid immersion during liquid immersion exposure and having good coverage dependence, from which a pattern reduced in the occurrence of watermark defects, bubble defects and development scum defects can be formed, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

A controller 40 controls a flow rate regulating valve 33 on the basis of measurement results of an outlet concentration meter 24 and an inlet concentration meter 32 to regulate the flow rate of the phosphoric acid solution to be circulated to the immersion processing bath 10 so that the concentration of siloxane contained in the phosphoric acid solution stored in the immersion processing bath 10 should be constant.例文帳に追加

制御部４０は、出側濃度計２４および入側濃度計３２の測定結果に基づいて流量調整弁３３を制御し、浸漬処理槽１０に貯留されているリン酸水溶液中に含まれるシロキサンの濃度が一定となるように浸漬処理槽１０に還流するリン酸水溶液の流量を調整する。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition for immersion exposure is used for immersion exposure for exposing a resist coating through water, and the composition contains a resin, a radiation-sensitive acid generator, an acid diffusion inhibitor comprising a compound having a t-butoxycarbonyl group bonded to a nitrogen atom, and a solvent.例文帳に追加

本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、ｔ−ブトキシカルボニル基が窒素原子に結合している化合物からなる酸拡散制御剤と、溶剤と、を含有する。 - 特許庁

The light stability improvement method of stained lumber comprises at least a cation liquid immersion process which immerses the stained lumber stained by acid dye, acid metal complex dye or acid mordant dye in a cation based immersion fluid containing one of a dye binder or an ultraviolet absorption agent.例文帳に追加

本発明に係る染色木材の耐光性改良方法は、酸性染料、酸性金属錯塩染料あるいは酸性媒染染料で染色された染色木材を、染料固着剤または紫外線吸収剤の何れか一つを含むカチオン系浸漬液に浸漬するカチオン液浸漬工程を少なくとも有していることを特徴とする。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition for liquid immersion exposure is used in liquid immersion exposure for exposing the resist film through the water, and contains acid diffusion control agent composed of the resin, radiation sensitive acid generation agent, the compound of tert-butoxy carbonyl group combined with nitrogen atom, and solvent.例文帳に追加

本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、ｔ−ブトキシカルボニル基が窒素原子に結合している化合物からなる酸拡散制御剤と、溶剤と、を含有する。 - 特許庁

When the refractive index setting auxiliary liquid for setting the refractive index of microscope objective liquid immersion oil is mixed to a liquid immersion oil of standard refractive index, the refractive index setting auxiliary liquid is mixed by the amount required for realizing a refractive index, which is determined in response to the temperature of the sample to be observed and/or the thickness of cover glass for microscope.例文帳に追加

標準屈折率液浸油に、顕微鏡対物用液浸油の屈折率を設定するための屈折率設定用補助液を混合するに際して、前記屈折率設定用補助液を、観察する標本の温度及び／又は顕微鏡用カバー硝子の厚さに対応して決定される屈折率になる量だけ混合することを特徴とする。 - 特許庁

The bread producing method comprises the immersion of polished wheat grains in water, the softening treatment of the wheat grains by continuing the immersion in a temperature environment enabling the growth of lactobacillus attached to the wheat grains or included in water and the preparation of the bread dough by using the softened wheat grains without crushing the grains.例文帳に追加

本発明のパンの製造方法は、精麦された小麦粒を水に浸漬するとともに、前記小麦粒に付着していた乳酸菌もしくは水に含有された乳酸菌が生育可能な温度環境にて浸漬を継続して小麦粒を軟化処理した後、該軟化小麦粒を粉砕処理することなく用いてパン生地を調製して製パンするものである。 - 特許庁