「oxidation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The electrochromic display element is composed of a first transparent electrode, an electrochromic layer which changes colors by electrochemical oxidation or reduction, a polymer solid electrolyte layer formed by contacting with the electrochromic layer, and a second electrode with the electrochromic layer and the polymer solid electrolyte layer interposed between the second electrode and the first transparent electrode.例文帳に追加

第１の透明電極と、電気化学的な酸化もしくは還元により変色するエレクトロクロミック層と、エレクトロクロミック層と接触して形成される高分子固体電解質層と、第１の透明電極との間に前記エレクトロクロミック層と前記高分子固体電解質層を挟んでなる第２の電極とから構成される。 - 特許庁

The sheet material is provided with a metallic base material 1 consisting of aluminum or an aluminum alloy, a substrate layer 2 consisting of an anodic oxidation film, and formed on the surface of the metallic base material, a coated layer 3 of a silane coupling agent applied to the surface of the substrate layer 2, and an organic resin layer 4 formed on the surface of the coated layer 3.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金からなる金属基材１と、該金属基材の表面に形成された陽極酸化皮膜からなる下地層２と、この下地層２の表面に塗布されたシランカップリング剤の塗布層３と、塗布層３の表面に形成された有機樹脂層４とを備える。 - 特許庁

A conductive layer is formed on the surface of the titanium oxide particles obtained by a vapor-phase oxidation method, and further the surface is treated by using a hydrophobizing agent.例文帳に追加

気相酸化法によって得られた酸化チタン粒子の表面に導電層を形成し、さらに疎水化剤によって表面処理する。 - 特許庁

To form an isolation layer on the end face of a semiconductor chip by a simple method without executing dispersion treatment and oxidation treatment at a high temperature for a long period of time.例文帳に追加

高温で長時間の拡散処理や酸化処理を行わずに、簡便な方法で半導体チップの端面に分離層を形成すること。 - 特許庁

To prevent oxidation and wear of the conductive membrane of the anode wiring or the like by the seal layer in the display device of the fluorescent display tube or the like.例文帳に追加

蛍光表示管等の表示装置において、アノード配線等の導電膜がシール層により酸化され、消耗するのを防止する。 - 特許庁

INTERCONNECT STRUCTURE, SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND METHOD OF FORMING INTERCONNECT STRUCTURE (FORMATION OF OXIDATION-RESISTANT SEED LAYER FOR INTERCONNECT USAGE)例文帳に追加

相互接続構造体、半導体構造体および相互接続構造体の形成方法（相互接続用途のための耐酸化性シード層の形成） - 特許庁

The sacrificial anode 7 is composed of a substance having an oxidation-reduction potential less noble than that of a metal that forms the seed layer 103.例文帳に追加

犠牲アノード７は、酸化還元電位がシード層１０３を構成している金属の酸化還元電位より卑な物質から構成されている。 - 特許庁

Its airtightness is secured by the base material, and excellent high temperature oxidation resistance is exhibited owing to the sintered composite layer applied to the surface of the base material.例文帳に追加

基材により気密性は確保され、この基材の表面に被覆された焼結複合層により優れた高温耐酸化性を発揮する。 - 特許庁

To achieve improvement of insulation performance by removing an oxidation membrane formed on the contact surface and by exposing a fine layer in which Cr particles are micronized.例文帳に追加

接点表面に形成される酸化膜を除去し、Ｃｒ粒子を微細化させた微細層を露出させ、絶縁性能の向上を図る。 - 特許庁

To provide a metalized film which has a metallic layer having a very high humidity resistance and an excellent oxidation resistance, and also a method of manufacturing the metalized film.例文帳に追加

本発明は、極めて高い耐湿性および耐酸化性に優れた金属層を有する金属化フィルム、およびその製造方法に関する。 - 特許庁

Further, PPC treatment is performed on the surface of the metal material 8, which is made of Al or Mg, by plasma oxidation, thereby forming the insulation layer 10.例文帳に追加

また、ＡｌまたはＭｇよりなる金属材８の表面にプラズマ酸化によりＰＰＣ処理を行うことで絶縁層１０が形成される。 - 特許庁

A magnetic random access memory is characterized that a magnetic tunnel junction layer is consisted of a lower magnetic film, an anti-oxidation film, a tunnel oxide film and an upper magnetic film.例文帳に追加

そして、前記トンネル酸化膜を形成する過程でその下部膜が損傷することを防止してＭＲ比が低くなることも防止できる。 - 特許庁

To provide a silicon carbide semiconductor device which prevents oxidation of a nickel silicide layer and has an ohmic electrode provided with a proper ohmic contact.例文帳に追加

ニッケルシリサイド層の酸化を防止するとともに、良好なオーミックコンタクトを有したオーミック電極を備えた炭化珪素半導体装置を得る。 - 特許庁

A shading layer 12 made of a shading film 12a and an oxidation preventing film 12b formed by sputtering is formed on the second surface 11b of the substrate 11.例文帳に追加

基板１１の第２面１１ｂには、スパッタ法で遮光膜１２ａ及び酸化防止膜１２ｂからなる遮光層１２が形成されている。 - 特許庁

Consequently, the ratio of the carbon atom having a π-bond in a molecular layer on the surface of the substrate decreases to less than that for the state of only oxidation treatment.例文帳に追加

その結果、基板表面の分子層のπ結合を有する炭素原子の割合はを酸化処理のみの状態よりも減少する。 - 特許庁

To provide a fuel cell having high output stability with the passage of time and by making progress oxidation reaction proceed efficiently in a catalyst layer of the anode.例文帳に追加

アノード極の触媒層における酸化反応を効率よく進行させて、出力の経時安定性に優れた燃料電池を提供。 - 特許庁

To provide a fuel cell having high output stability with the passage of time, by making progress oxidation reaction proceed efficiently in a catalyst layer of an anode.例文帳に追加

アノード極の触媒層における酸化反応を効率よく進行させて、出力の経時安定性に優れた燃料電池の提供。 - 特許庁

A pattern of a masking layer for local oxidation of silicon 12 is formed on this substrate 11, and an element-isolation insulating film 13 is formed by selectively oxidizing the pattern.例文帳に追加

この基板１１上に選択酸化用のマスク層１２のパターンを形成し、選択的に酸化して素子分離絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

Subsequently, a silicon oxide film 4 is formed in an oxidation process (3) by heat treating a semiconductor layer thus formed in an oxidizing atmosphere.例文帳に追加

この後、酸化工程 において、形成された半導体層を酸化性雰囲気中で熱処理することによりシリコン酸化膜４が形成される。 - 特許庁

For example, an aluminum alloy shaped article, a magnesium alloy shaped article or a titanium alloy shaped article is subjected to anodic oxidation to form a porous layer on its surface.例文帳に追加

例えば、アルミニウム合金形状物、マグネシウム合金形状物、チタン合金形状物を陽極酸化し表面に多孔質の層を得る。 - 特許庁

To enhance durability furthermore by preventing oxidation on the surface of a protective film layer thereby suppressing corrosion and elution of metal into ink.例文帳に追加

保護膜層の表面の酸化を防止し、腐食、インク内への金属の溶出を抑制することにより、耐久性能を更に向上する。 - 特許庁

Thereafter the epitaxial layer 2 is subjected to sacrificial oxidation and an oxide film formed by the sacrificial oxidization is removed to eliminate the damages by the RIE.例文帳に追加

その後、ｎ^- 型エピ層２を犠牲酸化したのち、この犠牲酸化によってできた酸化膜を除去し、ＲＩＥによるダメージを除去する。 - 特許庁

The flow passage switching valve 8 is arranged in a confluent part 3a with an exhaust passage 3 in the bypass passage 7, and is formed with an oxidation catalyst layer.例文帳に追加

流路切換弁８は、バイパス通路７における排気通路３との合流部３ａに配置され、且つ酸化触媒層が形成されている。 - 特許庁

The display element has an electrolyte and an oxidation-reduction active substance layer between a pair of electrodes opposite to each other, the oxidation-reduction active substance layer is formed by immersing at least one electrode of the counter electrodes in a processing liquid containing at least (1) an oxidation-reduction active polymer, (2) a metal ion or a nonmetal ion, (3) a ligand, and (4) a precipitation accelerator.例文帳に追加

一対の対向電極の間に電解質と酸化還元活性物質層とを有し、該酸化還元活性物質層は、少なくとも１）酸化還元活性ポリマーと、２）金属イオンまたは非金属イオンと、３）配位子と、４）析出促進剤とを含有する処理液に、該対向電極の少なくとも一方の電極を浸漬して形成されたものであることを特徴とする表示素子。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor in which a photosensitive layer and a protective layer are successively stacked on an electrically conductive support, the protective layer comprises a resin obtained by curing a compound having a curable functional group, a polymerization initiator and an oxidation preventive, and the content of the oxidation preventive is controlled to the content of the polymerization initiator or below.例文帳に追加

導電性支持体上に感光層及び保護層を順次積層した電子写真感光体において、該保護層が、硬化性官能基を有する化合物を硬化させた樹脂、重合開始剤及び酸化防止剤を含有し、前記酸化防止剤の含有量が前記重合開始剤の含有量以下であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

To provide a process of producing steel member which hardly causes film thickness irregularity of an oxidation-preventive film depending on a portion of a steel member and, as a result, allows a nitrogen-containing compound layer obtained after high-frequency heating to evenly remain, as a method of preventing oxidation of a compound layer due to high-frequency hardening, the compound layer being formed on the surface of a steel material by nitriding.例文帳に追加

鉄鋼材料の表面に窒化処理によって形成された化合物層の高周波焼入れによる酸化を防止する方法であって、部位による酸化防止皮膜の膜厚ムラが生じにくく、その結果、高周波加熱後に得られる窒素含有化合物層が均一に残存することを可能とした製造方法の提供。 - 特許庁

This insert-type barrier layer can prevent oxidation of a capacitor dielectric layer when the capacitor dielectric layer is deposited or in a high temperature process thereafter, resulting in preventing leakage and reliability problems which could be generated when the barrier layer and a memory electrode are brought into direct contact with each other.例文帳に追加

この嵌入式のバリア層は、コンデンサ誘電層を堆積する時、或いはその後の高温過程で、該コンデンサ誘電層が酸化するのを防ぐことができ、これにより、バリア層と記憶電極が直接接触する時に生じうる漏電や信頼度の問題を解決することができる。 - 特許庁

The mating mark for the semiconductor device comprises a recess 38 provided on an insulating layer 80, a conductive layer 32 embedded into the recess 38, and an oxidation barrier layer 42 provided on the conductive layer 32 while the area occupancy of the recess 38 in a plane pattern is not less than 5%.例文帳に追加

本発明の半導体装置の合わせマークは、絶縁層８０に設けられた凹部３８と、凹部３８に埋め込まれた導電層３２と、導電層３２上に設けられた酸化バリア層４２と、を含み、平面パターンにおける凹部３８の面積占有率が５％以上である。 - 特許庁

This manufacturing method of the metal core board comprises an anodic oxidation step for forming an anodic oxide film 2 on a metal plate 1, a polymerization forming step for forming a metal alkoxide polymerization layer 3 on the anodic oxide film 2, and a metal layer forming step for forming a metal layer 4 on the metal alkoxide polymerization layer 3.例文帳に追加

金属板１に陽極酸化皮膜２を形成する陽極酸化工程と、該陽極酸化皮膜２上に金属アルコキシド重合層３を形成する重合層形成工程と、金属アルコキシド重合層３上に金属層４を形成させる金属層形成工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a light emitting element which can suppress or prevent the oxidation of a light emitting layer and a current diffusion layer even if an oxide transparent conductive film is formed on the light emitting layer or the current diffusion layer formed of a compound semiconductor including an Al, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

Ａｌを含む化合物半導体より構成される発光層部あるいは電流拡散層上に酸化物透明導電膜を形成させる場合にも、これら発光層部や電流拡散層の酸化を抑制ないし防止できる発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, after a first metal oxide layer is formed on the surface of the first metal layer which is to be the bottom layer, the surface of base material containing at least one metal layer is subjected to any one of oxidation treatment, nitriding treatment, and oxynitriding treatment so that respective layers have a different element configuration.例文帳に追加

次いで、最下層となる第１金属層の表面に第１金属酸化物層を形成した後に、層間において構成元素が異なるように、一つ以上の金属層を含む下地の表面に対して酸化処理、窒化処理、及び酸窒化処理のいずれかの処理を施す。 - 特許庁

As the semiconductor layer 3, a porous layer in which particulates of titanium oxide TiO_2 are sintered is used, and as the electrolyte layer 5, an organic electrolytic solution containing oxidation reduction species (redox pair) such as I^-/I_3^- is used, and the counter electrode 6 made of a platinum layer 6b or the like is formed on the counter substrate 7.例文帳に追加

半導体層３としては、酸化チタンＴiＯ_2の微粒子を焼結させた多孔質層を用い、電解質層５としては、Ｉ^-／Ｉ_3^-などの酸化還元種（レドックス対）を含む有機電解液を用い、白金層６ｂなどからなる対向電極６を対向基板７の上に形成する。 - 特許庁

In a magnetic layer 11 of a ferromagnetic metallic thin film formed on a non-magnetic supporting body 12, a ratio of oxygen content of the interface oxidation layer 12b (the interface side 50% of magnetic layer thickness) in close proximity to non-magnetic supporting object 12 to the oxygen content of the whole magnetic layer is 30-48%.例文帳に追加

非磁性支持体１２上に形成される強磁性金属薄膜の磁性層１１について、前記磁性層全体の酸素量に対する非磁性支持体１２近接の界面酸化層１２ｂ（磁性層厚みの界面側５０％）の酸素量の比率を３０〜４８％とする。 - 特許庁

A porous layer obtained by sintering fine particles of titanium oxide TiO_2 is used as the semiconductor layer 3, an organic electrolyte containing an oxidation reduction species such as I^-/I_3^- is used as the electrolyte layer 4, and the counter electrode 5 laminated with a platinum layer or the like is installed on the counter substrate 6.例文帳に追加

半導体層３としては、酸化チタンＴiＯ_2の微粒子を焼結させた多孔質層を用い、電解質層４としては、Ｉ^-／Ｉ_3^-などの酸化還元種（レドックス対）を含む有機電解液を用い、対向基板６の上には白金層などが積層された対向電極５を設ける。 - 特許庁

The forming method of the nano structure using the polysilicon layer has a step of flatting the surface of the polysilicon layer, a step of subjecting the flattened polysilicon layer to an activating treatment and a step of subjecting the polysilicon layer to an anodic oxidation using a solution.例文帳に追加

本発明の多結晶シリコン層を用いたナノ構造体の形成方法は、多結晶シリコン層の表面を平坦化する工程と、平坦化された多結晶シリコン層の活性化処理する工程と、多結晶シリコン層に、溶液を用いた陽極酸化をする工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal vapor deposition layer-laminated film in which an additional optical effect is given to the metal vapor deposition layer, or a layer for protecting the metal deposition layer from oxidation is formed additionally on its surface and a metal vapor deposition film by the method.例文帳に追加

金属蒸着層に対してさらに光学的な効果を付与したり、金属蒸着層を酸化から守るための層をその表面にさらに設けた金属蒸着層を積層したフィルムの製造方法及び該方法による金属蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device with a surface of its semiconductor layer of Si, Ge, or the like comprising at least two kinds of semiconductor wafer oxidation treated into a desiable shape, and to provide a manufacturing method capable of effective oxidation treatment.例文帳に追加

少なくとも２種類の半導体からなるＳｉＧｅなどの半導体層の表面を所望の形状に酸化処理を施す半導体装置及びこの酸化処理を効率的に行うことができる製造方法を提供する。 - 特許庁

Gate insulating films 5a and 5b are formed on the surface of a silicon carbide epitaxial layer 3 through a thermal oxidation treatment, and gate insulating films 7a and 7b are formed on the surfaces of gate electrodes 6a and 6b respectively through a thermal oxidation treatment.例文帳に追加

炭化珪素エピタキシャル層３表面に熱酸化処理を施すことによりゲート絶縁膜５ａ，５ｂを形成し、ゲート電極６ａ，６ｂ表面に熱酸化処理を施すことによりゲート絶縁膜７ａ，７ｂを形成する。 - 特許庁

In the first wet oxidation process, wet oxidation at a treatment temperature of about 875°C is performed to an exposed surface of an epitaxial layer 1b through an aperture part 18a of a silicon nitride film 18, and a thin oxide film 6a is formed.例文帳に追加

第１のウエット酸化工程では、エピタキシャル層１ｂの露出面に対して、窒化シリコン膜１８の開口部１８ａを通して約８７５℃の処理温度でのウエット酸化を施すことにより薄い酸化膜６ａを形成する。 - 特許庁

The laminated porous body is manufactured by a process for forming the oxidation resistant coating film on the surface of the porous carbonized material and a process for forming the alkali corrosion resistant layer on the surface of the oxidation corrosion resistant coating film by a vapor phase reaction.例文帳に追加

積層多孔質体は、多孔質炭素化物の表面に耐酸化皮膜を形成する工程と、耐酸化皮膜の表面に耐アルカリ腐食層を気相反応により形成する工程とにより製造することができる。 - 特許庁

In the hydrogen production apparatus, a water evaporation flow path 31 is configured so as to be arranged parallel and adjacent to a selective oxidation reaction unit 8 and to form water vapor by flowing water and recovering heat from a selective oxidation catalyst layer A8.例文帳に追加

水蒸発流路３１は、選択酸化反応部８に隣り合うように並設されると共に、水を流通させて選択酸化触媒層Ａ８から熱を回収して水蒸気を生成するように構成されている。 - 特許庁

The electrode material has excellent resistance to oxidation at high temperatures achieved by containing Y to inhibit the growth of grains at high temperatures, reducing Al and Si to inhibit the expansion, cracking, and peeling of an oxide layer, and containing Ti to inhibit internal oxidation.例文帳に追加

この電極材料は、Yの含有による高温下での粒成長の抑制、Al,Siの低減による酸化物層の膨張・亀裂・剥離の抑制、かつTiの含有による内部酸化の抑制などにより、耐高温酸化性に優れる。 - 特許庁

To improve controllability for an etching process, crystallinity at the time of regrowth and luminous efficiency in a surface emitting laser element of a selective oxidation current constrictive with a controlling system in an oxidation shape by arranging each semiconductor layer with different compositions in a current path and an oxidation area by means of etching and regrowth.例文帳に追加

エッチング及び再成長により電流通路と酸化領域にそれぞれ組成の違う半導体層を設けて酸化形状の制御を行う方式の選択酸化電流狭窄型の面発光型レーザ素子において、エッチング工程の制御性，再成長時の結晶性、および発光効率を向上させる。 - 特許庁

After forming an oxidation silicon film 106 in the temperature conditions to suppress thermal oxidation of the silicon core 131, the oxidation silicon film 106 (silicon substrate 101) is heated under the high-temperature condition of 950°C or higher for starting viscous flow of silicon oxide, and an upper clad layer 161 covering the silicon core 131 is formed.例文帳に追加

シリコンコア１３１の熱酸化が抑制できる範囲の温度条件で酸化シリコン膜１０６を形成した後、酸化シリコンの粘性流動が起こり始める９５０℃以上の高温条件で、酸化シリコン膜１０６（シリコン基板１０１）を加熱し、シリコンコア１３１を覆う上部クラッド層１６１を形成する。 - 特許庁

The sheet 1 for preventing the degradation of the grain is composed of a base material 2 and an anti-oxidation layer 3 prepared by mixing an anti-oxidation mixture 3d composed of an anti-oxidation material 3a, paste 3b, diatomite 3c and water sufficiently and coating the mixture on the base material 2 and drying and fixing it.例文帳に追加

本発明は、上記課題を解決するために、基材２と、前記基材２に抗酸化物質３ａと糊３ｂとケイ藻土３ｃと水からなる抗酸化混合物３ｄを充分混合し、塗布、乾燥し固定した抗酸化層３とからなることを特徴とする穀物の劣化防止シート１の構成とした。 - 特許庁