「oxidation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The SOI wafer is subjected to rounding oxidation by thermal oxidation treatment, and a silicon oxide film 9 is formed on a region corresponding to a bottom surface and a side surface of the trench 7 in the BOX layer 3.例文帳に追加

次に、ＳＯＩウエハに熱酸化処理を施して丸め酸化を行い、ＢＯＸ層３における溝７の底面及び側面に相当する領域にシリコン酸化膜９を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor oxidation apparatus which can control properly the amount of oxidations by maintaining the amount of the oxidations of a selective oxidation layer uniformly in a surface and to provide a method of manufacturing a semiconductor element.例文帳に追加

被選択酸化層の酸化量を面内で均一に保ち、酸化量を適正に制御できる半導体酸化装置及び半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The electron transporting layer is formed including an organic compound having an oxidation-reduction part capable of repetition redox and an electrolyte solution which stabilizes reduced state of the oxidation-reduction part.例文帳に追加

電子輸送層は、繰り返し酸化還元が可能な酸化還元部を有する有機化合物と、酸化還元部の還元状態を安定化させる電解質溶液を含んで形成されている。 - 特許庁

Two conductive polymer films forming one portion of a conductive polymer layer are formed in two solutions having different pHs due to electrolytic oxidation polymerization or chemical oxidation polymerization.例文帳に追加

導電性高分子層の一部となる２つの導電性高分子膜を、ｐＨが異なる２つの溶液内で、共に電解酸化重合により、または共に化学酸化重合により形成する。 - 特許庁

In this carrying roll, a cylindrical body 20 formed of carbon material having a oxidation-resistant carbon material or an oxidation-protective layer is tightly fixed to the surface of a carbon core 22.例文帳に追加

カーボン芯２２の表面に、耐酸化性炭素質材料又は耐酸化保護層を有する炭素質材料からなる円筒体２０が密着、固定されてなる搬送用ロールである。 - 特許庁

The metal covering 30 of a ceramic 10 includes a base layer 12 having a metal, an adhesive layer 14 containing palladium and having a layer thickness between 0.1 to 5 μm, a solderable layer 16 of a non-magnetic material, and an oxidation protective layer 20, wherein the material of the adhesive layer 14 is different from that of the solderable layer 16.例文帳に追加

セラミック１０用の金属被覆３０は、金属を有する基底層１２と、パラジウムを含み、層厚さが０．１〜５μｍの間にある接着層１４と、非強磁性材質のはんだづけ可能層１６と酸化保護層２０とを含み、接着層１４の材質がはんだづけ可能層１６の材質と異なる。 - 特許庁

Furthermore, on the primary GaN layer 103 and the primary oxidation layer 104, there are formed a secondary GaN layer 105, an n-type cladding layer 106, an activity layer 107, a p-type cladding layer 108, a p-type contact layer 109, an insulating film 110, a p-type electrode 111, a p-type pad 112, and a p-type electrode 113.例文帳に追加

さらに、第１のＧａＮ層１０３及び第１の酸化層１０４の上には、第２のＧａＮ層１０５、ｎ型クラッド層１０６、活性層１０７、ｐ型クラッド層１０８、ｐ型コンタクト層１０９、絶縁膜１１０、ｐ型電極１１１、ｐ型パッド１１２、Ｐ型電極１１３が形成されている。 - 特許庁

In the second wet oxidation process, oxidation of the epitaxial layer 1b is made to progress in the state that a thermal treatment temperature of the above wet oxidation is raised up to about 1050°C, and the trench part LOCOS oxide film 6 of about 950 nm in thickness is finally formed.例文帳に追加

第２のウエット酸化工程では、上記ウエット酸化の熱処理温度を、約１０５０℃に上げた状態でエピタキシャル層１ｂの酸化を進行させ、最終的に膜厚が９５０ｎｍ程度の溝部ＬＯＣＯＳ酸化膜６を形成する。 - 特許庁

To provide a tool and method for coating a hard film with high resistance to oxidation, capable of improving oxidation resistance and abrasion resistance, as compared to the conventional hard film, exhibiting sufficient oxidation resistance and abrasion resistance with a single layer, and attaining high compatibility with dry and high speed cutting.例文帳に追加

従来の硬質皮膜に対し、更に耐酸化性、耐摩耗性を改善し、単層で十分な耐酸化性及び耐摩耗性を発揮し、切削加工の乾式化、高速化に対応した硬質皮膜被覆工具及び硬質膜被覆方法を提供。 - 特許庁

Moreover, part of the outer circumferential side of the current constriction layer 31 is oxidized to form an oxidation region 31a and the area of a current constriction region 31b surrounded by the oxidation region 31a is formed gradually smaller from the DBR layer 22 toward the active layer 21.例文帳に追加

そして、電流狭窄層３１の外周側の一部を酸化させて酸化領域３１ａとするとともに、酸化領域３１ａで囲まれる電流狭窄領域３１ｂの面積がＤＢＲ層２２側から活性層２１側に向けて徐々に小さくなるようにする。 - 特許庁

The progress of the oxidation of a copper (Cu) interconnection layer 104 is suppressed by supplying oxygen plasma 105 to the surface layer thereof thereby forming an oxidation layer 106 where the number of CuO bonds is larger than that of Cu_2O bonds (e.g. CuO bonds occupy 50% or more).例文帳に追加

銅（Ｃｕ）配線層１０４の表層部に、酸素プラズマ１０５を供給して、Ｃｕ_2Ｏ結合よりも、ＣｕＯ結合が多い状態の酸化層１０６（例：ＣｕＯ結合の占める割合が５０％以上）を形成し、銅（Ｃｕ）配線層１０４の酸化の進行を抑制する。 - 特許庁

This optical element molding die includes the substrate having a surface with a standard electrode potential getting negative in an oxidation reaction, a protection layer with the standard electrode potential getting positive, provided on the substrate, and an aluminum anodic oxidation layer provided on the protection layer.例文帳に追加

酸化反応における標準電極電位が負である表面を持つ基板と、前記基板の上に設けられた前記標準電極電位が正となる保護層と、前記保護層の上に設けられたアルミニウム陽極酸化層と、を有することを特徴とする光学素子成形用金型。 - 特許庁

By this method, an oxidation barrier layer is formed on a sidewall of the DT provided in the semiconductor substrate, a photoresist layer of specific depth is provided in the trench to remove the oxidation barrier layer to specific depth and expose the trench sidewall, and the remaining photoresist is removed.例文帳に追加

本発明の方法は、半導体基板内に設けられたＤＴの側壁上に酸化障壁層を形成し、トレンチ内に所定の深さのフォトレジスト層を設け、酸化障壁層をその所定の深さまで除去して、トレンチ側壁を露出させ、残りのフォトレジストを除去する。 - 特許庁

The oxidation film forming method is provided, in which, beforehand, the surface roughness of a silicon wafer and/or the crystallinity of the surface layer of the silicon wafer is measured, the oxidation conditions of the silicon wafer is adjusted according to the measured value, and the oxidation film is formed in the silicon wafer under the adjusted oxidation conditions.例文帳に追加

シリコンウェーハの酸化膜形成方法であって、予め、シリコンウェーハの表面ラフネス、及び／又は、シリコンウェーハ表層部の結晶性を測定し、測定値よりシリコンウェーハの酸化条件を調整して、調整した酸化条件下でシリコンウェーハに酸化膜を形成するシリコンウェーハの酸化膜形成方法を提供する。 - 特許庁

On the surface of the base material part 10 of each member, an anodically oxidized coating film layer 11 has been formed by an anodic oxidation method.例文帳に追加

各部材の基材部１０表面には、陽極酸化法により陽極酸化被膜層１１が形成されている。 - 特許庁

Moreover, the small band gap layer 10 comprises a material, having oxidation resistance, e.g. GaAs or InGaAs.例文帳に追加

また、スモールバンドギャップ層１０を、耐酸化性を有する材料例えばＧａＡｓまたはＩｎＧａＡｓによって構成する。 - 特許庁

A strippable layer 31 is formed on a surface of a master stamper 27 by the oxidation treatment of the master stamper 27 in a vacuum device 30.例文帳に追加

マスタースタンパ２７を真空装置３０内で酸化処理して、マスタースタンパ２７の表面に剥離層３１を形成する。 - 特許庁

Thus, the grain size of the metal particle included in the second layer 14 is set to at least 0.5 μm, and hence oxidation cannot occur easily.例文帳に追加

これによって、第２の層１４に含まれる金属粒子の粒径を０．５μｍ以上とし、酸化されにくくする。 - 特許庁

The coating layer is constituted of a metal having a melting point higher than that of the core material by ≥300°C and an oxidation resistance higher than that of copper.例文帳に追加

被覆層は芯材よりも融点が３００℃以上高く銅よりも耐酸化性に優れた金属で構成する。 - 特許庁

In the 2nd step, an under coating layer of the anode oxidation coatings is formed by anode oxidizing the surface of the conductive substrate.例文帳に追加

第２工程で、導電性基体の表面に陽極酸化処理により陽極酸化皮膜の下引き層を形成する。 - 特許庁

The protective layer has the effect of preventing the oxidation of wiring by covering the wiring, the effect of insulation from the outside, and a scratch prevention effect.例文帳に追加

保護層は配線を覆うことによって配線の酸化防止効果、外部との絶縁効果、傷防止効果を有する。 - 特許庁

To provide a cutting tool insert whose properties of oxidation resistance, surface roughness, layer toughness, wear resistance or the like are increased.例文帳に追加

耐酸化性、表面粗さ、層靭性、耐摩耗性等の特性を向上させた切削工具インサートを提供する。 - 特許庁

To form each metal layer constituting a plurality of first electrodes into a desired shape with good accuracy while suppressing oxidation.例文帳に追加

複数の第１電極を構成する各金属層を、酸化を抑制しながら、精度良く所望の形状に形成する。 - 特許庁

The rubber molding 1 has an oxidation layer 2 prepared by oxidizing the diene rubber on at least part of the surface thereof.例文帳に追加

ゴム成形体１は、その表面の少なくとも一部に、上記ジエン系ゴムが酸化されてなる酸化層２を有している。 - 特許庁

The chip is coated with an ion nonpermeable insulation film 125 to restrain a cation from being intruded through an oxidation film layer.例文帳に追加

また、酸化膜層を通じての陽イオンの侵入を抑制するために、イオン非透過性絶縁膜１２５によりチップを覆う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a secondary lithium battery, by which the oxidation and moisture absorption of an activator layer can be prevented.例文帳に追加

活物質層の酸化および吸湿を防止することが可能なリチウム二次電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an endoscope which shows excellent resistances against oxidation degradation, heat aging, and hydrolysis in an adhesive layer.例文帳に追加

接着剤層の耐酸化劣化性、耐熱老化性、及び耐加水分解性に優れた内視鏡装置を提供すること。 - 特許庁

To provide wiring that suppresses oxidation of a copper wiring layer and diffusion of copper while securing excellent shape controllability.例文帳に追加

良好な形状制御性を確保しつつ、銅配線層の酸化および銅の拡散を抑制できる配線を提供する。 - 特許庁

An oxidation region 34 selectively oxidized from a side surface of the hole 30 is formed to the semiconductor oxidized layer 32.例文帳に追加

半導体被酸化層３２には、孔３０の側面から選択的に酸化された酸化領域３４が形成されている。 - 特許庁

In this situation, the degree of oxidation of each layer is successively decreased by decreasing the plasma discharge output from the first layer to the uppermost layer step by step when manufacturing each layer to deposit a compound thin film with the gas barrier properties mainly comprising silicon oxides.例文帳に追加

その場合、各層の製膜時にプラズマ放電出力を第１層から最上層にかけて段階的に減少させて各層の酸化度を順次減少させ、酸化珪素を主体とする複層ガスバリア性薄膜を形成する。 - 特許庁

A tungsten nitride (WN) layer 114 is formed on sidewalls of a tungsten (W) layer 110a for a control gate, and the cross section of the tungsten layer 110a is increased while preventing abnormal oxidization of the tungsten layer 110a in a subsequent annealing process.例文帳に追加

コントロールゲート用タングステン膜(W)１１０ａの側壁にタングステン窒化膜(WN)１１４を形成し、後続のアニーリング工程時にタングステン膜１１０ａの異常酸化(abnormal oxidation)を防止しながらタングステン膜１１０ａの断面積を増加させる。 - 特許庁

Since the upper face of a p-AlInAs clad layer 7 is directly covered by a p-InGaAsP etch-stopper layer 8, the p-AlInAs clad layer 7 is not exposed to atmospheric air during processing, therefore no reliability problem due to oxidation of the p-AlInAs clad layer 7 occurs.例文帳に追加

p-AlInAsクラッド層７の直上はp-InGaAsPエッチングストッパ層８に覆われているため、p-AlInAsクラッド層７がプロセス途中で大気中に露出することがないので、p-AlInAsクラッド層７の酸化に起因する信頼性の問題は発生しない。 - 特許庁

A nickel layer 4 with a thickness of approximately 100 nm is formed on a main surface of a silicon layer 3 by the sputtering method, and a titanium nitride layer 5 with a thickness of 300-500 nm is formed on a main surface of the nickel layer 4 as an oxidation protective layer by the sputtering method.例文帳に追加

シリコン層３の一方主面上に厚さ約１００ｎｍのニッケル層４を、スパッタリング法によって形成し、さらに、ニッケル層４の一方主面上に酸化保護層として厚さ３００〜５００ｎｍの窒化チタン層５を、スパッタリング法によって形成する。 - 特許庁

Further, oxidation for rounding the upper surface edge of the Si layer 2 is carried out in the state that the upper surface edge of the Si layer 2 is exposed, and the lower surface edge of the Si layer 2 is covered with the side wall 18.例文帳に追加

さらに、Ｓｉ層２の上面エッジ部を丸めるための酸化を、Ｓｉ層２の上面エッジ部を露出させ，Ｓｉ層２の下面エッジ部をサイドウォール１８によって覆った状態で行なう。 - 特許庁

The uppermost part of the buried layer 111 contains Al, a buried protective layer whose Al composition ratio is smaller than that of the uppermost part of the buried layer 111 is provided thereon so as to protect a re-grown interface 132b against oxidation.例文帳に追加

また、埋め込み層１１１の少なくとも最上部がＡｌを含み、その上にそれよりもＡｌ組成比が小さい埋め込み保護層を設けて再成長界面１３２ｂの酸化を防ぐ。 - 特許庁

The adsorption layer has hydrocarbon adsorbent particles, the hydrocarbon adsorbent particle content of the adsorption layer being higher than the hydrocarbon adsorbent particle content of the oxidation catalyst layer.例文帳に追加

また、吸着層は、炭化水素吸着材粒子を有し、かつ吸着層における炭化水素吸着材粒子の含有率が、酸化触媒層における炭化水素吸着材粒子の含有率よも大きい。 - 特許庁

The separator 14 with a heat-resisting insulating layer includes a polyolefin layer 14A, and the heat-resisting insulating layer 14B including a heat-resistant resin and oxidation-resistant ceramic particles on its one side or both sides.例文帳に追加

耐熱絶縁層付きセパレータ１４は、ポリオレフィン層１４Ａと、その片面又は両面に耐熱性樹脂及び耐酸化性セラミック粒子を含有する耐熱絶縁層１４Ｂとを備える。 - 特許庁

The exhaust gas from a lean-burn internal-combustion engine is cleaned by using a porous, multilayer-structured and functional catalyst (having a NOx oxidation catalyst layer/a NOx adsorbent layer/a NOx selective reduction catalyst layer).例文帳に追加

リーンバーン内燃機関の排ガスを多孔性の多層構造機能性触媒［ＮＯｘ酸化触媒層／ＮＯｘ吸着剤層／ＮＯｘ選択還元触媒層］によって浄化処理する。 - 特許庁

To prevent a magnetic recording layer in an anodic oxidation process from peeling off without using a soft magnetic oxide such as ferrite as a soft magnetic layer which constitutes a lower layer in a perpendicular magnetic recording medium.例文帳に追加

垂直磁気記録媒体に関し、下部層を構成する軟磁性層としてフェライト等の軟磁性酸化物を使用することなく陽極酸化工程における磁気記録層の剥離を防止する。 - 特許庁

An insulating layer and a conductive layer are successively formed on the rear of a substrate 301, a plurality of pairs of facing grooves are formed on the substrate 301, and the insulating layer 305 is formed on the side of the groove through thermal oxidation.例文帳に追加

基板３０１の裏面に絶縁層及び導電層を順に形成した後、基板３０１に複数対の対向する溝を形成し、熱酸化により溝の側面に絶縁層３０５を形成する。 - 特許庁

This combined catalytic filter is obtained by sticking an oxidation catalyst layer closely to a photocatalyst layer containing the photocatalytic agent and used by arranging the photocatalyst layer on the windward side.例文帳に追加

光触媒剤を含有する光触媒層と酸化触媒層を密着させてなる複合フィルターであり、光触媒層が風上側に設置されて使用されることを特徴とする複合触媒フィルター。 - 特許庁

A porous layer into which particles of titanium oxide TiO_2 are sintered is used as the semiconductor layer 3, and an organic electrolyte which contains oxidation reduction species (redox pair) such as I^-/I_3^- is used as the electrolyte layer 5.例文帳に追加

半導体層３として酸化チタンＴi Ｏ_2 の微粒子を焼結させた多孔質層を用い、電解質層５としてＩ^- ／Ｉ_3 ^- などの酸化還元種（レドックス対）を含む有機電解液を用いる。 - 特許庁

At least one of the emitter layer 4 and the collector layer 6 comprises a semiconductor layer containing aluminum, and a selective oxidation region 3 containing aluminum and a semiconductor region 4 surrounded with it are provided.例文帳に追加

エミッタ層4とコレクタ層6の少なくとも１つの層が、アルミニウムを含む半導体層から成り、アルミニウムを含む選択酸化領域3と該選択酸化領域3に囲まれた半導体領域4とを有している。 - 特許庁

The diode 4 is an oxide semiconductor of two layer structure film having a first layer mainly containing a zinc oxide formed by the low temperature oxidation of the copper-zinc alloy, and a second layer which is mainly a copper oxide.例文帳に追加

ダイオード４は、銅−亜鉛合金を低温酸化して、形成された亜鉛酸化物を主とする第一層と銅酸化物を主とする第二層とを備えた二層構造膜の酸化物半導体である。 - 特許庁

Then, in a state held at 800-850°C, the silicide layer is burned by wet oxidation method in the mixed atmosphere of the oxygen and the hydrogen in the state held at 800-850°C, and an oxide film is formed in the interface between the glass layer and the diffused layer.例文帳に追加

その後、８００〜８５０℃に保持した状態で酸素と水素の混合雰囲気中のウェット酸化法により、シリサイド層を燃焼させ、ガラス層と拡散層との界面に酸化膜を形成する。 - 特許庁