「oxidation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

While a plasma is fed to the surface of an aluminum layer 53 by using a method of radical oxidation, oxygen is supplied from OSL40 prepared in the opposite side of the surface, so that the aluminum layer 53 is subjected to an oxidation treatment from both sides.例文帳に追加

ラジカル酸化法を用いてアルミニウム層５３の表面にプラズマを供給する一方で、その表面と反対側に設けたＯＳＬ４０から酸素を供給することにより、アルミニウム層５３に対してその両面から酸化処理を施す。 - 特許庁

A laminate for printed circuits (2) is constituted by forming a conductive layer (14) via an insulating layer (13) at the side wherein the anodic oxidation coatings (11) of the thin aluminum substrate (1) are formed.例文帳に追加

またプリント回路用積層板(2)は、前記アルミニウム基板(1)の薄い陽極酸化皮膜(11)が形成された側に、絶縁層(13)を介して導電層(14)が形成されてなる。 - 特許庁

The reflection electrode consisting of a metal layer capable of anodic-oxidation is partially anodically oxidized to protrude an anodically oxidized layer in a projected shape on the surface of the reflection electrode.例文帳に追加

陽極酸化可能な金属層よりなる反射電極を部分的に陽極酸化して反射電極の表面に凸状に陽極酸化層を突出させる。 - 特許庁

Finally, the SiGe layer 3 is etched through the opening surface H to form a cavity between the Si layer 5 and the Si substrate 1 and a thermal oxidation film is formed in the cavity.例文帳に追加

その後、開口面Ｈを介してＳｉＧｅ層３をエッチングして、Ｓｉ層５とＳｉ基板１との間に空洞部を形成し、空洞部内に熱酸化膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a fuel cell, which suppresses unusual oxidation during firing of an electrolyte layer and suppresses cracking and peeling of the electrolyte layer.例文帳に追加

電解質層の焼成時に金属基材の異常酸化を抑制しつつ、電解質層のひび、剥がれ等を抑制する燃料電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an AlGaInP light emitting element having high reliability by preventing deterioration of a window layer due to stress and oxidation of an active layer, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

活性層の応力の発生と酸化によるウィンドウ層の劣化を防止して信頼性の高いＡｌＧａｌｎＰ系発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A Cu-added solder ball bump 6 is placed on the oxidation prevention layer 4, which is thermally treated in a temperature range of 190-220°C to be welded to the Ni junction layer 3.例文帳に追加

そして、Ｃｕ添加ハンダボールバンプ６を上記酸化防止層４に載置し１９０℃〜２２０℃の範囲温度で熱処理を施しＮｉ接合層３に溶融接合する。 - 特許庁

To manufacture a highly reliable substrate, in which damages to an active layer and dislocations of the crystal due to influence of natural oxidation of an AlxGa1-xAs layer during etching do not occur.例文帳に追加

Ａｌ_xＧａ_1-xＡｓ層のエッチング時の自然酸化による影響で活性層の損傷、結晶の転移が発生せず、信頼性の高いものを製造すること。 - 特許庁

The methods involve depositing a barrier layer on the germanium substrate to prevent oxidation of the germanium substrate, when forming a dielectric layer on the germanium substrate (step 130).例文帳に追加

ゲルマニウム基板上に誘電層を形成する場合のゲルマニウム基板の酸化を防止するためにゲルマニウム基板上にバリア層を堆積するステップ１３０を伴う。 - 特許庁

The layer surface of the porous oxidized film layer 2 formed by the soft nitriding treatment and oxidation treatment on the ferrous metallic component is crushed by a pressing means 3 to form a smooth surface 2A.例文帳に追加

軟窒化処理及び酸化処理により鉄系金属部品に形成した多孔質の酸化皮膜層２の層面を押圧手段３にて押しつぶし、平滑面２Ａを形成する。 - 特許庁

At the same time, the oxidation fuel component of the fuel generated is supplied to the anode electrode layer, and air is supplied to the cathode electrode layer, and the fuel battery cell generates power.例文帳に追加

同時に、生成された燃料の酸化燃料成分がアノード電極層に供給され、カソード電極層には、空気が供給され、燃料電池セルが発電する。 - 特許庁

To provide an electrode substrate of a flat panel display with a protection layer which can prevent the oxidation of a conductive thin-film layer and control the shape of etched wiring.例文帳に追加

導電薄膜層の酸化を防ぐとともにエッチングされた配線の形状を制御できる、保護層を有するフラットパネルディスプレイの電極基板を提供する。 - 特許庁

The seed layer can be formed by an organic metal deposition method, spray pyrolysis method, RF sputtering method, or spin-on method, such as oxidation of the seed layer, as an alternative method.例文帳に追加

シード層は、代替の方法として、有機金属堆積法、スプレイ熱分解法、ＲＦスパッタリング法またはシード層の酸化などのスピンオン法によって形成されることが出来る。 - 特許庁

The oxidation layer 202 can be formed by, for example, irradiating the surface of the SOI layer 201 with an electron cyclotron resonance (ECR) plasma of oxygen gas for about 4 minutes.例文帳に追加

例えば、酸素ガスの電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）プラズマを、ＳＯＩ層２０１の表面に４分程度照射することで、酸化層２０２を形成することができる。 - 特許庁

The nitrogen introduction layer 7 functions as a barrier layer for preventing the oxidation agent under vapor phase during a thermally processing process from diffusing within the silicon oxide film 6.例文帳に追加

この窒素導入層７は、熱処理工程で気相中の酸化剤（酸素、水など）が酸化シリコン膜６の内部に拡散するのを防ぐバリア層として機能する。 - 特許庁

The nanocrystalline silicon memory film 110 is formed by depositing an amorphous silicon layer by use of the CVD method and performing thermal oxidation processing on part of the amorphous silicon layer.例文帳に追加

ナノ結晶シリコンメモリ膜１１０はＣＶＤ法を用いて非晶質シリコン層を堆積し、非晶質シリコン層の一部を熱酸化処理することによって形成される。 - 特許庁

To provide a reactor in which the temperature of a catalyst layer is made as uniform as possible when an oxidation reaction for removing carbon monoxide in a gas by the catalyst layer is carried out .例文帳に追加

ガス中の一酸化炭素を触媒層で除去する酸化反応が行われるときに触媒層をできるだけ均一な温度にする反応器を提供する。 - 特許庁

A low oxidation concentration layer of indium tin oxide whose oxygen concentration is low as compared with that of the other part is arranged in the vicinity of an interface between the transparent electrode and the doped layer.例文帳に追加

透明電極とドープ層との界面近傍に、それ以外の部分と比べて酸素濃度を少なくしたインジウム錫酸化物の低酸化濃度層を設ける。 - 特許庁

An oxidation inhibitor contained in the outermost layer of the electrophotographic photoreceptor is the same material as an oxidation inhibitor added when the image forming apparatus comprising the electrophotographic photoreceptor is formed.例文帳に追加

電子写真感光体の最外層に含有される酸化防止剤と電子写真感光体を具備する画像形成装置を成型せうる際に添加する酸化防止剤が同一であることを特徴とする。 - 特許庁

To suppress abnormal growth due to oxidation of an end surface of an exposed core layer by suppressing the oxidation of the end surface in selective growth and eliminating the need to use a halogen-based gas before the selective growth.例文帳に追加

選択成長において、露出しているコア層の端面の酸化を抑制し、選択成長前にハリゲン系ガスを用いる必要をなくし、端面の酸化に起因する異常成長を抑制する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of conducting a sidewall oxidation of a polysilicon layer of a gate without using a selective oxidation and forming a shallow junction of an extension region.例文帳に追加

選択酸化を用いずにゲート部のポリシリコン層の側壁酸化を行うことができ、かつエクステンション領域の浅い接合形成を可能とする半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The invention relates to the specific oxidation agent obtained by the method, to a mixture comprising such a specific (retardation) oxidation agent and also to the use of them in production of a solid electrolyte capacitor and a conductive layer.例文帳に追加

本発明は、該方法によって得られる酸化剤、この種の特定（遅延）酸化剤を含有する混合物、および固体電解質コンデンサーおよび導電層の製造におけるその使用にも関する。 - 特許庁

To provide a heat-resistant alloy having a coating structure superior in oxidation resistance by preventing a surface oxide layer for shielding oxygen from exfoliating from an inner alloy and thereby inhibiting the oxidation of the inner alloy from proceeding.例文帳に追加

酸素を遮断する表面酸化物層と内部合金とのはく離、および酸化の進行を抑制することにより、耐酸化性に優れた被覆構造を有する耐熱合金を提供する。 - 特許庁

A step of degenerating the amorphous silicon layer 70 to a thermal oxide film 71 by thermal oxidation to block an opening 72 is included.例文帳に追加

アモルファスシリコン層７０を熱酸化により熱酸化膜７１へ変質することで、開口部７２を閉塞する工程を備える。 - 特許庁

Oxidation of the negative electrode active material layer 12 is suppressed by the coating 13, and the decomposing reaction of an electrolyte is suppressed.例文帳に追加

被膜１３により、負極活物質層１２の酸化が抑制されると共に、電解液の分解反応が抑制される。 - 特許庁

The silver oxide 140 is formed as the covering layer by conducting the heat treatment in the oxidation atmosphere and oxidizing the surface area of fine particle.例文帳に追加

酸化雰囲気中で熱処理をして、微粒子の表面部分を酸化して、被覆層としての酸化銀１４０を形成する。 - 特許庁

By the covering layer 40, corrosion and formation of a surface oxidation film of the first electrode 13 and the auxiliary wiring 17 are suppressed.例文帳に追加

被覆層４０により、第１電極１３および補助配線１７の腐蝕や表面酸化膜の生成が抑えられる。 - 特許庁

By this means, the first oxide film 41 is prevented from entering a grain boundary of the first polysilicon layer 40 in the first oxidation.例文帳に追加

これにより、１回目の酸化で第１酸化膜４１を第１ポリシリコン層４０の粒界部に入り込ませないようにする。 - 特許庁

An oxidation preventing layer 8 of gold and the like is formed on the top surface of the pillar-shaped bump or a part of the top surface and a side surface.例文帳に追加

柱状バンプの上面もしくは上面および側面の一部に金等からなる酸化防止層８を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method wherein the oxidation of a metal layer can be prevented and treating stages are simple and to provide a substrate treatment system.例文帳に追加

金属層の酸化を防止することができ、かつ、処理工程が簡易な基板処理方法およびそのシステムを提供する。 - 特許庁

In the oxidation step, the treatment of oxidizing the cured layer formed on the surface of the resist film pattern by the ion injection is performed.例文帳に追加

酸化工程では、イオン注入によりレジスト膜パターンの表面部に形成された硬化層を酸化する処理が実施される。 - 特許庁

This oxidation-resistant noble metal seed layer has a low C content or a low nitrogen content, or the both.例文帳に追加

本発明の耐酸化性貴金属シード層は、低いＣ含有量または低い窒素含有量あるいはその両方を有する。 - 特許庁

A catalyst layer 16a having an oxidation catalyst is arranged to an exhaust passage 16 which is on an upstream side of the supercharger.例文帳に追加

また、過給器よりも上流側の排気通路１６に、酸化触媒を有する触媒層１６ａが設けられている。 - 特許庁

Full oxidation of the metal, metal alloy, metal compound or intermetallic layer occurs within several days after exposure to air.例文帳に追加

該金属、金属合金、金属化合物、又は金属間化合物層は、空気に曝された後、数日以内に完全に酸化する。 - 特許庁

To provide an electrolytic capacitor anode etched with organic acid prior to anodic oxidation of anode to produce a dielectric layer.例文帳に追加

誘電体層を生成するためにアノードの陽極酸化の前に有機酸でエッチングされた電解コンデンサアノードを提供する。 - 特許庁

The formation of the hydrotreated layer enables the germanium-deposited film to contain hydrogen atoms and thereby improves its resistance to oxidation degradation.例文帳に追加

前記水素処理層によって、ゲルマニウム蒸着膜に水素原子が含有されるため、酸化劣化に対する耐性が向上する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laser diode capable of preventing aluminum oxidation occurred at the interface of a layer containing aluminum.例文帳に追加

アルミニウムを含む層の界面で生じるアルミニウム酸化を防止することが可能なレーザーダイオードの製造方法を提供する。 - 特許庁

A catalyst layer (5) which keeps the low-temperature oxidation catalyst fixed to a substrate wall surface (4) with a binding component is formed inside the ventilation flue (3).例文帳に追加

低温酸化触媒を粘結成分で基材壁面(４)へ固定した触媒層(５)を、通風路(３)の内面に形成する。 - 特許庁

Oxidation is performed in the state that an upper surface edge part of the Si layer 2 is exposed by eliminating the side wall 8.例文帳に追加

そして、ダミーサイドウォール８を取り除くことによってＳｉ層２の上面エッジ部を露出させた状態で酸化を行う。 - 特許庁

An STI groove 60 is formed on the N-type epitaxial layer 3, and a thermal oxidation film 6 is formed on the concave inner surface of the STI groove 60.例文帳に追加

Ｎ型エピタキシャル層３にはＳＴＩ溝６０が形成され、その凹部内面には熱酸化膜６が形成されている。 - 特許庁

After that, the amorphous silicon continous film 206 is made polycrystal through heat treatment or oxidation to form a polycrystalline silicon layer 210.例文帳に追加

その後、熱処理または酸化処理を通して非晶質シリコン連続膜206を多結晶化して多結晶シリコン層210を形成する。 - 特許庁

Methods of protecting a surface of a copper layer or a copper bonding pad on a semiconductor device against oxidation are provided.例文帳に追加

本発明は、半導体デバイス上の銅層又は銅ボンディングパッドの表面を酸化に対して保護する方法を提供する。 - 特許庁

On the surface of a base material part 10 made of a magnesium alloy, an anodically oxidized coating film layer 11 is formed by an anodic oxidation method.例文帳に追加

マグネシウム合金製の基材部１０表面には、陽極酸化法により陽極酸化被膜層１１が形成されている。 - 特許庁

The method of manufacturing the membrane-electrode assembly includes the steps of: forming the oxidation electrode having the first main catalyst layer, the second main catalyst layer, and the auxiliary catalyst layer positioned between the main catalyst layers; forming the reduction electrode; and forming the polymer electrolyte membrane between the second main catalyst layer of the oxidation electrode and the reduction electrode.例文帳に追加

また、膜-電極接合体の製造方法は、第１の主触媒層、第２の主触媒層、及び主触媒層らの間に位置する助触媒層を備える酸化電極を形成する段階、還元電極を形成する段階、及び、酸化電極の第２の主触媒層と還元電極との間に高分子電解質膜を形成する段階を含む。 - 特許庁

In the fiber reinforced refractory, a fiber bonded layer formed by bonding a unidirectional bundle, a twisted string or a woven fabric having higher tensile strength than that of the refractory is arranged on a part or the whole surface of the refractory, an oxidation preventing base layer is arranged on the surface of the fiber bonded layer and an oxidation preventing layer is arranged thereon.例文帳に追加

耐火物の表面の一部または全体に、該耐火物よりも引張強度の高い繊維からなる一方向の束、撚り紐あるいは織物が接着された繊維接着層が配置され、その表面に、酸化防止下地層が配置され、さらにその表面に酸化防止層が配置されたことを特徴とする繊維強化耐火物。 - 特許庁