「selection ratio」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A recognition dictionary having the highest recognition ratio is selected, and its dictionary data DIC are read by a dictionary selection section 23, transmitted to the character recognition device 10, and stored in a recognition dictionary 15.例文帳に追加

認識率が最も高い認識辞書が選択され、その辞書データＤＩＣが辞書選択部２３によって読み出され、文字認識装置１０へ送信されて認識辞書１５に格納される。 - 特許庁

To provide a method for forming a mask pattern in an easy process so as to increase the etching selection ratio for a material to be etched (such as a metal film to be etched) comparable with a hard mask.例文帳に追加

ハードマスクに匹敵する被エッチング材料（例えば金属からなる被エッチング膜）とのエッチング選択比を大きくすることが可能なマスクパターンを簡単な工程で形成する方法を提供する。 - 特許庁

There is formed a frame-like member 9 which consists of a material with a larger etching selection ratio compared with the LOCOS oxide film 3 from a top face of the gate-metal interlayer film 5 to the silicon substrate 1.例文帳に追加

ゲート−メタル層間膜５の上面からシリコン基板１に到達して、ＬＯＣＯＳ酸化膜３と比べてエッチング選択比の大きい材料からなる枠状部材９が形成されている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for improving the selection ratio of a low dielectric constant insulating film and an etching mask layer without increasing the thickness of the etching mask layer such as an etching stopper film.例文帳に追加

エッチングストッパ膜などのエッチングマスク層の厚みを増加することなく、低誘電率絶縁膜とエッチングマスク層との選択比を高めることが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the step in the boundary face between films by realizing dry etching under a given condition and to execute a good shape transfer by not forming sidewall protective films while keeping the selection ratio against a resist.例文帳に追加

一定条件でのドライエッチングを可能にして膜の境界面の段差を無くし、側壁保護膜を形成しないことによって対レジスト選択比を維持しながら良好な形状転写を可能にする。 - 特許庁

The ratio of selection of a displayed pattern to be stopped is changed in accordance with the number or the behavior of game balls entering the variable winning device 3 after the variable winning device 3 begins to operate.例文帳に追加

そして、可変入賞装置３の作動開始後可変入賞装置３に入賞した遊技球の個数または挙動に応じて、停止される表示図柄の抽選比率が変更される。 - 特許庁

To provide a plasma etching method for improving the selection ratio of a silicon oxide film for amorphous carbon more than that of the related art, a plasma etching apparatus, a control program, and a computer storage medium.例文帳に追加

アモルファスカーボンに対するシリコン酸化膜の選択比を従来に比べて向上させることのできるプラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置、制御プログラム及びコンピュータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide new etching gas which is superior in a resist selection ratio or etching performance of a work shape, and also easy to be obtained and does not substantially and secondarily generate CF_4 which applies load to an environment.例文帳に追加

本発明は、対レジスト選択比や加工形状のエッチング性能に優れるだけでなく、入手が容易で、環境に負荷をかけるＣＦ_4を実質的に副生しない新規なエッチングガスを提供する。 - 特許庁

While etching the first layer 5, the second layer 6 is formed of a material having an etching selection ratio where the second layer 6 functions as a mask of the first layer 5.例文帳に追加

そして、前記第一層５に対するエッチングの間は前記第二層６が当該第一層５のマスクとして機能するエッチング選択比を有した材料によって、当該第二層６を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a ferroelectric memory device in which a sufficient selection ratio of etching to a lower layer of a hydrogen barrier film can be obtained and whose contact hole forming process is simplified.例文帳に追加

水素バリア膜の下層との間においてエッチングの十分な選択比が得られると共に、コンタクトホールの形成工程を簡略化した強誘電体メモリ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A hard mask layer HM is formed by reforming an exposed front surface region RS exposed in the second metal film 521 into a material having a different etching selection ratio for the first metal film 511.例文帳に追加

第２金属膜５２１において露出された露出表面領域ＲＳを、第１金属膜５１１に対してエッチング選択比が異なる材料に変質させてハードマスク層ＨＭを形成する。 - 特許庁

To provide a gear shift device of an automatic transmission that improves vehicle mountability by miniaturizing the automatic transmission, can secure degree of freedom of gear ratio selection, and does not decrease operability and fuel economy.例文帳に追加

自動変速機の小型化を達成して車両搭載性を向上させ、ギヤ比選択の自由度が確保でき、且つ運転性や燃費が悪化しない自動変速機用歯車変速装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method and the like of a thin film formation apparatus which improves the etching rate for extraneous matter adhered to the interior of the apparatus and the selection ratio thereby reducing a burden to a gas supply device.例文帳に追加

装置内部に付着した付着物に対するエッチングレートを高くするとともに選択比を高め、ガス供給装置への負担を低減させた薄膜形成装置の洗浄方法等を提供する。 - 特許庁

Since a package manufacturer selects a die in a desired wavelength range during a die selection process, a utilization ratio of dies in the same wafer or in wafers in the same lot is improved, and production cost is reduced.例文帳に追加

また、ダイの選択過程において、パッケージ業者等が、所望の波長の範囲にあるダイを選択できるので、同一ウェハ又は同一ロットのウェハのダイの利用率が高くなり、生産コストが低減される。 - 特許庁

To provide an etching composition of phosphoric acid to be used stably for a long time with which an etching selection ratio of silicon nitride to silicon oxide is not reduced even at a high temperature for an etching composition of silicon nitride.例文帳に追加

窒化ケイ素のエッチング用組成物に対して、高温でも酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択比が低下せず、長期間安定に用いられるリン酸系のエッチング用組成物を提供する。 - 特許庁

Since the silicon oxide film 9 embedded in the element separation groove 10 is etched at a selection ratio which is higher than the SOI substrate 1 at that time, its surface goes below the lower end of the taper (t_2).例文帳に追加

このとき、素子分離溝１０に埋め込んだ酸化シリコン膜９は、ＳＯＩ基板１よりも高い選択比でエッチングされるので、その表面は、テーパ（ｔ_２）の下端部よりもさらに下方に後退する。 - 特許庁

After machining the first insulation layer 17, an etching liquid capable of securing an etching selection ratio of the dummy gate 32 and the sidewall 10 is supplied to the dummy gate 32, thus wet-etching the dummy gate 32.例文帳に追加

第１絶縁層１７の加工後、ダミーゲート３２に、ダミーゲート３２とサイドウォール１０とのエッチング選択比を確保可能なエッチング液を供給することにより、ダミーゲート３２をウェットエッチングする。 - 特許庁

By one approach, the concentrated dairy liquids have a protein to fat ratio of about 0.4 to about 0.7 achieved through the selection of the starting dairy base and a selected cream addition.例文帳に追加

１つの取り組みによって、濃縮された乳製品液体は、出発乳製品ベースおよび選択されるクリーム添加によって達成される約０．４から約０．７のタンパク質対脂肪比を有する。 - 特許庁

To improve the convenience of comparison for the selection of a property by unifying a section and floor plan in the real estate property information of a land and a building to dimensions based on a prescribed reference ratio relative to measured values.例文帳に追加

土地・建物の不動産物件情報における区画・間取り図を実測値に対する所定の基準比率の大きさに統一して物件選択に際する比較対照の利便性を向上させる。 - 特許庁

In this etching, the silicon nitride film 86 is caused to work as an etching stopper in the etching treatment, as a kind or a condition that a selection ratio can be ensured in an interlayer insulating film for the silicon nitride film.例文帳に追加

このエッチングは、シリコン窒化膜に対する層間絶縁膜の選択比が確保されるような種類・条件として、当該エッチング処理においてシリコン窒化膜８６をエッチングストッパとして機能させる。 - 特許庁

The paper direction selection unit 507 selects the direction of the paper capable of reducing the reduction ratio of the pages when performing the intensive printing of a plurality of pages by the number of pages determined by the number-of-pages determination unit 505.例文帳に追加

用紙向き選択部５０７はページ数決定部５０５で決定されたページ数で、複数のページの集約印刷をする場合にページの縮小率を小さくできる用紙の向きを選択する。 - 特許庁

Furthermore, when a selection ratio of Si and SiO2 is adjusted in an etching process, an oxygen gas 42 and a hydrogen gas 43 are led into the etching chamber 1 via mass controllers 52, 53.例文帳に追加

この同位体組成比を異ならせることによって、質量分析で検出される同じ原子組成の検出物質について、エッチング処理の段階に応じて質量に差を生じさせることができる。 - 特許庁

Further, by hardening the resist film 3 by an ultraviolet ray irradiation and a heat treatment, the etching selection ratio in the direction of the thickness of the SiO_2 film with respect to the resist film 3 is increased up to about 2.例文帳に追加

また、レジスト膜３を紫外光照射及び熱処理によって硬化させることにより、レジスト膜３に対するＳｉＯ_２膜の厚さ方向のエッチング選択比を２程度まで向上させている。 - 特許庁

Thereby, as voltage applied to both ends of a series circuit of the TMR element and the selection element can be made large suppressing reduction of a MR ratio of the TMR element, read-out margin can be improved.例文帳に追加

これによって、ＴＭＲ素子のＭＲ比の低下を抑制しつつ、ＴＭＲ素子と選択素子との直列回路の両端に印加する電圧を大きくできるので、読み出しマージンを向上できる。 - 特許庁

Accordingly, the etching rate, the in-plane uniformity and the selection ratio are controlled by adjusting the flow ratios of the SF6 gas and the CHF3 gas, and the micro-lens having the desired shape is formed.例文帳に追加

これによりＳＦ6ガスとＣＨＦ3ガスの流量比を調整することによって、エッチングレートや面内均一性、選択比が制御され、所望の形状のマイクロレンズを形成することができる。 - 特許庁

When the image quality level has not been reached, the quantization table selection section 11 changes the quantization table for high-ratio components for setting, and the control section 11 further performs quantization, coding, and decoding.例文帳に追加

画質レベルに達していなければ、量子化テーブル選択部１１は比率の高い成分用の量子化テーブルを切り換えて設定し、制御部１１は更に量子化、符号化、復号化を行わせる。 - 特許庁

To perform etching while ensuring good profile and high selection ratio to the underlying film without elevating the temperature of an etching object film, especially a tungsten containing film formed on a silicon containing film.例文帳に追加

エッチング対象膜、特にシリコン含有膜上に形成されたタングステン含有膜を、高温にすることなく、良好な形状性および下地に対する高い選択比を確保しつつエッチングすること。 - 特許庁

The battery is produced with S content in LiMn2O4 at 1% with due selection of electrolytic manganese dioxide, a raw material, and with LiMn2O4 with 0.55 Li/Mn ratio as a positive electrode active substance.例文帳に追加

ＬｉＭｎ_２Ｏ_４中に含まれるＳ含有量を原料の電解二酸化マンガンを選別して１％とし、Ｌｉ／Ｍｎ比が０．５５のＬｉＭｎ_２Ｏ_４を正極活物質に用いて電池を作製した。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device by the use of an etching technique capable of ensuring a sufficient etching selection ratio between an etched layer and an etching stop film in a dry etching process.例文帳に追加

ドライエッチング工程において、エッチングすべき層と、その下のエッチングストッパ膜との十分な選択比を確保することが可能なエッチング技術を用いて半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

Plasma is generated in the etching area to convert the process gas into an etchant gas to realize the anisotropic etching process where etching rate is high, etching selection ratio of substrate vs. resist is high and micro-filling property is reduced.例文帳に追加

プラズマをエッチング領域に発生してプロセスガスをエッチングガスに変え、エッチング速度が高く、基板対レジストのエッチング選択率が高く、微小充填性を低減した異方性エッチング処理を実現した。 - 特許庁

Use of hydrogen of a light element to the etching gas reduces sputtering of the shoulders of the mask, and mixing of the depositing gas to the additional gas can enhance the selection ratio against the mask material.例文帳に追加

エッチングガスに軽元素である水素を用いることでマスク肩部のスパッタ性を低減し、且つ添加ガスに堆積性ガスを混入することでマスク材との選択比を増加することが可能となる。 - 特許庁

By a mode selection switch, an operator can selectively control the front/rear speed ratio by the control unit according to first usual fixed relationship or second more positive fixed relationship.例文帳に追加

モード選択スイッチにより、操作者は、選択的に、第１の通常な既定の関係または第２の一層積極的な既定の関係にしたがって、制御ユニットに前／後速度比を制御させることができる。 - 特許庁

Further, a spacer pattern of arbitrary height can be formed (d, e) by controlling the selection ratio of the etching according to the difference in height between the exposed lens pattern and spacer pattern and the necessary height of the spacer.例文帳に追加

また露光されたレンズパターンとスペーサパターンの高さの差と必要なスペーサの高さに応じてエッチングの選択比をコントロールすることで任意の高さのスペーサパターンを形成することができる（ｄ，ｅ）。 - 特許庁

In this case, the tilt of the core layer is adjusted by controlling the etching selection ratio between the photoresist pattern and core layer to precisely control the profile of the tapered optical waveguide through the simple process.例文帳に追加

この場合、フォトレジストパターンとコア層のエッチング選択比を制御することにより、コア層の傾斜を調節し、単純な工程を通じてテーパ型光導波路のプロフィールを精密に制御することができる。 - 特許庁

To provide treatment conditions in which highly precise etching can be realized by a high selection ratio without generating an ArF resist damage in a low dielectric constant film (low-k film, SiOCH) corresponding to an ArF resist mask.例文帳に追加

ＡｒＦレジストマスク対応の低誘電率膜（Ｌｏｗ−ｋ膜、ＳｉＯＣＨ）において、ＡｒＦレジストダメージを発生せず、高選択比で高精度なエッチングを実現可能な処理条件を提供する。 - 特許庁

A chemical mechanical polishing step of a trench element separating film 29 is performed by a slurry having a high polishing selection ratio to an oxide film 23 rather than to a nitride film 25, a self-alignment floating gate is formed by a slurry having a high polishing selection ratio to a polycrystal silicon rather than to the oxide film, so that the flash memory cell is manufactured.例文帳に追加

窒化膜２５より酸化膜２３に対して高い研磨選択比を有するスラリーでトレンチ素子分離膜２９の化学的な機械的な研磨（Ｃｈｅｍｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）工程をおこない、酸化膜より多結晶シリコンに対して高い研磨選択比を有するスラリーで自己整列フローティングゲートを形成してフラッシュメモリ素子を製造することを特徴とする。 - 特許庁

A sampling frequency ratio selection circuit 108 sends sampling frequency ratio data corresponding to a signal selected by an output signal selection circuit 109 that selects a signal to which the sampling frequency conversion is performed to an interpolation circuit 111 and an interpolation circuit 111 performs an interpolation process to a signal to which an oversampling process has been performed by an oversampling circuit 110 and performs the sampling frequency conversion.例文帳に追加

標本化周波数比選択回路１０８は、標本化周波数変換を行う信号を選択する出力信号選択回路１０９が選択した信号に対応する標本化周波数比データを補間回路１１１に送り、補間回路１１１はオーバーサンプリング回路１１０がオーバーサンプリング処理を施した回路に対して補間処理を行い、標本化周波数変換を行う。 - 特許庁

This game machine further includes a selection means having a prescribed condition creating an opportunity shifting the game state from the regular game state to the special game state, and a specific condition creating an opportunity shifting the game state from the regular game state to the retention game state, and selecting a ratio becoming the specific condition at a higher ratio than a ratio becoming the prescribed condition.例文帳に追加

さらに、通常遊技状態から特別遊技状態に遊技状態を移行させる契機となる所定の条件と、通常遊技状態から維持遊技状態に遊技状態を移行させる契機となる特定の条件とを有し、特定の条件となる割合を所定の条件となる割合に比べて高い割合で選択する選択手段を備える。 - 特許庁

According to this constitution, a plurality of shipping means 1 for shipping-treating the corrugated cartons conveyed out from the fruit selection part B are provided on the shipping part C, thereby, the shipping means 1 is selected corresponding to a generation ratio of a judgment result (fruit selection result) to convey out the corrugated cartons and an ability of the shipping treatment can be enhanced.例文帳に追加

この構成によれば、出荷部Ｃに、選果部Ｂより搬出されるダンボール箱を出荷処理する複数の出荷手段１を備えることにより、判定結果（選果結果）の発生割合に応じて出荷手段１を選択してダンボール箱を搬出でき、出荷処理の能力を向上させることができる。 - 特許庁

Further, the control means 100 varies the ratio of selecting each of the plurality of performance commands based on the game state, and differentiates the performance command of the highest selection rate in the low probability game state and the performance command of the highest selection rate when the game state is the high probability game state.例文帳に追加

さらに、制御手段１００は、遊技状態に応じて、複数の演出コマンドのそれぞれの選択される割合を異ならせて、低確率遊技状態であるときに最も選択率の高い演出コマンドと、遊技状態が高確率遊技状態であるときに最も選択率の高い演出コマンドとを異ならせる。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor element having the membrane structure comprises the steps of depositing an etching protective film 11 made of a polyimide resin of a material having a different etching selection ratio of aluminum pad 1 and a protective film 8 on the pad 7 and the film 8 made of a silicon nitride.例文帳に追加

アルミパッド７及び窒化ケイ素より成る保護膜８上に、それらアルミパッド７及び保護膜８とエッチング選択比が異なる材料であるポリイミド樹脂より成るエッチング保護膜１１を堆積する。 - 特許庁

When the contact holes 5 is formed on an inter-layer insulating film 2, first anisotropic dry etching is applied to the midway of the inter-layer insulating film 2, under the condition of the etching selection ratio between a photoresist 3 and the inter-layer insulating film 2 being low.例文帳に追加

層間絶縁膜２にコンタクトホール５を形成する際に、最初にフォトレジスト３と層間絶縁膜２とのエッチング選択比が低い条件で、層間絶縁膜２の途中まで異方性のドライエッチングを行う。 - 特許庁

For the two or more systems of the step-up notice performances, two or more kinds of notice performance modes are selected at a different selection ratio according to the total number of times of re-variations executed in pseudo consecutive winnings (S533, S533c).例文帳に追加

複数系統のステップアップ予告演出については、擬似連で実行される再変動の合計回数に応じて、複数種類の予告演出態様が異なる選択割合で選択する（Ｓ５３３，Ｓ５３３ｃ）。 - 特許庁

To provide a plasma etching method for etching an organic-based material film as an inorganic-based material film with a mask at a high etching rate, and at the same time for etching the inorganic-based material film by a high etching selection ratio.例文帳に追加

無機系材料膜をマスクとして有機系材料膜をエッチングする際に、高エッチングレートで、かつ無機系材料膜に対して高エッチング選択比でエッチングすることができるプラズマエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a display driving circuit, an electro-optical device, and a display driving method, capable of suppressing deterioration of a contrast ratio with a simple configuration reduced in the number of voltage levels when performing display driving by MLS (multi line selection).例文帳に追加

ＭＬＳによる表示駆動を行う場合に、電圧レベル数を削減する簡素な構成で、コントラスト比の劣化を抑えることができる表示駆動回路、電気光学装置及び表示駆動方法を提供する。 - 特許庁