「selection ratio」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

A performance pattern selection part 310 of a performance control part 202 increases a ratio to select a high expectation-degree performance pattern when a predetermined condition that the number of held balls is equal to or smaller than a fixed number is set, in comparison with a case that the predetermined condition is not set, and selects a performance pattern.例文帳に追加

演出制御部２０２の演出パターン選択部３１０は、保留球数が一定数以下であるといった予め定めた所定の条件が設定されている場合、所定の条件が設定されていない場合に比べて、高期待度演出パターンを選択する割合を高くして、演出パターンを選択する。 - 特許庁

A performance pattern selection part 310 of a performance control part 202 increases a ratio to select a high expectation-degree performance pattern when a prescribed condition that the number of held balls is equal to or smaller than a fixed number is set, in comparison with a case that the prescribed condition is not set, and selects a performance pattern.例文帳に追加

演出制御部２０２の演出パターン選択部３１０は、保留球数が一定数以下であるといった予め定めた所定の条件が設定されている場合、所定の条件が設定されていない場合に比べて、高期待度演出パターンを選択する割合を高くして、演出パターンを選択する。 - 特許庁

The scheduler 151 determines a communication terminal which transmits a packet based on a packet transmission control signal, a CQI signal from each communication terminal, and an ACK/NACK signal, and conducts MCS selection (determines modulation system and encoding ratio) based on the CQI signal and on the path number information signal.例文帳に追加

スケジューラ１５１は、パケット伝送用制御信号、各通信端末装置からのＣＱＩ信号、ＡＣＫ／ＮＡＣＫ信号に基づいてパケットを送信する通信端末装置を決定し、ＣＱＩ信号及びパス数情報信号に基づいてＭＣＳ選択（変調方式及び符号化率の決定）を行う。 - 特許庁

Based on the pre-measured temperature distribution on the panel surface under display operation, a control circuit 40 controls a time ratio of the two pulses by a switching signal VWC so that the selection voltages for the upper side part and lower side part where the temperature is higher becomes effectively lower than those for the central part of the panel where the temperature is lower.例文帳に追加

コントロール回路４０は、予め測定した表示動作中のパネル面の温度分布に基づいて、温度が低いパネル中央部の選択電圧に比べ温度が高い上辺部または下辺部の選択電圧が実効的に低くなるように、切替信号ＶＷＣにより前記２つのパルスの時間比率を制御する。 - 特許庁

When a low-frequency signal ratio detection part 25 detects the speech signal which has no or a very small signal of low frequency in an expansion band coder part 21 of the speech coding device, a coding system selection part 24a makes an HFC (High Frequency Coding) coding part 29 code a speech signal of an expansion band.例文帳に追加

音声符号化装置の拡張帯域エンコーダ部２１において、低域信号比検出部２５によって低域の信号が存在しない、または微小である検出された場合、符号化方式選択部２４ａは、拡張帯域の音声信号を、ＨＦＣ（High Frequency Coding）符号化部２９によって符号化させる。 - 特許庁

The height of a polysilicon layer 4 is formed to be lower than before to be about 95[nm], and when etching a NONON film 5, a polysilazane film 15b and a silicone oxide film 15a, etching treatment is performed under such a prescribed condition that a selection ratio condition between the polysilicon layer 4 and the NONON film 5 is in a range of 1:1.5 to 2.例文帳に追加

多結晶シリコン層４の高さを９５［ｎｍ」程度と従来に比較して低く形成し、ＮＯＮＯＮ膜５およびポリシラザン膜１５ｂおよびシリコン酸化膜１５ａをエッチング処理するときに、多結晶シリコン層４およびＮＯＮＯＮ膜５間の選択比条件を１：１．５〜２の範囲となる所定条件でエッチング処理する。 - 特許庁

By the configuration, in the formation of a desired three-dimensional structure pattern on the substrate, the hard mask layer is the material of a high etching selection ratio to the substrate, so that the step of the hard mask layer corresponding to the three-dimensional structure pattern to be formed can be made smaller than the desired three-dimensional structure pattern.例文帳に追加

本発明の構成によれば、所望する３次元構造パターンを基板に形成する場合、ハードマスク層は基板に対してエッチング選択比が高い材料であるため、形成する３次元構造パターンに対応するハードマスク層の段差は、所望する３次元構造パターンよりも小さくすることが出来る。 - 特許庁

When dry etching of a low selection ratio is applied for a polysilicon film 103 as the film to be treated, a light is emitted to the polysilicon film 103, and an interference light is measured as lights reflecting respectively from a boundary between the polysilicon film 103 and a gate oxide film 102 as its base and from the surface of the polysilicon film 103.例文帳に追加

被処理膜であるポリシリコン膜１０３に対する低選択比のドライエッチングにおいて、ポリシリコン膜１０３に光を照射することにより、ポリシリコン膜１０３とその下地であるゲート酸化膜１０２との界面、及びポリシリコン膜１０３の表面のそれぞれからの反射光によって形成される干渉光を測定する。 - 特許庁

To provide a dry etching method which can enhance the etching selection ratio between a silicon-containing conductive film and a silicon oxide film and assure the etching and removal of only the desired silicon-containing conductive film without etching the silicon oxide film of the under layer and without deforming the etched shape of silicon-containing conductive film.例文帳に追加

従来に較べて、シリコン酸化膜に対するシリコン含有導電膜の選択比を向上させることができ、下地層であるシリコン酸化膜層をエッチングすることなく、また、シリコン含有導電膜層のエッチング形状を崩すことなく、確実に所望のシリコン含有導電膜層のみをエッチングして除去することのできるドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The slurry with a high selection ratio contains at least one or more kinds of metal oxide polishing particles, a passivation agent smaller in quantity than the passivation agent 20 included in the slurry with a high flattening rate, and a quaternary amine or its salt and a pH conditioner, and it has such a pH that is higher than an isoelectric point of a polishing target film 10 and lower than that of a polishing stopper 15.例文帳に追加

高選択比のスラリーは、少なくとも１種以上の金属酸化物研磨粒子、高平坦化度のスラリー剤に含まれたパッシベーション剤２０より小さい含量のパッシベーション剤、４次アミンまたはその塩及びｐＨ調節剤を含み、ポリシング対象膜１０の等電点より高くてポリシングストッパー１５の等電点より低いｐＨを有する。 - 特許庁

Two kinds of 1st and 2nd mask layers 1 and 2 which have a large etching selection ratio are laminated and cut along the laminating direction to form a mask substrate and the 1st mask layer 1 is selectively etched by using a resist pattern as an etching mask to form a mask having a mask opening (beam transmission part) C determined by the film thickness d1 of the 1st mask layer 1.例文帳に追加

エッチング選択比の大きい２種類の第１および第２のマスク層１，２を積層し、積層方向に沿って切断することによりマスク基板を形成し、レジストパターンをエッチングマスクとして第１のマスク層１を選択的にエッチングすることで、第１のマスク層１の膜厚ｄ１によって決まるマスク開口（ビーム透過部）Ｃを有するマスクが形成される。 - 特許庁

In the special effects processing sections 3a and 3b, a set value of advance ratios which are to become the reference of timing for performing selective switching operation of an input image signal are preset as a processing pattern, and every time a specified value of advance ratio passes through the set value, a selection designating information is delivered to the composite switching control section 5.例文帳に追加

この特殊効果処理部３ａおよび３ｂでは、入力画像信号の選択切り換え動作を行うタイミングの基準となる進行比率の設定値が、処理パターンとしてあらかじめ設定され、進行比率の指定値がこの設定値を通過するたびに、合成切り換え制御部５に対して選択指示情報を送出する。 - 特許庁

Then, isotropic etching is made by reducing bias output applied to a wafer without containing N_2 or O_2, or etching under the conditions of a high mask selection ratio containing N_2 or O_2 for machining the grooves or holes slightly thinner than the pattern dimensions and isotropic etching while reducing bias output applied to the wafer without containing N_2 or O_2 are made periodically.例文帳に追加

その後N_２またはO_２を含まず、ウエハに印加するバイアス出力を低下させて等方的なエッチングを行う、又はパターン寸法よりも溝又は孔をやや細く加工するN_２またはO_２を含む高マスク選択比条件と、N_２またはO_２を含まず、ウエハに印加するバイアス出力を低下させて等方的なエッチングを周期的に行う。 - 特許庁

This game machine further includes a selection means having a prescribed condition creating an opportunity shifting the game state from the regular game state to the special game state, and a specific condition creating an opportunity shifting the game state from the regular game state to the retention game state, and selecting the prescribed condition and the specific condition at a similar ratio.例文帳に追加

さらに通常遊技状態から特別遊技状態に遊技状態を移行させる契機となる所定の条件と、通常遊技状態から維持遊技状態に遊技状態を移行させる契機となる特定の条件とを有し、所定の条件及び特定の条件を同程度の割合で選択する選択手段を備える。 - 特許庁

To provide an antireflection film material having an excellent antireflection effect against exposure at short wavelength, a high etching selection ratio, that is, having a sufficiently fast etching rate with respect to a photoresist film, and having a sufficiently slow etching rate compared to the substrate to be processed, and capable of producing a perpendicular profile of a resist pattern to be formed in the photoresist film on the antireflection film.例文帳に追加

短波長の露光に対して、優れた反射防止効果を有し、エッチング選択比が高く、即ち、フォトレジスト膜に対してエッチング速度が十分に速く、被加工基板よりもエッチング速度が十分に遅く、さらに、反射防止膜の上のフォトレジスト膜に形成するレジストパターン形状を垂直形状にできる反射防止膜材料を提供する。 - 特許庁

During the travel of the vehicle, when the shift lever is operated to be at the selection position in the opposite direction with respect to the travelling direction of the time, the speed ratio of the continuously variable transmission device is changed from a value corresponding to the travelling state of the time along preset states until establishing the stopping state, in the state of connecting a clutch device.例文帳に追加

そして、上記車両の走行中に、シフトレバーがその時点の走行方向と逆方向の選択位置に操作された場合に、クラッチ装置を接続した状態で、無段変速装置の速度比を、その時点の走行状態に応じた値から、上記停止状態を実現できる０まで、予め設定した条件に沿って変化させる。 - 特許庁

In a method for evaluating the watermark 20 formed on a semiconductor substrate surface, the semiconductor substrate 10 is etched by anisotropic etching with a high selection ratio wherein the etching speed of the watermark is slower than that of the substrate material, and etching residues whose height is equal to the etching depth in the substrate are extracted from etching residues in a projection shape exposed on an etching surface.例文帳に追加

半導体基板表面に形成されたウォーターマークの評価方法であり、ウォーターマークに対するエッチング速度が基板材料よりも遅い高選択比の異方性エッチングによって半導体基板をエッチングし、エッチング表面に露出した突起状のエッチング残渣のうち、基板に対するエッチング深さと等しい高さのエッチング残渣を抽出する。 - 特許庁

Also, the wheel speed signal with a poor S/N ratio is selected out of wheel speed signal for specific time by a selection means 16, thus judging a tire air pressure state using an air pressure stage judgment means 20 according to the number of crossing times between the amplified wheel speed signal and the zero reference by a frequency detection means 18.例文帳に追加

また、選別手段１６によって所定時間の車輪速信号のうち、Ｓ／Ｎ比の悪い車輪速信号を選別し、周波数検出手段１８によって、上述の増幅された車輪速信号とゼロ基準との交差回数（符号反転回数）から空気圧状態判定手段２０によって、タイヤ空気圧状態の判定を行う。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlay film, the composition having excellent storage stability and giving a cured film as a resist underlay film that has high adhesiveness to a resist coating, an excellent etching selection ratio with respect to the resist coating film and to a substrate to be processed, low reflectance and the like, and thereby, exhibits excellent pattern forming property.例文帳に追加

保存安定性に優れるとともに、レジスト下層膜としての硬化膜がレジスト被膜との高い密着性、レジスト被膜及び被加工基板に対する優れたエッチング選択比並びに低反射性等を備えることで、優れたパターン形成性を発揮することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a new catalyst advantageous industrially which can carry out a hydrocracking reaction at an increased conversion rate to hydrocarbon and selection rate to 15-18C even under conditions of little amount of catalyst wherein the oil/catalyst ratio is approximately 10 in a reaction synthesizing 15-18C hydrocarbon mixture corresponding to light oil by the hydrocracking reaction of triglyceride such as Jatropha oil.例文帳に追加

ジャトロファ油などのトリグリセライドの水素化分解反応により軽油相当のC15-C18炭化水素混合物を合成する反応において、油／触媒比が10程度の触媒が少ない条件でも、高められた炭化水素への転化率とC15-C18への選択率で水素化分解反応を行うことができる、工業的に有利な新規な触媒を提供する。 - 特許庁

The abrasive liquid composition contains the abrasion speed selection ratio improver, and this method of manufacturing a substrate to be polished uses the abrasive liquid composition.例文帳に追加

アミノ酸、多価水酸基含有化合物及びアルキレンオキシド付加物からなる群より選ばれる１種以上の化合物からなる、ストッパー膜の研磨速度に対する絶縁膜の研磨速度の比を向上させる研磨速度選択比向上剤、該研磨速度選択比向上剤を含有してなる研磨液組成物、並びに該研磨液組成物を用いる被研磨基板の製造方法。 - 特許庁

Through a video reproduction application, a CPU 314 determine horizontal/vertical synchronizing signals according to specified selection algorithm, and a picture quality control part 333 and a picture quality adjustment part 334 (picture quality adjusting function) in the display device 302 calculate a longitudinal/lateral ratio to enlarge the video data of an RGB signal to match all illuminating pixels of the display device 302.例文帳に追加

映像再生アプリケーションにより、ＣＰＵ３１４が水平／垂直同期信号を所定の選択アルゴリズムに従い決定し、表示装置３０２内の画質制御部３３３及び画質調整部３３４（画質調整機能）が縦横比を算出してＲＧＢ信号の映像データを表示装置３０２の発光画素全体に一致するように拡大処理する。 - 特許庁

A plurality of ultrasonic oscillators is linearly arranged, a series of a prescribed number of elements is selected, a phase-regulated voltage pulse is imparted each of the series to generate a focusing ultrasonic beam, and the echo obtained by scanning the ultrasonic beam while successively switching the selection is subjected to movement average processing, whereby the scattered noise is reduced to improve the SN ratio.例文帳に追加

複数の超音波振動子を直線状に配置し、その内所定個数の素子系列を選択し、それぞれに位相調整された電圧パルスを与えて集束超音波ビームを発生し、該選択を順次切替え、超音波ビームを走査して得られるエコーを移動平均処理することにより散乱ノイズを軽減し、ＳＮ比を向上させる。 - 特許庁

The diversity receiver comprises a signal synthesizing means for synthesizing OFDM signals received by each antenna on a time axis; and a signal composition control means for control so that the signal compositing means operates in either a maximum ratio composition diversity system, or a selection diversity system based on prescribed conditions.例文帳に追加

各アンテナで受信されたＯＦＤＭ信号を時間軸上で合成する信号合成手段と、信号合成手段を、所定の条件に基づいて最大比合成ダイバーシティ方式又は選択ダイバーシティ方式の何れか一方の方式で動作するよう制御する信号合成制御手段とを備えたダイバーシティ受信装置を提供する。 - 特許庁

To provide abrasives and a polishing method in which in a CMP technology of flattening an interlayer dielectric, a BPSG film, and a shallow trench isolating insulating film, a selection ratio of a silicon oxide film to a silicon nitride film and a flatness are enhanced, whereby a CMP process can be efficiently and fast performed, and a process management can be easily performed.例文帳に追加

本発明は、層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロー・トレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、酸化珪素膜と窒化珪素膜の選択比、平坦性を向上させることにより、ＣＭＰプロセスを効率的、高速に、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨剤及び研磨法を提供するものである。 - 特許庁

To prevent a silicon oxide film from decreasing by increasing the selection ratio of a titanium nitride film to a polysilicon film when a recess is formed by etching in the titanium oxide film and the polysilicon film formed, respectively, on an HfSiON film and a silicon oxide film arranged side by side, and to form the recess to have a good shape.例文帳に追加

横並びに配置されたＨｆＳｉＯＮ膜と酸化シリコン膜との上に夫々形成された窒化チタン膜とポリシリコン膜とに対してエッチングにより凹部を形成するにあたり、ポリシリコン膜に対する窒化チタン膜の選択比を大きくすることにより、酸化シリコン膜の膜減りを抑えると共に、凹部を良好な形状となるように形成すること。 - 特許庁

It has also been pointed out that in line with an increase in the ratio of people enrolled in higher education institutions, young people have grown increasingly inclined to postpone the selection and decision of their future course of life and career and that there are increasing numbers of people who do not try to advance to higher education or find a job and of those who advance to higher education without a clear idea of their future career patch or a clear sense of purpose.例文帳に追加

また、高等教育機関へ進学する者の割合の増加に伴い、将来の生き方・働き方について考え、選択・決定することを先送りする傾向が強くなり、進学も就職もしようとしなかったり、進路意識や目的意識が希薄なままとりあえず進学したりする者が増加していることが指摘されている。 - 経済産業省

The coating method of silicon particles includes: a mixed particle coating step for coating an underlying substrate 1 with mixed particles of silicon particles 2 and silicon oxide particles 3; and a dry etching step for removing the silicon oxide particles 3 by performing dry etching to the mixed particles on the underlying substrate 1 coated therewith, with higher selection ratio of the silicon oxide particles 3 with respect to the silicon particles 2.例文帳に追加

シリコン粒子２と酸化シリコン粒子３との混合粒子を基材１上に塗布する混合粒子塗布工程と、前記基材１上に塗布された前記混合粒子に対して、前記シリコン粒子２に対する前記酸化シリコン粒子３の選択比が高いドライエッチングを行って前記酸化シリコン粒子３を除去するドライエッチング工程と、を含む。 - 特許庁

In a button advance-notice rendering mode to be performed according to operation of an operation button during additional variation of a false continuation, when an advance-notice rendering mode is selected from plural types of advance-notice rendering modes, the selection ratio of the advance-notice rendering mode is varied according to the total number of additional variations executed in an additional variable display pattern.例文帳に追加

擬似連の再変動中において操作ボタンの操作に応じてボタン予告演出を行なうときにおいて、予告演出を実行するときの予告演出態様を複数種類の予告演出態様の中から選択する場合に、再変動表示パターンで実行される再変動の合計回数に応じて、予告演出態様の選択割合を異ならせる。 - 特許庁

To provide a face extraction method for completely, automatically and precisely extracting a face of a person without requiring any manual operation from a color original image in a negative film, a positive film and the like, and to allow selection of an optimum weighting coefficient with respect to each input value for securing a high recognition ratio through learning of a neural network by several pieces of teacher data.例文帳に追加

ネガフィルムやポジフィルム等のカラー原画像から、人手を介さず完全に自動で且つ精度よく人の顔を抽出する顔抽出方法を提供するとともに、ニューラルネットワークをいくつかの教師データにより学習させることによって、それぞれの入力値に対して最適な重み係数を選択することができ、高い認識率を確保することができるようにすることである。 - 特許庁

In the failure analysis method of a semiconductor device for a failure cause made by wiring formed on a semiconductor silicon board, a layer insulation film 3 is etched and removed on the semiconductor silicon board by using etching gas (for instance, CHF3) having a high etching selection ratio between a lower layer wire 2 and upper layer wiring 4, and the failure cause (foreign matter 5) is analyzed.例文帳に追加

半導体シリコン基板上に形成した配線に起因する不良原因を解析する半導体装置の不良解析方法において、下層配線２や上層配線４との間で高いエッチング選択比を有するエッチングガス（例えば、ＣＨＦ_3）を用いて、半導体シリコン基板上の層間絶縁膜３をエッチング除去して、不良原因（異物５）を解析する。 - 特許庁

In first and second vehicles, the relationship of the driving positions selected by the same user is collected, and statistical data for indicating the ratio of the selection of the driving position in which a divided range in the first vehicle for each divided range of the driving position of the first vehicle is prepared for each divided range of the driving position of the second vehicle based on the collected data.例文帳に追加

第１車両と第２車両とにおいて、同一ユーザが選択するドライビングポジションの関係を収集し、その収集データに基づき、第２車両のドライビングポジションの各分割範囲に対して、各ユーザが、第１車両にて、いずれの分割範囲のドライビングポジションを選択したかの割合を、第１車両のドライビングポジションの分割範囲毎に示す統計データを用意する。 - 特許庁

Dye-carrying porous titanium oxide layers 2a-2d are formed on a transparent conductive substrate 1 so that they present a prescribed color and form a prescribed pattern by the kind, thickness, and laminated structure of the sensitized dyes and the particle size of the titanium oxide particulates or selection of their blending ratio, when the titanium oxide particulates are composed of two kinds or more of mutually different particle sizes.例文帳に追加

透明導電性基板１上に色素担持多孔質酸化チタン層２ａ〜２ｄを、増感色素の種類、厚さ、積層構造、酸化チタン微粒子の粒径または酸化チタン微粒子が互いに粒径が異なる二種類以上の酸化チタン微粒子からなる場合におけるそれらの配合率の選択により、所定の色を呈し、かつ所定の模様を構成するように形成する。 - 特許庁

In the production method, by using spherical particulates for an etching mask, a lithography stage is reduced, mask formation is possible in a simple process, and periodic spacing can be controlled at a high precision in accordance with the particle diameter of the particulates, and further, the selection ratio with a base material can be freely controlled and lattice height can be controlled to a high precision in accordance with the material of the particulates.例文帳に追加

エッチングマスクに球状の微粒子を用いることで、リソグラフィ工程を削減し、簡易な工程でマスクの形成ができ、微粒子の粒径で周期間隔を高精度に制御することが可能になるとともに、微粒子の材料により基材との選択比を自由に制御でき、格子高さを高精度に制御することができる製造方法としたものである。 - 特許庁

Wet etching is performed upon the highly insulated thin layer at a room temperature in a mixed liquid of hydrofluoric acid, perchloric acid, other perhalogenated element acid, and the like such that an etching rate of the layer becomes ≥10 Å/min, at the same time, an etching rate of silicon oxide, USG or polysilicon becomes ≤10 Å/min all and a selection ratio becomes appropriate for needs of respective processes.例文帳に追加

弗化水素酸と過塩素酸やその他の過ハロゲン族元素酸の混合液により、室温下で高絶縁性薄層に対してウェットエッチングを行い、該層のエッチング率が10Å／min以上になるようにし、同時に酸化シリコンやUSG，或いはポリシリコン等のエッチング率が皆10Å／min以下であり且つ選択比は各工程の必要に適した比率となるようにする。 - 特許庁

The image data generating apparatus 10 including an inverse wavelet transform means 11 for applying inverse wavelet transform to a wavelet coefficient and generating a reduced image whose aspect ratio differs from that of an original image by applying the inverse wavelet transform to the wavelet coefficient of the original image, is provided with a coefficient selection means 12 for carrying out selective inverse transform to the coefficient used by the inverse wavelet transform means 11.例文帳に追加

ウェーブレット係数を逆ウェーブレット変換する逆ウェーブレット変換手段１１を有し、原画像のウェーブレット係数を逆ウェーブレット変換することにより原画像と縦横比の異なる縮小画像を生成する画像データ生成装置１０において、逆ウェーブレット変換手段１１による係数の選択的逆変換のために係数選択手段１２を備える。 - 特許庁

Realized is an optical waveguide which is a ridge type optical waveguide having a surface unevenness periodic structure in a diffraction grating shape on a core layer, and also has the optical coupling efficiency improved to have a high wavelength selection ratio by forming an unevenness periodic structure synchronized with the unevenness periodic structure even on the flank 4 of the core layer 1 and clad layers 2a and 2b surrounding it.例文帳に追加

コア層の上部に回折格子形状の表面凹凸周期構造を有したリッジ型光導波路であり、前記コア層１の側面４やそれを取り囲む周囲のクラッド層２ａ，２ｂにも前記凹凸周期構造と同期した凹凸周期構造を形成することで、光結合係数を向上し高い波長選択比を有する光導波路を実現する。 - 特許庁

To provide a polyether polyol type hyperbranch polymer that is simply produced, inexpensive, and chemically stable even under acid and alkali environment, and that controls hydrophile-lipophile balance and degree of roughness and fineness of branching point of core by selection of monomer used in synthesis of core part and change of reaction molar ratio, and contains an active ingredient, and to provide an active ingredient support using the hyperbranch polymer as a supporting body.例文帳に追加

簡便に製造できて安価であり、酸やアルカリ環境下でも化学的に安定で、且つ、コア部分の合成に用いるモノマーの選択や反応モル比を変えることにより親水・疎水的バランスやコアの分岐点の粗密の程度を制御可能な、有効成分を内包できるポリエーテルポリオール型ハイパーブランチポリマー及び該ハイパーブランチポリマーを保持主体として用いた有効成分保持体を提供する。 - 特許庁

A spacer 20a comprising a substance having a high corrosion selection ratio for an interlayer insulation film 26 is formed on the side wall of a gate electrode 16, and the contact hole exposed between the gate electrodes 16 can be formed by a self matching method by forming the upper part of the gate electrode and the upper part of the substrate forming the source and drain areas in high melting point metal silicide films 18a, 22.例文帳に追加

層間絶縁膜２６に対して高食刻選択比を有する物質からなるスペーサ２０ａをゲート電極１６の側壁に形成し、ゲート電極１６の上部とソース及びドレイン領域が形成される基板の上部を高融点金属シリサイド膜１８ａ，２２として形成することにより、ゲート電極１６とゲート電極１６との間を露出させるコンタクトホールを自己整合方式で形成可能とする。 - 特許庁

A slurry composition for chemical mechanical polishing for the polycrystalline silicon and the semiconductor element utilizing it are formed, by a method wherein a trench element separation film is ground with the slurry having the grinding selection ratio with respect to the polycrystalline silicon, which is higher compared with the element separation oxide film of an etching prevention film, to form the self aligned floating gate of the flash memory element.例文帳に追加

本発明は、多結晶シリコン用化学的機械的研磨（Chemical Mechanical Polishing）のためのスラリー組成物及びこれを利用した半導体素子の形成方法に関し、より詳しくはエッチング防止膜の素子分離酸化膜に比べて多結晶シリコンに対し高い研磨選択比を有するスラリーでトレンチ素子分離膜を研磨し、フラッシュメモリ素子の自己整合浮遊ゲート（Self Align Floating Gate）を形成する半導体素子の形成方法に関する。 - 特許庁

In this state selective spectroscopic method utilizing quantum control, a target sample is irradiated with a waveform-shaped laser pulse train, and a condition wherein resonance with the target sample or absorption disappears is found, and thereby the specific quantum states are generated by using a laser pulse inducing state-selected high-speed transition without requiring information of the target sample and measurement of a state selection ratio.例文帳に追加

波系整形されたレーザーパルス列を標的試料に照射し、標的試料との共鳴又は吸収が消失する条件を見つけることで、状態選択した高速遷移を誘引するレーザーパルスを、標的試料の情報及び状態選択比の測定を必要とせずに、使用することにより特定の量子状態を生成させることからなる量子制御を利用した状態選択的分光方法。 - 特許庁

A transmission controller 17 uses the accelerator pedal depression amount (x) representing an acceleration intention and a mode selection signal selected by the switch 9 as engine output information, predicts the target throttle opening (y) based on the engine output information, obtain a target transmission gear ratio i* based on the target throttle opening (y) and vehicle speed VSP to command an actuator 16 for a shift control.例文帳に追加

変速機コントローラ１７は、従来なら実エンジン出力を表すＴＶＯやｙをエンジン出力情報として自動変速機２の変速制御に資するが、ここでは、加速意図を表すアクセルペダル踏み込み量ｘおよびスイッチ９で選択したモード選択信号をエンジン出力情報として用い、これらから目標スロットル開度ｙを予知し、これと車速ＶＳＰとに基づき目標変速比ｉ^* を求めて変速制御用のアクチュエータ１６に指令する。 - 特許庁

Either of output signals of PRML signal processing means 13 or level-determination digitalizing means 12 is selected as a decoded digital signal 19 by digital-data decoding selection means 18 based on the mark distortion ratio 17, thereby production quality unaffected by the mark distortion is obtained.例文帳に追加

光ディスク媒体１の再生信号をデジタル化するアナログ・デジタルコンバータ６と、オフセット補正を行うオフセット補正手段８から得られた信号を入力として、マーク歪率測定手段１６により記録幅の長いマークパターンに対して、マーク歪率１７を精度良く測定し、マーク歪率１７を判断基準として、デジタルデータ復調選択手段１８により、ＰＲＭＬ信号処理手段１３およびレベル判別２値化手段１２のいずれの出力信号を復調２値化信号１９とするかを選択することにより、マーク歪に影響されない再生品質を得ることが可能となる。 - 特許庁

The important factors of its necessity and transition were the selection of materials for bows and their combination, in particular, to find 'the elastic modulus and elastic limits against the ratio of length of the bow and cross-sectional dimension' (when the cross-section is not point symmetry, add 'the elastic modules and elastic limit against the cross-section and the direction of bending'), and 'the least power to pull and the longest flying distance,' as well as the difference of conditions such as 'shooting from the ground or from horseback,' and 'the mechanization and the ability of automatic fire.' 例文帳に追加

その変遷や必要性において重要な要因は、弓の素材の選定やその組み合わせであり、具体的には「長さ（弓丈）と断面積の比率に対しての弾性率・弾性限界」（断面形状が点対称でない場合は「断面形状と曲げる方向に対しての弾性率・弾性限界」も加味する）や「最小限の引く力と最大限の飛距離」など、条件の妥協点を見出す事にあり、その他には「地上やウマ上から矢を射る」という条件の違いや、「機械化と連射性能」などである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス