「selection ratio」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a digital broadcasting receiver that can shorten the time, starting from the time when channel selection to the time when normal video image display is completed, by acquiring video image format information on the program of a channel to be selected and the aspect ratio information prior to channel selection, and by setting the video image format information and aspect ratio information to a monitor for starting the channel selection.例文帳に追加

選局対象チャンネルの番組の映像フォーマット情報及びアスペクト比情報を選局前に取得しその映像フォーマット情報及びアスペクト比情報をモニタに設定してから選局を開始することで、選局開始から正常な映像表示が完了するまでの時間を短縮できるデジタル放送受信装置を提供する。 - 特許庁

On the basis of the identification signals (1) and (2) and the result of user selection, the video signals of the aspect ratio 16:9 are converted so that the aspect ratio becomes 4:3 in an area remaining after turning both sides to black belt display.例文帳に追加

識別信号（１）、（２）及びユーザ選択の結果に基づき、アスペクト比１６：９の映像信号を、両脇を黒帯表示とし残った領域のアスペクト比が４：３になるように変換する。 - 特許庁

Selection and a synthesis ratio of the pieces of luminance data 41n, 41m and 41f are determined in response to a magnitude relationship and magnitude ratio of the N score, M score and F score acquired in relation to a certain pixel P.例文帳に追加

ある画素Ｐについて得られたＮスコア、Ｍスコア、Ｆスコアの大小関係および大小比率に応じて輝度データ４１ｎ、４１ｍ、４１ｆの選択、および合成比率を決定する。 - 特許庁

Under a condition of a high selection ratio (etching rate ratio) between a 2nd inter-layer insulating film 7 and a photoresist 8, the 2nd inter-layer insulating film 7, a flattening insulating film 6, and a 1st inter-layer insulating film 5 are subjected to dry etching.例文帳に追加

第２層間絶縁膜７とフォトレジスト８の選択比（エッチングレート比）が高い条件にて、第２層間絶縁膜７、平坦化絶縁膜６及び第１層間絶縁膜５をドライエッチングする。 - 特許庁

To provide an abrasive composition in which improvement is realized in an abrasion selection ratio between copper and a tantalum compound upon abrading a semiconductor device having a copper film and a tantalum compound, in excess abrasion of a copper film in an electric wiring channel and hole upon increasing a selection ratio to copper, and in smoothness of a surface of a copper film.例文帳に追加

銅膜およびタンタル化合物を有する半導体デバイスを研磨する場合の、銅とタンタル化合物の研磨選択比、銅に対する選択比を高めた時の配線溝や孔の銅膜の削られ過ぎ、及び銅膜表面の平滑性、を改善した研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

Further the timing controller 14 acquires the aspect ratio information of an input image from an aspect ratio detection circuit 18 and applies a no-image part instruction signal 20 to the selection circuit 21, and the selection circuit 21 selects either one of the line inversion signal 16 and the field inversion signal 17.例文帳に追加

また、タイミングコントローラ１４は、アスペクト比検出回路１８から入力映像のアスペクト比情報を取得し、無画像部分指示信号２０を選択回路２１に与え、この選択回路２１においてライン反転信号１６とフィールド反転信号１７のいずれかを選択させる。 - 特許庁

A coefficient control circuit 31 and a divider circuit 33 generate a coefficient instruction signal (k), in response to a scanning line conversion ratio, and a line selection control circuit 32 generates the line selection signal LSEL used to selectively output the proper scanning line signal, independently of the scanning line conversion ratio.例文帳に追加

係数制御回路３１および除算回路３３は走査線変換比率に応じた係数指示信号ｋを生成し、ライン選択制御回路３２は走査線変換比率にかかわらず、適正な走査線信号を選択出力させるライン選択信号ＬＳＥＬを生成する。 - 特許庁

The slot machine 1 equipped with an AT function displays the ratio of the number of times of winning to the number of times of internal selection in the state with the AT started, or the ratio of the number of times of winning to the number of times of internal selection in the state with the AT not started.例文帳に追加

ＡＴ機能を搭載したスロットマシン１は、ＡＴが発動された状態での内部当選した回数に対する入賞した回数の割合やＡＴが発動されなかった状態での内部当選した回数に対する入賞した回数の割合を表示する。 - 特許庁

In more particularly disclosed procedure, the etching selection ratio at each position corresponding to the pattern is obtained in accordance with the pattern to be formed on a substrate, the figure of the resist pattern is determined based on the etching selection ratio, and a gray scale mask pattern resulting the resist pattern is determined.例文帳に追加

手順をより細かく分解すると、基板上に形成すべきパターンの形状に応じて、そのパターンに対応する各場所でのエッチング選択比を求め、このエッチング選択比を元に、レジストパターンの形状を決定し、そのレジストパターンを与えるようなグレースケールマスクパターンを決定する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method which is capable of increasing an etching rate selection ratio between an oxide film as a lower layer and a tungsten film or a tungsten silicide film.例文帳に追加

下層に存在する酸化膜とタングステン、或いはタングステンシリサイドのエッチング速度の選択比を大きくしたプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

This selection ruler S comprises a transparent thin ruler main body 5 having a rectangular outer shape of a horizontal to vertical ratio of 1:√2, and a handle 6.例文帳に追加

選択定規Ｓは、縦横の比が１：√２の矩形状の外形を有する透明薄板の定規本体５と、ハンドル６を備えている。 - 特許庁

This second insulating film 3 is a film having a large etching selection ratio from the first insulating film 2 and made of a porous low dielectric constant material.例文帳に追加

第２の絶縁膜３は、第１の絶縁膜２とのエッチング選択比が大きく且つ多孔質の低誘電率材料からなる膜である。 - 特許庁

The electronic control unit is equipped to be able to select actuators 52-60 for selection of gear ratio based on the received signal.例文帳に追加

電子制御ユニットは、受信した信号に基づいたギア比選択のためにアクチュエータ５２〜６０を選択することができるように装備されている。 - 特許庁

There are removed the nitride film 12 and the SOG film 13 exposed under substantially the same condition in the etching selection ratio of the nitride film 12 and the SOG film 13.例文帳に追加

窒化膜１２とＳＯＧ膜１３のエッチング選択比がほぼ同じ条件で露出している窒化膜１２とＳＯＧ膜１３を除去する。 - 特許庁

To provide a beverage supply system capable of adjusting syrup concentration (ratio of syrup/dilution water) in accordance with the selection of a customer in each sale.例文帳に追加

販売ごとに客の選択に合わせてシロップ濃度（シロップ／希釈水の比率）を調整できるようにした飲料供給システムを提供する。 - 特許庁

Grooves or holes are machined thinner than pattern dimensions in a BARC etching step, and etching is made under the conditions of a high mask selection ratio containing N_2 or O_2.例文帳に追加

BARCエッチングステップにてパターン寸法よりも溝又は孔を細く加工し、N_２またはO_２を含む高マスク選択比条件にてエッチングを行う。 - 特許庁

A gate electrode 31 is covered with a silicon nitride film 7, which has a larger etching selection ratio than that of an NSG film 14 under prescribed etching conditions.例文帳に追加

ゲート電極３１２が所定のエッチン条件においてＮＳＧ膜１４より選択比の大きなシリコン窒化膜７により覆われている。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for CABAC (Context-based Adaptive Binary Arithmetic Coding) based encoding or decoding using improved selection of a context model for a high compression ratio.例文帳に追加

圧縮率の向上のために改善されたコンテキストモデル選択を使用するＣＡＢＡＣ符号・復号化方法及び装置の提供。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method which can improve a selection ratio in etching a silicon layer with respect to an oxide film layer as a mask layer.例文帳に追加

マスク層としての酸化膜層に対するシリコン層のエッチングにおける選択比を向上させることができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

This SiCN etching stopper film has a low dielectric constant (5 to 5.5) and a sufficient etching selection ratio can be taken with respect to a layer insulating film 106.例文帳に追加

このＳｉＣＮ系エッチングストッパ膜は、低誘電率（５〜５．５）を有し、かつ、層間絶縁膜１０６に対して十分なエッチング選択比が取れる。 - 特許庁

To provide a dry etching method by which satisfactory etching work under a high aspect area is realized by obtaining a high selection ratio to a mask.例文帳に追加

より高い対マスク選択比を得ることができ、高アスペクト領域下での良好なエッチング加工が可能なドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of etching a ruthenium film with good reproducibility at the same time obtaining the high etching selection ratio of a resist film.例文帳に追加

レジスト膜に対する高エッチング選択比を得ると同時に、再現性よくルテニウム膜をエッチング加工することのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method for a semiconductor element which raises a photoresist selection ratio for formation of a thin photoresist to improve etching efficiency.例文帳に追加

薄いフォトレジストのフォトレジスト選択比を高めることで、エッチング効率を向上させることができる半導体素子のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The computation section 12 computes a ratio scale for the received codeword in reference to the transmission codeword selected by the selection section 11.例文帳に追加

演算部１２は、選択部１１で選択された送信符号語を基準として、受信符号語との間における比例尺度を演算する。 - 特許庁

To provide a method of selecting a fine particle by magnetic selection at a high recovery ratio of the magnetic material and non-magnetic materials with respectively high qualities after the magnetic selection by evenly dispersion a powder having magnetism in a liquid.例文帳に追加

磁性物を有する粉体を液中で均一に分散させ、磁力選別後の磁性物及び非磁性物の回収率及び品位をそれぞれ高める磁力選別による微粒子の選別方法を提供する。 - 特許庁

A control part 30a writes the type of a table selected before setting of the pay-out ratio in the previous selection table memory 45 and writes the type of a newly set table in the following selection table memory 46.例文帳に追加

制御部３０ａは、先行選択テーブルメモリ４５に、ペイアウト率の設定が行われる前に選択されていたテーブルの種類を書き込み、後続選択テーブルメモリ４６に、新たに設定されたテーブルの種類を書き込む。 - 特許庁

A manager directly inputs a merchandise selection button 8, the carbonated beverage to be made to correspond to the merchandise selection button 8 and the ratio of dilution water and carbonated water for generating the carbonated beverage by using ten keys.例文帳に追加

管理者は、商品選択釦８と、この商品選択釦８に対応付ける炭酸飲料と、この炭酸飲料を生成するための希釈水および炭酸水の割合とを、テンキーを用いて直接入力する。 - 特許庁

To provide a digital broadcasting receiver capable of shortening time from when starting channel selection to when video display is completed by acquiring, before channel selection, video format information and aspect ratio information on the program of a channel to be selected before channel selection is made after setting the video format information and the aspect ratio information to a monitor, a caption decoder, and an OSD display section.例文帳に追加

選局対象チャンネルの番組の映像フォーマット情報及びアスペクト比情報を選局前に取得しその映像フォーマット情報及びアスペクト比情報をモニタ、字幕デコーダ、ＯＳＤ表示部に設定してから選局を開始することで、選局開始から映像表示が完了するまでの時間を短縮できるデジタル放送受信装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment method capable of realizing an etching high in aspect ratio and high in precision, wherein the masking film is very thin and the base film (etch-stop film) has a high selection ratio.例文帳に追加

マスク膜厚の薄い高アスペクト比のエッチングにおいて、下地膜（エッチングストッパ膜）の高選択比で高精度な高アスペクト比のエッチングを実現可能な処理条件とするプラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method for increasing the etching selection ratio, while inhibiting cracks and breakdowns of a substrate or the like to be etched, and enabling a fine precise working and having a high aspect ratio with respect to an oxide material or the like.例文帳に追加

エッチングされる基板等のクラックや破壊を抑制しつつ、エッチング選択比を増大させ、酸化物材料等に対して精密かつ高アスペクト比な微細加工を可能とするプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave element with a high impedance ratio being a ratio of the impedance at an anti-resonance frequency to the impedance at a resonance frequency, high weatherproof performance and a high degree of selection of types of material of the substrate.例文帳に追加

反共振周波数でのインピーダンスと共振周波数でのインピーダンスとの比であるインピーダンス比が大きく、耐候性がよく、基板の材料種の自由度が高い、弾性表面波素子を提供する。 - 特許庁

The D/U ratio measured by means of ground radio equipment 34 or picture-monitoring results are fed back to the radio equipment 24 for frequency channel selection.例文帳に追加

地上無線機３４によって測定したＤ／Ｕ比や画面モニタ結果を地上無線機２４における周波数チャネル選択処理にフィードバックする。 - 特許庁

To provide a metal film polishing composition which is capable of making a selection ratio small even if fumed silica is used, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ヒュームドシリカを用いても選択比を小さくすることができる金属膜研磨用組成物、および金属膜研磨用組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

The size of a default selection frame to be displayed on a display part 63 at first is set to the same size as the ratio of frame images of a known film.例文帳に追加

表示部６３に最初に表示されるデフォルトの選択枠の大きさは、分かっているフィルムのコマ画像の比と同一大きさに設定されている。 - 特許庁

To provide an electrolytic polishing method in which a projection part on a surface is removed at a high polishing selection ratio; and a method for manufacturing a semiconductor device provided with this.例文帳に追加

高い研磨選択比で表面の凸部を除去する電解研磨方法およびこれを備える半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Even when the compression ratio is low, selection is made to store the job by only the PDL or by the PDL and halftone print data according to an expansion time of the PDL.例文帳に追加

圧縮率が低い場合でも、ＰＤＬの展開時間に応じて、ＰＤＬのみ、あるいはＰＤＬ及びハーフトーンプリントデータで保管するように選択する。 - 特許庁

When mode selection information designates 1:4 as a conversion ratio, only a tristate buffer 81 is enabled and the parallel data in 4-bit width are outputted.例文帳に追加

モード選択情報が変換比として１：４を指定しているときは、トライステートバッフア８１のみがイネーブル化され、４ビット幅のパラレルデータが出力される。 - 特許庁

Furthermore, when a black ratio in reading the selected character information is low, the user's selection can be wrong the effect is reported to the user.例文帳に追加

さらに、選択した文字情報の読み取り時の黒率が低いときは、ユーザが間違えて選択している可能性があり、その旨をユーザに通知する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, using an insulating film whose etching selection ratio with reference to silicon oxide film is high, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

シリコン酸化膜に対するエッチング選択比の高い絶縁膜を用いた半導体装置の製造方法および半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a production method of a semiconductor device capable of forming a fine pattern with high precision, homogeneously, and with a high selection ratio, and a plasma etching apparatus.例文帳に追加

微細なパターンを精度良く均一に、かつ、高選択比で形成することのできる半導体装置の製造方法及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

After the photoresist has been removed, the substrate temperature is made high, and the entire oxide film 7 is etched back under etching conditions of a large selection ratio with respect to the nitride film.例文帳に追加

フォトレジストを除去後、基板温度を高温にして、窒化膜に対して選択比の大きなエッチング条件で酸化膜７を全面エッチバックする。 - 特許庁

To provide an etching apparatus for diamond, enabling a high selection ratio of a diamond substrate with respect to a mask, a high etching speed, and a flat etching surface.例文帳に追加

マスクに対するダイヤモンド基材の選択比が高く、エッチング速度が速く、且つエッチング面が平坦になるダイヤモンドのエッチング装置を提供すること。 - 特許庁

To relieve an uncomfortable feeling during performing compulsory increasing operation of a gear ratio corresponding to a vehicle speed fall under a manual gear change mode selection.例文帳に追加

手動変速モード選択中の車両速度低下に伴う変速比の強制的な増大処理の実行に際しそれに伴う違和感を極力緩和する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device that accurately and anisotropically etches the desired site of a semiconductor wafer with high selection ratio.例文帳に追加

本発明は半導体ウェハの所望の部位を高い選択比で精度良く異方的にエッチングするための半導体装置の製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a treatment condition for achieving precise etching with a high selection ratio without generating any film damage in a low-permittivity film (Low-k film, such as SiOCH).例文帳に追加

低誘電率膜(Low-k膜、例えばSiOCH)において、膜ダメージを発生せず、高選択比で高精度なエッチングを実現可能な処理条件を提供する。 - 特許庁