「selection ratio」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an etching method which prevents a pattern by ensuring a remaining film after etching of resist, which becomes a mask by making a counter-resist selection ratio high.例文帳に追加

対レジスト選択比を高くすることにより、マスクとなるレジストのエッチング後残膜を確保し、パターンの肩落ちを防ぐエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To bore a self-aligned contact hole capable of decreasing a necessary selection ratio, when a sidewall is removed.例文帳に追加

サイドウォールを除去する方法において、必要な選択比を下げて自己整合コンタクトを開口することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Allocation selection is based on predicted values of a predetermined attribute (e.g., a peak-to-average power ratio (PAPR)) of the transmitted signal for different available allocation.例文帳に追加

割当選択は所定の属性の予測値（例えば、利用可能な様々な割当配置に対する送信信号のピーク平均電力比(PAPR)）に基づく。 - 特許庁

To provide a device for achieving the selection and display reproduction of content from relevant information recorded in the activity ratio status of a desired autonomic nerve.例文帳に追加

所望の自律神経の活性度状態になるように記録された関係情報からコンテンツを選択し表示再生させる装置を提供する。 - 特許庁

To provide processing conditions under which a low-dielectric-constant film (Low-k film, e.g. SiOCH) can be etched at a high selection ratio with high precision without being damaged.例文帳に追加

低誘電率膜(Low-k膜、例えばSiOCH)において、膜ダメージを発生せず、高選択比で高精度なエッチングを実現可能な処理条件を提供する。 - 特許庁

Additionally, preferably, a step for removing the mask pattern is performed by using an etching recipe having a selection ratio to the first gate insulating film pattern 115.例文帳に追加

また、マスクパターンを除去する段階は、第１ゲート絶縁膜パターン１１５に対して選択比を有するエッチングレシピを使用して実施することが望ましい。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and the like for a semiconductor device which can improve the selection ratio of a dielectric film containing Si against photoresist compared with former methods.例文帳に追加

従来に比べてフォトレジストに対するＳｉを含む誘電膜の選択比を向上させることのできる半導体装置の製造方法等を提供する。 - 特許庁

Thus, by controlling the gearshift ratio and a regeneration brake, a load is charged to a treading torque, and fitness travel corresponding to a selection of the user is performed.例文帳に追加

このようにして、変速ギア比と回生ブレーキを制御することにより、踏力トルクに負荷を与え、ユーザの選択に応じたフィットネス走行を行う。 - 特許庁

The semiconductor layer 3 has a high etching selection ratio with respect to the first conductive layer 2 and sufficiently high etching efficiency for the first conductive layer 2.例文帳に追加

この半導体層３は、第１導電層２とのエッチング選択比が高く、第１導電層２に対するエッチング効率が充分に高いものである。 - 特許庁

Then, when the operation speed of the selection lever 2 is smaller than a preset speed, the selection lever 2 is determined to be abnormally operated, thus driving the electric motor 7 with fixed ON duty ratio until the next range is reached.例文帳に追加

そして、セレクトレバー２の操作速度が予め設定された設定速度よりも小さい場合には、セレクトレバー２が異常操作されていると判断し、次のレンジに到達するまで一定のＯＮデューティ比で電動モータ７を駆動する。 - 特許庁

The determination part 47 compares the type of the table written in the previous selection table memory 45 with that written in the following selection table memory 46 for determining whether a change to a table having the same pay-out ratio is carried out or not.例文帳に追加

判定部４７は、先行選択テーブルメモリ４５に書き込まれたテーブルの種類と、後続選択テーブルメモリ４６に書き込まれたテーブルの種類とを比較し、ペイアウト率が同一のテーブルに切り替えられたか否かを判定する。 - 特許庁

In a case where a determination signal of the photographic range is received from the operating terminal (S26:YES), coordinates of a center of the selection frame of the photographic range and the magnification ratio of the selection frame are created as a camera control signal and transmitted to a terminal to be operated.例文帳に追加

そして、操作端末から撮影範囲の確定信号を受信した場合には（Ｓ２６：ＹＥＳ）、操作対象端末に撮影範囲の選択枠の中心の座標と選択枠の拡大率をカメラ制御信号として作成して送信する。 - 特許庁

Even in a belt type transmission of a same structure, speed change characteristics can be changed by regulating the maximum speed change ratio by selection of an applied adjusting member 90.例文帳に追加

また、同一構成のベルト式無段変速機であっても、適用する調整部材９０の選択により最大変速比を規定することで変速特性を変更できる。 - 特許庁

To provide a dry etching method and a device to be used for it capable of sufficiently taking the etching selection ratio of metal of a high melting point such as MoW and SiO2.例文帳に追加

ＭｏＷのような高融点金属とＳｉ０_2とのエッチング選択比を十分にとることが可能なドライエッチング方法及びそれに用いる装置を提供する。 - 特許庁

The slurry for the CMP removes the film to be polished at high speed and has an enhanced passivation function for a polishing stopper to show a high selection ratio property.例文帳に追加

本発明に係るＣＭＰ用スラリーは、被ポリシング膜に対する除去速度が速くてポリシングストッパに対するパッシベーション機能が強化されて高選択比特性を示す。 - 特許庁

A rule composition part 15 reads out the two or more rules selected by the selection part 14 from the storage part 11, and combines the rules in a ratio corresponding to the degree of similarity.例文帳に追加

ルール合成部１５は、選択部１４が選択した２以上のルールをルール記憶部１１から読み出し、それらのルールを類似度に応じた割合で合成する。 - 特許庁

Thereby, the gear shift control coinciding with the driving intension is executed to prevent the high-speed starting state or the selection of the low- speed side gear shift ratio in the high-speed traveling.例文帳に追加

よって運転意図に符合した変速制御が実行されて、ハイ発進状態になったり、高速走行で低速側変速比が選択されるのを防止し得る。 - 特許庁

To plasma-etch thin film of non-single-crystalline silicon with a high selection ratio of etching with an apparatus of a simple constitution and with a simple process in the method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、簡単な装置構成及び工程によって、高いエッチング選択比で非単結晶シリコン薄膜をプラズマエッチングする。 - 特許庁

The remaining polysilicon layer 14 that is to be etched is etched at low speed with which a selection ratio with the gate insulating film (oxide film) 13 is improved, and a final etching form is set.例文帳に追加

その後、エッチングされるべき残りのポリシリコン層１４をゲート絶縁膜（酸化膜）１３との選択比を高めた低速エッチングで行い、最終的なエッチング形態とする。 - 特許庁

Firstly, a wireless terminal transmits a signal-to-noise ratio and terminal position information from each base station to a communication function selection server for each of a plurality of different communication function parts.例文帳に追加

最初に、無線端末が、異なる複数の通信機能部毎に、各基地局からの信号対雑音比及び端末位置情報を通信機能選択サーバへ送信する。 - 特許庁

To provide a dry-etching method which can confirm that an etching selection ratio between a high melting point metal film such as an Mo film, a W film, etc., and an oxide film such as an SiO_2 film, etc., is secured.例文帳に追加

ＭｏＷ等の高融点金属とＳｉＯ_2等の酸化膜とのエッチング選択比確保を確認することが可能なドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method capable of improving a selection ratio of SiCN to SiOCH, compared to a conventional method, and to provide a plasma etching apparatus and a computer storage medium.例文帳に追加

従来に比べてＳｉＯＣＨに対するＳｉＣＮの選択比を向上させることのできるプラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a controller od an automatic transmission for compatibly securing drivability and improving fuel economy by permitting the selection of a gear ratio by computing operation.例文帳に追加

演算により変速比を選択するものにあって、ドライバビリティの確保と燃費向上との両立を図ることが可能な自動変速機の制御装置を提供する。 - 特許庁

Alternatively, the etching selection ratio of the resist 16 relative to the material 15 of the lens in layer is set smaller than 1 for forming a lens 7, in a layer thickness larger than that of the resist 16.例文帳に追加

または、レジスト１６の層内レンズ材料１５に対するエッチング選択比を１より小さくしてレジスト１６の厚さより厚い層内レンズ７を形成する。 - 特許庁

To secure a good anisotropic (perpendicular) shape and a high selection ratio with respect to both of a mask and an underlying film when etching an insulating film, and simultaneously to prevent an etching stop.例文帳に追加

絶縁膜のエッチングにおいて良好な異方性（垂直）形状とマスクおよび下地膜の双方に対する高い選択比を確保しつつエッチストップを防止する。 - 特許庁

Used is a glass filter such that the quantity of irradiation with ultraviolet rays varies in three stages from the center during an ultraviolet-ray curing process for improving the selection ratio of resist to a processed film.例文帳に追加

レジストの被加工膜との選択比を向上させるための紫外線キュア処理時に、中心から紫外線の照射量が３段階に変化するガラスフィルタを用いる。 - 特許庁

To provide a plasma etching method and the like capable of improving selection ratio of a dielectric layer containing silicon to an organic film layer as a mask as compared with a conventional system.例文帳に追加

従来に比べてマスクとしての有機膜層に対するシリコン含有誘電層の選択比を向上させることのできるプラズマエッチング方法等を提供する。 - 特許庁

A movement mode selection part 66 analyzes the ratio and selects a movement mode of estimating the movement situation of each block between a plurality of coding object frames.例文帳に追加

運動モード選択部６６は、前記比率を解析して複数の符号化対象フレーム間における各ブロックの運動状態を推定する運動モードを選択する。 - 特許庁

There are three patterns as the variation starting patterns of the special patterns and the dummy patterns, and a selection ratio of a big win, ready and losing is set to the respective patterns according to the lottery result.例文帳に追加

特別図柄とダミー図柄の変動開始パターンとして３つパターンがあり、それらの各パターンに抽選結果に応じて大当たり、リーチ、ハズレの選択率が設定される。 - 特許庁

To provide a wafer polishing slurry whose removal selection ratio of a silicon oxide film to a silicon nitride film is enhanced and a chemical and mechanical polishing method by the use of the same.例文帳に追加

シリコン窒化膜に対するシリコン酸化膜の除去選択比を高めたウェーハ研磨用スラリー、及びこれを用いた化学的機械的研磨方法を提供する。 - 特許庁

By expanding a ratio of the distance in the obliquely transverse direction to the distance in the vertical direction, highly precise wavelength selection as was impossible conventionally becomes possible.例文帳に追加

この斜め横方向への移動量と上下方向への移動量の比率を拡大することで、従来不可能であった高精度な波長選択が可能となる。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing composition that improves a polishing selection ratio of a silicon oxide or a silicon nitride with respect to polysilicon, and a polishing method using the same.例文帳に追加

ポリシリコンに対する酸化ケイ素あるいは窒化ケイ素の研磨選択比を改善できる化学機械研磨組成物並びにそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a developer composition for a resist, the composition having an improved dissolving rate with an alkali developer and preventing decrease in a dissolution selection ratio while keeping process stability.例文帳に追加

プロセス安定性を維持しつつ、アルカリ性現像液に対する溶解速度を向上させ、溶解選択比を低下させることのないレジスト現像液組成物を提供すること。 - 特許庁

This air conditioner selection supporting system 1 comprises a storage portion 16, an air conditioning load pattern derivation means 13a, and an optimum capacity ratio derivation means 13b.例文帳に追加

本発明に係る空調機選定支援システム１は、蓄積部１６と、空調負荷パターン導出手段１３ａと、最適容量比導出手段１３ｂとを備える。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing composition exhibiting an adjustable removing speed and a selection ratio of removing speed of an insulator film such as silicon oxide and Si3N4.例文帳に追加

酸化ケイ素及びＳｉ３Ｎ４のような絶縁体膜の調整可能な除去速度及び除去速度の選択比を示す、ケミカルメカニカルポリッシング組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which etching selection ratio for an underlying layer is high when the upper layer of a multilayer film deposited by CVD is etched.例文帳に追加

ＣＶＤ法により成膜された積層膜の上層をエッチングする際に、下層に対するエッチング選択比の高い半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A weight selection section 140 sets a transmission weight Wtx on the basis of a maximum ratio composite weight W to multipliers 160-163 to form the transmission beam.例文帳に追加

ウエイト選択部１４０は、最大比合成ウエイトＷに基づいて送信ウエイトＷｔｘを乗算器１６０〜１６３に設定するため、送信ビームをフォーミングできる。 - 特許庁

A quantization table selection section 112 selects a quantization table for each component from a group of quantization tables 2 according to a preset image quality level and the calculated ratio.例文帳に追加

量子化テーブル選択部１１２は予め設定された画質レベルと算出された比率に応じて、各成分用の量子化テーブルを量子化テーブル群２から選択する。 - 特許庁

To provide an anisotropic etching processing method where etching rate is high, etching selection ratio of substrate vs. resist is high and micro-filling property is reduced.例文帳に追加

本発明は、エッチング速度が高く、基板対レジストのエッチング選択率が高く、微小充填性を低減した異方性エッチング処理方法を提供する事を目的とする。 - 特許庁

Moreover a satisfactory selection ratio can be obtained by using the semiconductor film contact layer 13b as an etching stopper for forming the hole of the ruggedness film for scattering 16b at this time.例文帳に追加

またこのとき１６ｂ散乱用凹凸膜のホール形成用エッチングストッパーとして１３ｂ半導体膜コンタクト層を用いることで良好な選択比を得ることができる。 - 特許庁

To provide a dephosphorizing agent enhanced in the coefficient of selection between phosphorus and another anions dissolved in water and having a high selective phsphorous removing ratio even in the presence of other anions.例文帳に追加

水に溶存しているリンとその他の陰イオンとの選択係数を高め、他の陰イオンの存在下においても、リンの除去率が選択的に高い脱リン剤を提供する。 - 特許庁

Fumed silica is used as abrasive grains, and the metal film polishing composition is set nearly at pH7, whereby a selection ratio between a metal film polishing rate and an oxide film polishing rate can be made small.例文帳に追加

ヒュームドシリカを砥粒として用いて、ｐＨを中性付近とすることで金属膜研磨速度と酸化膜研磨速度との比である選択比を小さくすることができる。 - 特許庁

To provide a polishing composition for solving such problems that, in polishing a semiconductor device having a copper film and a tantalum compound, the polishing selection ratio for the copper and the tantalum compound may be inadequate or that, when the selection ratio to the copper is raised, the copper film at wiring grooves or holes may be overshaved or the smoothness of the surface of the copper film may be impaired.例文帳に追加

銅膜およびタンタル化合物を有する半導体デバイスを研磨すると、銅とタンタル化合物の研磨選択比が充分でなかったり、銅に対する選択比を高めると配線溝や孔の銅膜が削られ過ぎたり、銅膜表面の平滑性が損なわれる等の問題があり、これらの問題点を改善した研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing composition solving such problems that in polishing a semiconductor device having a copper film and a tantalum compound, the polishing selection ratio for the copper and the tantalum compound is inadequate, or when the selection ratio to the copper is raised, the copper film at wiring grooves or holes is overshaved or the smoothness of the surface of the copper film is impaired.例文帳に追加

銅膜およびタンタル化合物を有する半導体デバイスを研磨すると、銅とタンタル化合物の研磨選択比が充分でなかったり、銅に対する選択比を高めると配線溝や孔の銅膜が削られ過ぎたり、銅膜表面の平滑性が損なわれる等の問題があり、これらの問題点を改善した研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing composition improved in such problems that, in polishing a semiconductor device having a copper film and a tantalum compound, the polishing selection ratio for the copper and the tantalum compound is inadequate, or when the selection ratio to the copper is raised, the copper film at wiring grooves or holes is overshaved or the smoothness of the surface of the copper film is impaired.例文帳に追加

銅膜及びタンタル化合物を有する半導体デバイスを研磨すると、銅とタンタル化合物の研磨選択比が充分でなかったり、銅に対する選択比を高めると配線溝や孔の銅膜が削られ過ぎたり、銅膜表面の平滑性が損なわれる等の問題があり、これらの問題点を改善した研磨用組成物を提供する。 - 特許庁