「vapor concentration」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Liquid reduced in xenon is supplied to a first added distilling column 54, and it is separated into top vapor rich in oxygen, and the liquid oxygen product with xenon concentration lower than that in the raw material air.例文帳に追加

キセノンの減少した液を第一の追加の蒸留塔５４へ供給して、酸素に富む塔頂蒸気と、キセノン濃度が原料空気中のそれよりも低い前記液体酸素製品とに分離する。 - 特許庁

At the same time, while the amount of water vapor is controlled by the concentration of carbon monoxide in produced gas, the organic halogen compounds in the soil are decomposed surely by being heated indirectly.例文帳に追加

同時に、水蒸気量を生成するガス中の一酸化炭素濃度により制御しながら間接的に加熱することにより土壌中に含まれる有機ハロゲン化合物を確実に分解処理する。 - 特許庁

(c) It is recognized that saturated vapor concentration may be used as an additional consideration by some regulatory systems to provide for specific health and safety protection. (e.g., United Nations Recommendations for the Transport of Dangerous Goods).例文帳に追加

(c) ある規制システムは、飽和蒸気濃度を追加要素として使用し、特別な健康および安全保護規定を設けていることは認識している。（例：国連危険物輸送に関する勧告） - 経済産業省

This method for purification-treating the fermentation alcohol is characterized by controlling the mash column so that the alcohol concentration of a mixed vapor of the alcohol and water distilled from the mash column becomes <50 mass%, and also controlling the amount of refluxing condensate liquid to the distillation column so that the alcohol concentration of the mixed vapor of the alcohol and water distilled from the distillation column becomes 55 to 85 mass%.例文帳に追加

もろみ塔で留出するアルコールと水との混合蒸気のアルコール濃度が５０質量％未満になるように、もろみ塔を制御し、且つ、蒸留塔で留出するアルコールと水との混合蒸気のアルコール濃度が５５〜８５質量％となるように、蒸留塔への凝縮液の還流量を制御することを特徴とする醗酵アルコール水溶液から無水アルコールを得るための精製処理方法に関する。 - 特許庁

The concentration of carbon dioxide in the atmosphere 16 is lower than that in an atmosphere 15 including the ingredients of the removed solvent, the concentration of nitrogen oxides in the atmosphere 16 is lower than that in the atmosphere 15 including the ingredients of the removed solvent, and the concentration of water vapor in the atmosphere 16 is lower than that in the atmosphere 15 including the ingredients of the removed solvent.例文帳に追加

雰囲気１６の二酸化炭素濃度は、除去された溶媒の成分を含む雰囲気１５の二酸化炭素濃度よりも低く、かつ雰囲気１６の窒素酸化物濃度は、除去された溶媒の成分を含む雰囲気１５の窒素酸化物濃度よりも低く、かつ雰囲気１６の水蒸気の濃度は、除去された溶媒の成分を含む雰囲気１５の水蒸気の濃度よりも低い。 - 特許庁

The method for vapor growth of growing the epitaxial layer on a semiconductor substrate comprises growing the epitaxial layer by measuring previously the concentration of a carrier of the semiconductor substrate at a room temperature and then by controlling a set temperature of the substrate responding to the carrier concentration at the room temperature so that a real surface temperature of the substrate may become a desired temperature regardless of the carrier concentration of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上にエピタキシャル層を成長させる気相成長方法において、予め半導体基板の室温におけるキャリア濃度を測定し、該半導体基板のキャリア濃度に関わらず実際の基板の表面温度が所望の温度となるように、前記室温におけるキャリア濃度に応じて基板の設定温度を制御し、エピタキシャル層を成長させるようにした。 - 特許庁

To provide a vaporizer which is used for supplying a gaseous CVD (chemical vapor deposition) material into a CVD system for use in semiconductor fabrication, etc., and by which high-quality vapor gas can be obtained by efficiently performing vaporization at desired concentration and flow rate even in the case where a solid CVD material is used.例文帳に追加

半導体の製造等に用いられる化学気相成長（ＣＶＤ）装置にガス状のＣＶＤ原料を供給するための気化器において、固体ＣＶＤ原料を用いた場合においても、所望の濃度及び流量で効率よく気化させることにより高品質の気化ガスが得られる気化器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for stably obtaining a (meth)acrylic acid solution of high (meth)acrylic acid concentration regardless of the fluctuation of the temperature of the gas discharged from a vapor phase catalytic oxidation reactor employed in a (meth)acrylic acid production process that employs a vapor phase catalytic oxidation reaction, and a system to be used in the method.例文帳に追加

本発明は、接触気相酸化反応による（メタ）アクリル酸の製造工程において、接触気相酸化反応器から排出されるガスの温度変動に拘わらず、高濃度のアクリル酸溶液を安定的に得るための方法と、当該方法で用いるシステムを提供することを目的とする。 - 特許庁

A vapor amount Vp contained in the fuel is estimated from a map (S158 and S160) selected based on an alcohol concentration Coh (S162), and a delay time DTinj added to a fuel-injection period which is based on the direct-injection injector at a start depending on the vapor amount Vp is calculated (S164-S168).例文帳に追加

アルコールの濃度Ｃｏｈに基づいて選択したマップ（Ｓ１５８，Ｓ１６０）により燃料に含まれるベーパ量Ｖｐを推定し（Ｓ１６２）、このベーパ量Ｖｐに応じて始動時における直噴インジェクタを主体とする燃料噴射期間に対して加算する遅延時間ＤＴｉｎｊを算出している（Ｓ１６４〜Ｓ１６８）。 - 特許庁

” This instructs that the reference value is set in mg/l in the column of vapor inhalation of the main body of the Table, since the test described as conducted as “vapor” actually has “inclusion of mist” in some cases, and in this case the concentration cannot be indicated accurately unless indicated in mg/l, but when the test is conducted with vapor that is completely gasified, classification is made with the reference value shown in ppm.例文帳に追加

これは、「蒸気」として試験をしたと記載されていても、実際は「ミストが混在」している場合があるので、このような場合は mg/lでないと正確な濃度表示ができないことから 表本体の蒸気吸入の欄には mg/l で基準値が定められているが、きちんと気化させた蒸気で試験を実施している場合は ppm で示された基準値で分類するよう指示をしているものである。 - 経済産業省

In the high carrier concentration region, a laminated structure, composed of the n-type or p-type impurity layer and a group IV semiconductor layer which are successively repeatedly laminated by vapor phase growth, for example, is formed.例文帳に追加

高キャリア濃度領域は例えば気相成長により順次繰返して積層されるｎ型またはｐ型いずれかの一方の不純物層とIV族半導体層とからなる積層構造の形成により行なわれる。 - 特許庁

When an output of the intake O_2 sensor 28 on purge cutting becomes lower than the opening malfunction judgment value, that is, when the vapor concentration during purge cutting is high unduly, the closing malfunction is judged as the opening malfunction in the purge control valve 18.例文帳に追加

パージカット時における吸気Ｏ_２センサ２８の出力が開故障判定値を下回る場合、すなわち、パージカット中のベーパ濃度が不当に高い場合に、パージ制御バルブ１８に開故障が生じたと判定する。 - 特許庁

A gas composition adjusting device 12 for inside reaction chamber keeps the concentration of the resulted product of the etching in the reaction chamber 1 fixed to the equilibrium vapor pressure of a solid 14 in the resulting product through temperature control by means of a temperature controller 13.例文帳に追加

反応室内ガス組成調整装置１２は温度制御装置１３による温度制御で反応室１内のエッチング生成物濃度をエッチング生成物の固体１４の平衡蒸気圧に一定に保つ。 - 特許庁

The filtrate returned through the return pipeline 5 is mixed with a liquid (an original liquid) to be treated and the obtained liquid mixture is made to exchange the heat with the condensed water, which is discharged form the vapor compression type vaporization/concentration unit 2, via a preheater 6.例文帳に追加

リターン管路５を介して返送されたろ液は処理液（原液）と混合され、混合液は予熱器６を介して蒸気圧縮型蒸発濃縮装置２からの凝縮水と熱交換される。 - 特許庁

As a result of the passive air injection, the combined flow of hydrogen and oxygen reacts in the recombiner 104 to form water vapor, thereby reducing the hydrogen concentration of the offgas exiting the recombiner 104.例文帳に追加

受動的空気注入の結果、水素と酸素の混合流が再結合器１０４内で反応して水蒸気が発生し、これに伴って、再結合器１０４から流出するオフガスの水素濃度が低下する。 - 特許庁

A vapor growth device 40 is provided with a treatment chamber 1, an analysis and control unit 2, a gas panel 3a, a gas panel 3b, a heater power supply 4, a pressure measuring means 5, a concentration measuring means 6 and a particle measuring means 7.例文帳に追加

気相成長装置４０には処理チャンバ１、分析及び制御ユニット２、ガスパネル３ａ、ガスパネル３ｂ、ヒータ電源４、圧力計測手段５、濃度計測手段６、及びパーティクル計測手段７が設けられる。 - 特許庁

A distillation system is provided for acquiring water by passing air through a distillation device, and takes the atmosphere in a compression apparatus C for increasing its acquiring efficiency, and further increases the efficiency by heightening the concentration of water vapor in the atmosphere.例文帳に追加

蒸留システムは空気を蒸留装置に通し水を得るものだが、その取得効率を上げるため大気を圧縮装置Ｃへ取り込み、大気中の水蒸気の濃度を高めることにより効率化を図る。 - 特許庁

To provide a catalyst for efficiently reducing and removing nitrogen oxide in exhaust gas which contains water vapor and high-concentration oxygen generated from various lean burn engines, a boiler, etc., as well as exhaust gas of a diesel engine.例文帳に追加

ディーゼル機関の排ガスをはじめ、種々のリーンバーンエンジン、ボイラなどから発生する水蒸気および高濃度の酸素を含有する排ガス中の窒素酸化物を効率良く還元除去する触媒を提供する - 特許庁

This acrylonitrile composition is characterized in that the acrylonitrile composition is produced by a vapor-phase catalytic oxidation reaction between propane and ammonia and the concentration of propionitrile in the composition is ≥5 ppm but ≤1%.例文帳に追加

プロパンとアンモニアとの気相接触酸化反応により製造されたアクリロニトリル組成物であって、該組成物中のプロピオニトリル濃度が５ｐｐｍ以上、１％以下であることを特徴とするアクリロニトリル組成物。 - 特許庁

The fragrance can be efficiently applied to stored articles such as all towels T because the storing spaces S serves as a closed space by closing a door 6 and the concentration of the fragrance vapor f can be enhanced.例文帳に追加

扉６を閉じることにより収納空間Ｓが閉塞空間となり、芳香蒸気ｆの濃度を高めることができるので、効率よく全てのタオルＴ等収納物に芳香を付着させることができる。 - 特許庁

The temperature of the exhaust gas coming into contact with the N_2O decomposition catalyst 9 or the addition amount of the reducing agent is controlled corresponding to the concentration of water vapor in the exhaust gas in the front stage of the N_2O decomposition catalyst 9 to suppress the lowering of an N_2O decomposition ratio.例文帳に追加

N_2O分解触媒９の前段における排ガス中の水蒸気濃度に応じて、N_2O分解触媒９と接触する排ガス温度または還元剤の添加量を制御し、N_2O分解率の低下を抑制する。 - 特許庁

To provide an apparatus for solidifying a solution or liquid waste, which is constituted by combining a vapor compression type vaporization/concentration unit excellent in energy efficiency as a concentration unit of a preceding stage with a cooling type crystallization unit as a crystallization unit of a succeeding stage to attain drastic energy saving while hardly using steam and to provide a method for solidifying the solution or liquid waste.例文帳に追加

前段濃縮装置としてエネルギー効率のよい蒸気圧縮型蒸発濃縮装置と、後段晶析装置として冷却式晶析装置とを組み合わせることにより、蒸気を殆ど使用せず、大幅な省エネルギー化を可能にした溶液・廃液の固形化装置及び固形化方法を提供する。 - 特許庁

To provide an absorption freezer, capable of increasing freezing capability and improving increase in cooling performance, without causing an apparatus to become large-sized by smoothly separating water vapor and a medium concentration absorption solution through a separation cylinder of a high-temperature regenerator, and preventing scattered fraction of the medium concentration absorption solution from mixing in to the water.例文帳に追加

高温再生器の分離筒で水蒸気と中濃度吸収液とを円滑に分離し、水蒸気に中濃度吸収液の飛沫が混ざることを防止して、装置の大型化を伴わずに冷凍能力の増大および冷房の立ち上げ性能の向上ができる吸収式冷凍装置の提供。 - 特許庁

A control section 69 calculates, as a calculated concentration, the concentration of an organic solvent in a treatment gas on the basis of temperature-versus-concentrtaion dew point information stored in advance in a memory 71 per pressure based on the saturated vapor pressure curve of an organic solvent, measured pressure obtained from a pressure gauge 56, and a measured temperature obtained from a thermometer 57.例文帳に追加

制御部６９は、記憶部７１に予め記憶してある、有機溶剤の飽和蒸気圧曲線に基づく圧力ごとの温度対濃度の露点情報と、圧力計５６からの測定圧力と、温度計５７からの測定温度とに基づき、処理ガス中における有機溶剤の濃度を算出濃度として算出する。 - 特許庁

ECU 72 executes failure diagnosis using a value obtained by compensating the reference pressure Pref at the reference hole in a reduction direction by ΔP as judgment pressure for diagnosing existence of a failure with considering pressure drop component in the evaporation route due to condensation of fuel vapor at a time of adsorption in the canister 24 when vapor concentration in the evaporation route is high.例文帳に追加

ＥＣＵ７２は、エバポ経路内のベーパ濃度が高いとき、キャニスタ２４内での吸着時における燃料蒸気の凝縮によるエバポ経路内の圧力低下分を考慮し、基準孔による基準圧ＰｒｅｆをΔＰだけ低くする方向に補正した値を故障の有無を診断するための判定圧として、故障診断を実行する。 - 特許庁

Article 577 The employer shall take necessary measures such as making emission sources airtight and installation of a local exhaust ventilation system or general ventilation system at an indoor workshop where exuding gas, vapor, or dust in order to keep the concentration of gas, vapor or dust in the air in the said indoor workshop below harmful levels. 例文帳に追加

第五百七十七条　事業者は、ガス、蒸気又は粉じんを発散する屋内作業場においては、当該屋内作業場における空気中のガス、蒸気又は粉じんの含有濃度が有害な程度にならないようにするため、発散源を密閉する設備、局所排気装置又は全体換気装置を設ける等必要な措置を講じなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a technique for controlling a residual carrier to low concentration without changing characteristics of a semiconductor thin film when epitaxially growing the semiconductor thin film on a semiconductor substrate by an MBE (Molecular Beam Epitaxy) method or an MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) method.例文帳に追加

ＭＢＥ法又はＭＯＣＶＤ法により半導体基板上に半導体薄膜をエピタキシャル成長させる際に、半導体薄膜の特性を変えることなく、残留キャリアを低濃度に制御する技術を提供する。 - 特許庁

More specifically, a control means executes purge processing in which only evaporated fuel is supplied to an engine from a purge pathway and burnt when the vapor concentration of the evaporated fuel is equal to or greater than a prescribed value while the engine is stopped.例文帳に追加

具体的には、制御手段は、エンジンの停止中において、蒸発燃料のベーパ濃度が所定値以上となった際に、パージ通路より蒸発燃料のみをエンジンに供給して燃焼させるパージ処理を実行する。 - 特許庁

The board with a conductive film can be obtained by forming the above base film, without using oxygen or even if oxygen of low concentration is used through a CVD method, in which water vapor is used as a main oxidizing agent in place of oxygen.例文帳に追加

この導電膜付き基板は、下地膜の上記層を、酸素を用いないか、用いたとしても低濃度とし、これに代えて水蒸気を主要な酸化剤として用いるＣＶＤ法により成膜することにより得ることができる。 - 特許庁

If a purge executing condition to purge vaporized fuel collected by a canister 24 is materialized, a generating amount (a charge target voltage) of an alternator 31 is set based on vapor concentration.例文帳に追加

エンジン１１のアイドル運転状態で、キャニスタ２４に捕集された蒸発燃料をパージするパージ実行条件が成立したら、蒸発燃料のベーパ濃度に基づいてオルタネータ３１の発電量（充電目標電圧）を設定する。 - 特許庁

An inert liquid 2 having a known boiling point temperature higher than the melting point of solder by about 10°C is evaporated, and the concentration of oxygen in the vapor atmosphere 2a is controlled to ≤300 ppm, and reflow soldering is performed.例文帳に追加

沸騰点温度が既値で、はんだの溶融温度よりもほぼ１０℃高い不活性液体２を蒸発させて、その蒸気雰囲気２ａ中の酸素濃度を３００ｐｐｍ以下に制御してリフローはんだ付けを行うようにした。 - 特許庁

An ECU 60 calculates the water vapor dew point temperature T on the basis of the alcohol concentration E in the fuel, and forcibly operates the EGR mechanism 38 when an exhaust temperature index THW is lower than the dew point temperature T.例文帳に追加

ＥＣＵ６０は、燃料中のアルコール濃度Ｅに基いて水蒸気の露点温度Ｔを算出し、排気温度指標ＴＨＷが露点温度Ｔよりも低い場合には、ＥＧＲ機構３８を強制的に作動させる。 - 特許庁

With this apparatus, flow velocity increases as it draws closer to the exhaust port 11 in a flow velocity distribution above the substrate 1, resulting in a constant concentration of solvent vapor above the substrate 1 regardless of the place or the time.例文帳に追加

この装置により、基板１上の流速分布が、排気口１１に近づくにしたがって大きくなる分布となり、この結果、基板１上部の溶媒蒸気濃度を場所によらず、かつ時間によらず一定とすることができる。 - 特許庁

Such an arrangement can adjust a flow rate of the process gas to be supplied to the whole surface on which a vapor phase deposited film of the wafer 105 is formed, improving the uniformity in film thickness and impurity concentration over the whole surface of the wafer 105.例文帳に追加

これにより、ウェハ１０５の気相成長膜が成膜される全面に供給するプロセスガスの流量を調整し、ウェハ１０５全面における膜厚や不純物濃度の均一性を向上させることができる。 - 特許庁

To realize a modulation-doped multiple quantum well structure having a sharp Zn profile of a few nm by satisfying two requirements, an increase in Zn concentration, and a reduction in the diffusion of Zn by the use of an organic metal vapor growth method using Zn.例文帳に追加

Ｚｎを用いた有機金属気相成長法を用いて、Ｚｎ濃度の増大とＺｎ拡散の低減を両立し、数ｎｍの急峻なＺｎプロファイルを有する変調ド−プ多重量子井戸構造を実現する。 - 特許庁

When the fuel temperature is higher than the limit temperature, it is determined that the detection accuracy of the alcohol concentration sensor 36 may be deteriorated since vapor may be generated in the fuel, fuel injection control is executed by using the alcohol concentration stored value of the fuel stored in the backup RAM of the ECU 37 or the like.例文帳に追加

一方、燃料温度が限界温度よりも高いときには、燃料中にベーパが発生している可能性があるため、アルコール濃度センサ３６の検出精度が低下している可能性があると判断して、ＥＣＵ３７のバックアップＲＡＭ等に記憶されている燃料のアルコール濃度記憶値を用いて燃料噴射制御を行う。 - 特許庁

In a refining method for performing the desulfurization in the molten iron by blowing magnesium vapor together with carrier gas into the molten iron, the refining efficiency of the magnesium is improved by changing the flowing rate of the carrier gas according to sulfur concentration in the molten iron or by changing the blow-flowing rate of the magnesium according to the sulfur concentration in the molten iron to control the partial pressure of the magnesium in the blowing gas.例文帳に追加

マグネシウム蒸気をキャリアーガスとともに溶銑中に吹込み、溶銑の脱硫を行なう精錬方法において、溶銑中の硫黄濃度に応じてキャリアーガス流量を変化させるか、溶銑中の硫黄濃度に応じてマグネシウム吹込み流量を変化させて、吹込みガス中のマグネシウム分圧を制御することにより、マグネシウムの精錬効率を高める。 - 特許庁

To form a high quality copper thin film having a low impurity concentration by chemical-vapor deposition in a little latency time and at high deposition rate, uniformly over the whole area in the surface for a large-diameter substrate with a high efficiency of using material.例文帳に追加

化学気相成長法によって、不純物濃度の低い良質な銅薄膜を、潜伏時間が少なく、かつ高い成膜速度で、大口径の基板に対しても面内全域にわたって均一に、高い原料使用効率で成膜を行なう。 - 特許庁

This coated film has a metallic coated film layer 4 containing 1-14% brightening pigment consisting of the crushed pieces of vapor deposited metal film based on pigment weight concentration, and 11-50 wt.% binder resin consisting mainly of a chain state polymer as a resin solid portion.例文帳に追加

蒸着金属膜の粉砕片からなる光輝性顔料を顔料重量濃度で１〜１４％含み、鎖状高分子を主成分とするバインダー樹脂を樹脂固形分で１１〜５０重量％含むメタリック塗膜層４を有する。 - 特許庁

To enhance the uniformity of various characteristics, including carrier concentration, of an epi-film deposited on the surface of the same substrate and substrates in the same batch when the epi-film is formed on the substrate by a vapor phase thin film epitaxial growth method.例文帳に追加

気相薄膜成長法により基板上にエピ膜を形成する際、同一基板面上、および同一バッチ内の基板面上間において成膜されるエピ膜中のキャリア濃度を始めとする諸特性の均一性を向上させる。 - 特許庁

A method for storing a resorcinol-formaldehyde-aliphatic ketone resin aqueous solution is provided, involving adjusting the oxygen concentration in the vapor phase of a storage container at 3(v/v)% or lower in storing the resorcinol-formaldehyde-aliphatic ketone resin in the form of an aqueous solution in the container.例文帳に追加

レゾルシン・ホルムアルデヒド・脂肪族ケトン樹脂を水溶液として容器に保存する際に、容器の気相部中の酸素濃度を３（Ｖ／Ｖ）％以下に調節することを特徴とするレゾルシン・ホルムアルデヒド・脂肪族ケトン樹脂水溶液の保存方法。 - 特許庁

To provide a concentrator which concentrates a liquid to be treated by rotating the agitation blades with a rotating shaft extending in a nearly horizontal direction and which enables efficient concentration treatment by suppressing floating or diffusion of vapor generated from the liquid.例文帳に追加

略水平方向に伸びる回転軸により攪拌羽根を回転して被処理液を濃縮する濃縮装置において、被処理液から発生するベーパの浮遊、拡散を抑制して、効率的な濃縮処理ができる濃縮装置を提供すること。 - 特許庁

This adhesive for an inorganic vapor-deposited film consists of a blended material of 100 pts.wt. polyurethane resin containing 30-300 equivalent/ton branching point concentration with 0.05-5 pt.wt. amine-based silane coupling agent, as a main component.例文帳に追加

本発明は分岐点濃度を３０〜３００当量/トン含有するポリウレタン樹脂１００重量部に対しアミン系シランカップリング剤０.０５〜５重量部との配合物を主成分とする無機蒸着フィルム用接着剤に関するものである。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor production apparatus made of quartz which is almost prevented from being clouded even when repeatedly used and provides nitride semiconductors stable in the Si carrier concentration, in the production of the nitride semiconductor by a hydride vapor phase epitaxy method.例文帳に追加

ハイドライド気相成長法による窒化物半導体の製造において、繰り返して使用しても白濁しにくくて、得られる窒化物半導体のＳｉキャリア濃度も安定している石英製の窒化物半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for supplying a combustible processing fluid or its vapor to a substrate for processing, which is capable of lowering a concentration of an inflammable gas in exhaust by cooling the exhaust from a periphery of the substrate.例文帳に追加

可燃性の処理流体又はその蒸気を基板に供給して処理を行う装置において、基板周辺からの排気を冷却することにより排気中の引火性のガスの濃度を低下することを可能にした基板処理装置を提供する。 - 特許庁