「vacuum reaction」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DEVICE FOR HYDROGEN NUCLEAR FUSION REACTION IN VERY HIGH VACUUM例文帳に追加

超真空における水素核融合反応装置 - 特許庁

REACTION VESSEL AND VACUUM HEAT INSULATING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

反応容器およびそれを用いる真空断熱装置 - 特許庁

A light source 13 is arranged outside a vacuum reaction chamber 11.例文帳に追加

真空反応室１１の外部に光源１３を設ける。 - 特許庁

VACUUM DEVICE WITH REACTION PRODUCT REMOVING FUNCTION AND REACTION PRODUCT REMOVING METHOD THEREOF例文帳に追加

反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法 - 特許庁

RADIO FREQUENCY (RF) MATCHING NETWORK FOR VACUUM REACTION CHAMBER AND METHOD OF ARRANGING SAME例文帳に追加

真空反応室のＲＦマッチングネットワーク及びその配置方法 - 特許庁

The method for producing the polyester resin is a method for producing a polyester resin comprising completing a polyester resin polymerization reaction in a vacuum, shifting the degree of vacuum of the reaction system to the side of normal pressure, and performing a depolymerization reaction or a modification reaction, wherein the reaction system is brought to a vacuum again after the depolymerization reaction or the modification reaction.例文帳に追加

減圧下におけるポリエステル樹脂重縮合反応を終了し、反応系の該減圧度を常圧側へ移行せしめて、解重合反応あるいは変性反応を行なうポリエステル樹脂製造方法において、解重合反応あるいは変性反応後に再度減圧することを特徴とするポリエステル樹脂の製造方法に関する。 - 特許庁

The vacuum pump 14 communicating with the reaction container so as to leave a definite distance from the reaction container sucks the air in the plasma generation container and the reaction container to form a vacuum state.例文帳に追加

反応容器から一定の距離を隔てて該反応容器と連通する真空ポンプ１４が、プラズマ発生容器及び反応容器内の空気を吸い出して真空状態にする。 - 特許庁

The heater 2 is arranged between the vacuum heat shielding layer 70 and the reaction pipe 20.例文帳に追加

ヒータ２は真空断熱層７０と反応管２０との間に配置する。 - 特許庁

The quartz top plate for a plasma nitriding device is disposed between an antenna for producing plasma in a vacuum reaction chamber of the plasma nitriding device, and a plasma region in the vacuum reaction chamber, and used as a top plate of the vacuum reaction chamber.例文帳に追加

プラズマ窒化装置用石英天板は、プラズマ窒化装置の真空反応室内にプラズマを発生させるアンテナと前記真空反応室内のプラズマ領域との間に配置されて前記真空反応室の天板として用いられる。 - 特許庁

To eliminate use of an expensive vacuum device and reaction gases with toxicity.例文帳に追加

高価な真空装置及び毒性のある反応ガスの使用をなくすことである。 - 特許庁

Thereby the vacuum pressure in the reaction chamber can be changed uniformly at the target vacuum pressure changing speed.例文帳に追加

これにより、反応室内の真空圧力を目標真空圧力変化速度をもって一律に変化させることができる。 - 特許庁

The cover pad can be lifted by a small force from reaction wheels even when the reaction carried out in the reaction wells generates a vacuum state.例文帳に追加

カバーパッドは、反応用くぼみで実行された反応が真空状態を生成しても、反応用くぼみから小さい力で持ち上げることができる。 - 特許庁

In the above reaction step, it is preferred that the mixture is subjected to the solid-phase reaction at a degree of vacuum lower than 0.1 Torr (13.3 Pa).例文帳に追加

前記反応工程は、０．１Ｔｏｒｒ（１３．３Ｐａ）未満の真空度において、前記混合物を固相反応させるものが好ましい。 - 特許庁

The heat conduction of the high temperature reaction part 3c and the low temperature reaction part 3d is cut off by a vacuum cavity part 3e.例文帳に追加

真空の空洞部３ｅにより高温側反応部３ｃと低温側反応部３ｄとの熱伝導を遮断する。 - 特許庁

The vacuum level is also greatly improved, by sealing at a low temperature by using eutectic reaction between a metal and Si under high vacuum.例文帳に追加

さらに、高真空で金属とSiとの共融反応を用いて低温で密封することにより真空度も非常に高まる。 - 特許庁

Thus, the vacuum pressure in the reaction chamber 20 can be uniformly changed at the target vacuum pressure changing speed.例文帳に追加

これにより、反応室２０内の真空圧力を目標真空圧力変化速度をもって一律に変化させることができる。 - 特許庁

In the vacuum tank 11, a film forming process chamber and a reaction process chamber are formed.例文帳に追加

真空槽１１内には成膜プロセス室２０，４０と反応プロセス室６０が形成される。 - 特許庁

ALUMINUM OR ALUMINUM ALLOY MEMBER, VACUUM VESSEL AND REACTION VESSEL HAVING EXCELLENT CORROSION RESISTANCE例文帳に追加

耐食性が優れたアルミニウム又はアルミニウム合金部材、真空容器及び反応容器 - 特許庁

By this invention, new reaction chemical substance can be exchanged and changed without breaking a vacuum in the reaction chamber.例文帳に追加

本発明により、反応室の真空を破ることなく、新しい反応化学物質を交換し、装填することが可能になる。 - 特許庁

To secure a stable reducing reaction and operation by eliminating the clogging of a pressure relief tube over the whole time from the reducing reaction to a vacuum separation.例文帳に追加

還元反応から真空分離にわたって圧抜き管の固着を排除し、安定した還元反応、操業が確保できる。 - 特許庁

The composite type microreactor 100 is equipped with a heat insulating vacuum container (reaction container) 150, the modifying device, which causes the reaction of a reaction substance at different temperatures and carbon monoxide removing device housed in the heat insulating vacuum container 150 and a microvacuum sensor (atmospheric pressure sensor) 1 for measuring the vacuum degree (atmospheric pressure) of the heat insulating vacuum container 150.例文帳に追加

複合型マイクロ反応装置１００は、断熱真空容器（反応容器）１５０と、断熱真空容器１５０内に収容され、異なる温度で反応物の反応を起こす改質器及び一酸化炭素除去器と、断熱真空容器１５０内の真空度（気圧）を測定するマイクロ真空センサ（気圧センサ）１とを備える。 - 特許庁

In this treatment apparatus 10, a reaction product after plasma treatment does not pass through the vacuum pump and the damage of the vacuum pump by the reaction product can be prevented.例文帳に追加

このように処理装置１０を構成すれば、プラズマ処理後の反応物が真空ポンプを通過することがなく、反応物によって真空ポンプが損傷するのを防止することができる。 - 特許庁

Vacuum pressure values changed relative to the vacuum pressure in a reaction chamber measured by a vacuum pressure sensor at a target vacuum pressure changing speed acquired at S24 are generated step by step as internal commands (S26).例文帳に追加

真空圧力センサーで計測された反応室内の真空圧力に対し、Ｓ２４で取得した目標真空圧力変化速度で変化させた真空圧力値を、内部コマンドとして順次発生させている（Ｓ２６）。 - 特許庁

To provide a reaction apparatus which can sense a degree of vacuum (barometric pressure) in a heat-insulating vacuum vessel (reaction vessel), and further, can aim a miniaturization and a reduction of a heat loss, a power generating plant using the reaction apparatus, and electronics.例文帳に追加

断熱真空容器（反応容器）内の真空度（気圧）をセンシングすることができ、また、小型化及び熱損失の軽減を図ることのできる反応装置、その反応装置を用いた発電装置及び電子機器を提供する。 - 特許庁

Further, the reaction vessel 12 has a bottom plate 23 provided with an exhaust port 26 for exhausting the inside of the reaction vessel 12 into a vacuum.例文帳に追加

また、反応容器１２は、反応容器１２内を真空に排気するための排気口２６が設けられた底板２３を有する。 - 特許庁

An apparatus for working and treating an article comprises a vacuum tank 11, a reaction gas supply source 20, and a power supply source 30.例文帳に追加

真空槽１１と、反応ガス供給源２０と、電力供給源３０とを設ける。 - 特許庁

(4) A process in which the washing liquid is discharged, and subsequently, the reaction apparatuses are dried under vacuum at need.例文帳に追加

（４）該洗浄液を排出した後、必要に応じ、反応設備を真空下で乾燥する工程。 - 特許庁

A silicon substrate is placed on the susceptor 4 in a vacuum reaction chamber 3 as a semiconductor substrate 5.例文帳に追加

減圧下の反応室３内のサセプター４上に半導体基板５としてシリコン基板を載置する。 - 特許庁

In the device, the vacuum chamber 10 is divided by a shield 13 into a reaction chamber 11 and a spare room 12.例文帳に追加

真空槽１０が、シールド１３によって、反応室１１と予備室１２とに分けられている。 - 特許庁

Thereby, the reaction gas remaining in the conduit tube 14 is sucked by a pressure difference into the vacuum chamber 10 having a highly vacuum to be removed.例文帳に追加

これにより、導管１４内に残留する反応ガス等が差圧により高真空である真空チェンバ１０内部に吸引・排除される。 - 特許庁

To render byproducts harmless, which are formed in the air side of a vacuum pump by a reaction between a combustible gas and a combustion supporting gas, which are simultaneously fed in a vacuum process.例文帳に追加

可燃性ガスと支燃性ガスを同時に流す真空プロセスにおいて真空ポンプの大気側での反応副生成物を無害化する。 - 特許庁

A reaction chamber in which a substrate is placed and a plasma generating chamber are separated by electrodes 104, 105 in a vacuum container to be evacuated to a vacuum.例文帳に追加

真空排気可能な真空容器内に、基板を設置する反応室とプラズマ形成室とを、電極部１０４，１０５によって分離する。 - 特許庁

To provide a structure of a vacuum degassing vessel which does not hinder decarburizing reaction and can prolong the service life of a vacuum degassing vessel and is economical.例文帳に追加

脱炭反応の障害にならず、かつ真空脱ガス槽の槽寿命が長く経済的である真空脱ガス槽の構造を提供する。 - 特許庁

Vacuum pressure values changed at a target vacuum pressure changing speed obtained by an S24 are successively generated as inside commands for a vacuum pressure in a reaction container 10 measured by vacuum pressure sensors 14 and 15 (S26).例文帳に追加

真空圧力センサー１４、１５で計測された反応容器１０内の真空圧力に対し、Ｓ２４で取得した目標真空圧力変化速度で変化させた真空圧力値を、内部コマンドとして順次発生させている（Ｓ２６）。 - 特許庁

The inside of a housing 21 maintained in a vacuum state by a vacuum pump 20, is partitioned into a reaction space 210 and a thermal insulation space 211 by a partition wall 24.例文帳に追加

真空ポンプ２０により真空状態に維持されるハウジング２１内を仕切り壁２４で反応空間２１０と断熱空間２１１とに仕切る。 - 特許庁

The reaction product is introduced into a vacuum distillation column 18 through a flash drum 16 and the caking additive is extracted from the bottom of the vacuum distillation column 18.例文帳に追加

ついで、フラッシュドラム１６を経て減圧蒸留塔１８に送入された後、減圧蒸留塔１８の底部から粘結剤が抜き出される。 - 特許庁

To provide a small-sized reaction apparatus capable of suitably maintaining the vacuum degree in a receiving vessel.例文帳に追加

収納容器内の真空度を良好に維持することが可能な、小型の反応装置を提供すること。 - 特許庁

The method leads to a short reaction time, an ease of the catalyst and vacuum conditions and improvement color stability.例文帳に追加

反応時間が短く、触媒および真空条件が容易で、着色安定性が向上する。 - 特許庁

Reactant gas is supplied to the reaction chamber by allowing the chamber to be in a depressurized state by operating the vacuum pump after arranging a semiconductor substrate in the reaction chamber.例文帳に追加

反応室内に半導体基板を配置した後に真空ポンプを動作させて、反応室を減圧状態にして反応ガスを反応室に供給する。 - 特許庁

When the first material gas is supplied to the reaction vessel, the reaction vessel is exhausted by a first vacuum evacuation means via a first vacuum evacuation passage, and the gas is sent to the gas treatment facility via a first exhaust passage.例文帳に追加

反応容器に第１の原料ガスを供給するときには第１の真空排気路を介して第１の真空排気手段により排気を行い、ガスは第１の排気通路を介してガス処理設備に送る。 - 特許庁

Consequently, the etching chamber 24 is prevented from being brought into vacuum state thus facilitating discharge of remaining reaction gas 37.例文帳に追加

これにより、エッチング室２４が真空状態になることを抑制し、残った反応ガス３７を排気しやすくする。 - 特許庁

The inner surface of a vessel connecting pipe 30 for connecting the reaction vessels 20 and 30 in a vacuum separation step is made of iron.例文帳に追加

真空分離工程で反応容器２０，３０を連結する容器接続管３０の内面を鉄とする。 - 特許庁

A semiconductor substrate is held in a reaction chamber for evacuation into vacuum and heating.例文帳に追加

真空排気された反応チャンバ内で半導体基板を保持しかつ加熱する半導体基板保持装置が与えられる。 - 特許庁

Graphite or the like can be used for the heater because of heating in vacuum by radiation through the reaction tube.例文帳に追加

ヒーターは、真空下で輻射により反応管を介して加熱するためグラファイトなどの使用が可能となる。 - 特許庁

The method comprises the following process: As shown in reaction formula(4), THF is added to a ^iPr group-bearing imidazolium chloride under a vacuum at -78°C followed by addition of a LiBEt_3H THF solution(1.0 M).例文帳に追加

<sup/>^iPr基を有するイミダゾリウムクロリドに真空下−７８℃でTHFを加え、LiBEt_3HのTHF溶液（1.0 M）を添加する。 - 特許庁