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「wiring substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索
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wiring substrateの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9428



例文

In a method for mounting a semiconductor element 10 on a wiring substrate 20 through a protrusion electrode 9 for an external connection, after a reflow heating process is performed for connecting the protrusion electrode 9 for the external connection of the semiconductor element 10 with the wiring substrate 20, the connected semiconductor element 10 and the wiring substrate 20 are cooled at a cooling rate of about 0.5°C/sec or less.例文帳に追加

半導体素子10を外部接続用突起電極9を介して配線基板20に実装する方法は、前記半導体素子10の前記外部接続用突起電極9と前記配線基板20とを接続するためにリフロー加熱処理を施した後に、接続された前記半導体素子10及び前記配線基板20を、約0.5℃/秒以下の冷却速度で冷却することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of: preparing a wiring substrate; mounting a semiconductor chip 8 on one surface of the wiring substrate; preparing a liquid sealing resin in a cavity 15 and scattering a filler 20 over the liquid sealing resin; dipping the side of the one surface of the wiring substrate in the liquid sealing resin; and forming a sealing body 22 by curing the sealing resin.例文帳に追加

配線基板を準備する工程と、前記配線基板の一面上に、半導体チップ8を搭載する工程と、キャビティ15に液状の封止樹脂を備えて、前記液状の封止樹脂の上部にフィラー材20を散布する工程と、前記封止樹脂に前記配線基板の一面側を浸漬する工程と、前記封止樹脂を硬化して封止体22を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In this LED light source module structure wherein a silicon submount mounting the LED chip is directly arranged on a base metal of a metal wiring substrate to realize a mounting structure with low thermal resistance, the LED chip, the silicon submount and the metal wiring substrate are arranged as prescribed for effectively diffusing the heat generated by the LED chip to a metal wiring substrate side to realize high heat dissipation effect.例文帳に追加

熱抵抗の低い実装構造を実現するため、LEDチップを搭載したシリコン製サブマウントを金属配線基板のベース金属上に直接配置したLED光源モジュール構造において、LEDチップ、シリコン製サブマウント、金属配線基板を所定の配置とすることにより、LEDチップからの発熱を金属配線基板側へ有効に拡散させ、高い放熱効果を与えることを特徴としている。 - 特許庁

In the method for mounting a semiconductor element 10 on a wiring substrate 20 through a protrusion electrode 9 for the external connection, after a reflow heating process is performed for connecting the protrusion electrode 9 for the external connection of the semiconductor element 10 with the wiring substrate 20, the connected semiconductor element 10 and wiring substrate 20 are cooled at a cooling rate of about 0.5°C/sec or less.例文帳に追加

半導体素子10を外部接続用突起電極9を介して配線基板20に実装する方法は、前記半導体素子10の前記外部接続用突起電極9と前記配線基板20とを接続するためにリフロー加熱処理を施した後に、接続された前記半導体素子10及び前記配線基板20を、約0.5℃/秒以下の冷却速度で冷却することを特徴とする。 - 特許庁

例文

When a wiring layer for ink ejection control is formed along the inclining face 416, a passivation layer 308 is provided between the wiring layer and the substrate along the inclining face 416 in order to prevent the ink jet die from deteriorating due to dielectric breakdown through the substrate caused by applying a high voltage to the wiring layer.例文帳に追加

また、インク噴出制御用の配線層を斜面416に沿って形成する際に、前記配線層と基板との間に斜面416に沿ってパッシベーション層308を設けることにより、前記配線層に対して高電圧を印加した際に基板等を通じて生じる絶縁破壊によるインク噴出ダイ劣化を防止できる。 - 特許庁


例文

One end of a base metal layer 26, formed by electroless plating etc., of fourth wiring 24 of the printed wiring board 21 is connected to a land 13a of second wiring 13 provided on a lower surface of a sealing film 12 including a columnar electrode (projection electrode) 11 of the semiconductor construction 1 through electric conduction holes 33 and 35 of a film substrate (insulating substrate) 22.例文帳に追加

半導体構成体1の柱状電極(突起電極)11を含む封止膜12の下面に設けられた第2の配線13のランド13aに、プリント配線板21の第4の配線24の無電解メッキ等により形成された下地金属層26の一端部をフィルム基板(絶縁性基板)22の導通用孔33、35を介して接続する。 - 特許庁

Thus, since a gap is formed between the flexible wiring board 35 and the translucent cover 90 even in a part 20p of the translucent substrate 20, where the flexible wiring board 35 is mounted, the translucent substrate 20 is bonded to the translucent cover 90 even in the part where the flexible wiring board 35 is mounted.例文帳に追加

このため、透光性基板20においてフレキシブル配線基板35が実装されている部分20pでも、フレキシブル配線基板35と透光性カバー90との間には隙間が生成されるので、フレキシブル配線基板35が実装されている部分でも、透光性基板20と透光性カバー90とを接着することができる。 - 特許庁

The method of manufacturing the wiring board includes a step A of putting two substrates together back to back with each other into one substrate; a step B of forming wiring on both surfaces of the one substrate; a step C of laminating two support bodies on the wiring surfaces; and a step D of separating the two substrates in a state wherein they are still fixed to the support bodies.例文帳に追加

本発明は、2枚の基板を背合わせにして1枚の基板とする工程A、前記1枚の基板の両面に配線形成を行う工程B、前記配線面に2つの支持体をそれぞれ積層する工程C、前記支持体に固定されたまま2枚の基板を分離する工程Dを有することを特徴とする配線板の製造方法である。 - 特許庁

To provide a wiring substrate of such a structure as wiring and its connection terminals are provided, while being exposed, on a substrate produced through dehydration condensation in which the exposed wiring and connection terminals are not stripped even if a current is carried under high temperature, high humidity environment and incomplete connection is prevented, and to provide an electric apparatus and a switch comprising it.例文帳に追加

脱水縮合により製造される基材に配線やその接続端子が露出させて設けられた構造において、高温高湿環境下で通電されても露出された配線や接続端子が剥離することがなく、接続不良を生じない構造の配線基材とそれを備えた電気機器とスイッチ装置の提供を目的とする。 - 特許庁

例文

On the wiring substrate 1, differential transmission lines 8 surrounded by an earth wiring conductor 4a at a predetermined distance 11 are formed on an insulating substrate 2 and the distance 11 between the differential transmission lines 8 and the earth wiring conductor 4a becomes small at a part 8d where the line distance between the differential transmission lines 8 is increased.例文帳に追加

絶縁基板2上に接地配線導体4aによって一定の間隔11をもって囲繞された差動伝送線路8が形成されており、差動伝送線路8の線路間隔が広がる部分8dにおいて差動伝送線路8と接地配線導体4aとの間の間隔11が小さくなっている配線基板1である。 - 特許庁

例文

To provide a wiring substrate suppressing occurrence of tensile stress and compressive stress of an insulating film layer formed on a substrate and reducing the stress even if it occurs, and suppressing wiring delay by reducing parasite capacitance generated between wiring lines, and also to provide an electrooptical apparatus and an electronic equipment using the same.例文帳に追加

基板上に形成した絶縁膜層の引張り応力および圧縮応力の発生を抑制し、仮に応力が発生してもそれを低減することのできる配線基板、且つ配線間に発生する寄生容量を低減し配線遅延を抑制する基板、それを用いた電気光学装置及び電子機器を提供することを課題とする。 - 特許庁

To obtain an epoxy resin composition which is useful for a substrate for a flexible printed wiring being a flexible printed wiring board material, a cover lay material and a bonding sheet and has excellent repeated flex resistance, adhesiveness, heat resistance, moisture resistance and electric reliability, the substrate for flexible printed wiring, the cover lay material and the bonding sheet using the epoxy resin composition.例文帳に追加

フレキシブル印刷配線板材料であるフレキシブル印刷配線用基板、カバーレイ材料及びボンディングシートに使用される、優れた耐繰り返し屈曲性、接着性、耐熱性、耐湿性、電気的信頼性を有するエポキシ樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブル印刷配線用基板、カバーレイ材料及びボンディングシートを提供すること。 - 特許庁

To provide a polyimide film which, when applied for a metal wiring board substrate for a flexible printed circuit, CSP, BGA or TAB tape the surface of which is provided with a metal wiring, shows high elastic modulus, a low coefficient of thermal expansion, excellent alkali etching property and film formability; to provide its manufacturing method; and to provide a metal wiring circuit board comprising it as a substrate.例文帳に追加

その表面に金属配線を施してなる可撓性の印刷回路、CSP、BGAまたはTABテープ用の金属配線板基材に適用した場合に、高弾性率、低熱膨張係数、アルカリエッチング性、および製膜性に優れたポリイミドフィルム、その製造方法およびそれを基材としてなる金属配線回路板を提供する。 - 特許庁

The suspension substrate 1 includes: an insulating layer 10; a metal support layer 11 provided on one surface of the insulating layer 10; and a wiring layer 12 which is provided on the other surface of the insulating layer 10, has a plurality of wiring lines 13 and an alignment part 14 that is placed in a substrate body area 2 and isolated from the respective wiring lines 13.例文帳に追加

本発明によるサスペンション用基板1は、絶縁層10と、絶縁層10の一方の面に設けられた金属支持層11と、絶縁層10の他方の面に設けられ、複数の配線13と、基板本体領域2に配置されると共に、各配線13から隔離されたアライメント部14とを有する配線層12とを備えている。 - 特許庁

A substrate 1 for suspension according to the present invention includes: an insulator layer 10; a metal support layer 11 provided on one surface of the insulator layer 10; and a wiring layer 12 provided on the other surface of the insulator layer 10 and having a plurality of wiring lines 13 and an alignment part 14 which is arranged in a substrate body area 2 and isolated from each wiring line 13.例文帳に追加

本発明によるサスペンション用基板1は、絶縁層10と、絶縁層10の一方の面に設けられた金属支持層11と、絶縁層10の他方の面に設けられ、複数の配線13と、基板本体領域2に配置されると共に、各配線13から隔離されたアライメント部14とを有する配線層12とを備えている。 - 特許庁

The FPC 6 and the FPC conductive body wiring 7 have a structure having curved parts wherein a prescribed length parts from their tips are curved in the direction in which the parts are far from the transparent substrate 1b and a tip part to be the curved part of the conductive body wiring 7 is specified to be a conductive body wiring part 7a for confirmation, which is separated from the transparent substrate 1b.例文帳に追加

FPC6及びFPC導体配線7は、その先端から所定の長さ部分が透明基板1bに対して距離が大となる方向に屈曲した部分を有する構造とされており、その導体配線7の屈曲部分以降の先端部が確認用導体配線部7aとされ、透明基板1bと離間している。 - 特許庁

In the wiring board where a plurality of thick wiring layers 3 formed of conductive materials are arranged on a substrate 1, a buffer layer 2 formed of porous metal 2a which has pores inside and a resin material 2b of 20-150 in Shore hardness being arranged on the porous metal and partially permeated in the porous metal 2a is interposed between the substrate 1 and the thick wiring layer.例文帳に追加

基板1上に導電材料から成る複数個の厚膜配線層3を配設してなる配線基板であって、基板−厚膜配線層間に、内部に気孔を有する多孔質金属2aと、多孔質金属上に配され、一部が多孔質金属2a中に含浸されたショア硬さ20〜150の樹脂材2bとから成るバッファ層2を介在させる。 - 特許庁

The substrate connection structure is provided with the printed wiring board 16 having a first electrode 29, the glass substrate 31, which has a second electrode 36 and whose thermal expansion coefficient is different from that of the printed wiring board 16, and the flexible wiring board 19 that has a third electrode 39 connected to the first electrode 29 and a fourth electrode 40 connected to the second electrode 36.例文帳に追加

基板接続構造は、第1の電極29を有するプリント配線板16と、第2の電極36を有するとともに熱膨張係数がプリント配線板16と相違するガラス基板31と、第1の電極29に接続される第3電極39および第2の電極36に接続される第4の電極40を有するフレキシブル配線板19とを備えている。 - 特許庁

In the oscillator, wiring patterns 4a, 4b are formed on an epoxy resin substrate 1, an electronic component 2 having terminal electrodes 3a, 3b are mounted on the substrate 1, the terminal electrode 3a and the wiring pattern 4a are connected by a solder 5, and the terminal electrode 3b and the wiring pattern 4b are connected by a bonding wire 6 or a wire material.例文帳に追加

エポキシ樹脂の基板1上にパターン配線4a,4bが形成され、端子電極3a,3bを備える電子部品2が基板1上に搭載されるものであり、端子電極3aとパターン配線4aが半田5により接続され、端子電極3bとパターン配線4bとがボンディングワイヤ6又は電線材で接続される構成とした発振器である。 - 特許庁

A protective layer is formed on a wiring part 3 by a procedure, containing a process for electrodepositing electrodeposition resin by covering the wiring part 3, a process for partially forming a resist layer 5 on a substrate 1 which has the wiring part 3 on an insulating layer 2 where an electrodeposition resin layer 4 is formed and a process for etch-processing the substrate, where the resist layer 5 is formed in part.例文帳に追加

配線部3を覆って電着樹脂を電着する工程、電着樹脂層4が形成された絶縁層2上の配線部3を有する基板1に部分的にレジスト層5を形成する工程、部分的にレジスト層5が形成された基板をエッチング処理する工程を含む手順により配線部3の上に保護層を形成する。 - 特許庁

A facedown type semiconductor device 6, comprising a wiring board 2 provided with a substrate electrode 21, a semiconductor element 1 mounted on the substrate electrode 21, underfill resin 4 filling the gap between the semiconductor element 1 and the wiring board 2, and a level display pad 5 arranged on the wiring board 2 are embedded in the underfill resin 4, is manufactured.例文帳に追加

基板電極21が設けられた配線基板2と、基板電極21上に搭載された半導体素子1と、半導体素子1と配線基板2との間を充填するアンダーフィル樹脂4と、配線基板2上にアンダーフィル樹脂4に埋め込まれて配置されたレベル表示パッド5と、を有するフェイスダウン型半導体装置6を製造する。 - 特許庁

The electric wiring substrate includes a first substrate, an adhesive layer provided on the upper surface of the first substrate, and a second substrate having the lower surface adhered with the adhesive layer and the upper surface provided with an electrode pad where a plurality of irregularities are provided on the upper surface of the first substrate or the lower surface of the second substrate, and the electrode pad is located above the projecting part of the irregularities.例文帳に追加

第1の基板と、前記第1の基板上面に設けられた接着層と、前記接着層と下面とが接着され、上面に電極パッドを有する第2の基板と、を具備する電気配線基板であって、前記第1の基板上面または前記第2の基板下面に複数の凹凸が設けられ、前記凹凸の凸部の上方に前記電極パッドが位置する。 - 特許庁

This printed wiring board 1 is provided with: a flexible substrate 10 having flexibility; a rigid substrate 20 formed on the upper and lower surfaces of the flexible substrate 10 and having an insulating layer 22 and a conductor layer 23 laminated; and a blocking layer 30 arranged between the flexible substrate 10 and the rigid substrate 20 and having water-vapor permeability lower than that of the insulating layer 22 of the rigid substrate 20.例文帳に追加

このプリント配線基板1は、可撓性を有するフレキシブル基板10と、フレキシブル基板10の上面上および下面上に形成され、絶縁層22および導体層23が積層されたリジッド基板20と、フレキシブル基板10およびリジッド基板20の間に配置され、リジッド基板20の絶縁層22よりも小さい水蒸気透過度を有する遮断層30とを備える。 - 特許庁

To provide a wiring substrate which has a resin insulating layer, a filled via made through the insulating layer and filled with plating material and a conductor layer plated on the insulating layer and filled via, and in which the conductor layer has a uniform thickness, and also to provide a method for manufacturing the wiring substrate.例文帳に追加

樹脂絶縁層と、これを貫通しメッキにより充填形成されたフィルドビアと、これらの上にメッキにより形成された導体層とを有する配線基板において、導体層の厚さがほぼ均一な配線基板及び配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

When the LED element 1 is mounted on the wiring substrate 32, the LED element 1 is fixed in a state for a layered semiconductor 16 side including a light-emitting layer 12 in the LED element 1, to face toward the wiring substrate 32 after the recessed part 17 is filled with silver paste 18.例文帳に追加

LED素子1を配線基板32に装着する際には、この凹部17内に銀ペースト18を充填した上で、LED素子1における発光層12を含む半導体積層部16側を配線基板32に向けた状態でLED素子を固定する。 - 特許庁

To provide a glass fiber substrate/epoxy resin laminated sheet capable of preventing the adhesion of a flexible printed wiring board and a backing material at non-adhesive places when the flexible printed wiring board and a glass fiber substrate/epoxy resin laminated sheet being the backing material are superposed one upon another to be bonded by a hot press.例文帳に追加

フレキシブルプリント配線板を裏打ち材であるガラス繊維基材エポキシ樹脂積層板に重ねて熱プレにより接着するときに、フレキシブルプリント配線板と裏打ち材の接着を要しない箇所では密着しないようできるガラス繊維基材エポキシ樹脂積層板を提供する。 - 特許庁

This electrode substrate is an electrode substrate 1 wherein the transparent conductive layer 11 and the metal wiring layer 12 are laminated on one side of a base material 10 in order, and the metal wiring layer 12 has a structure with two or more layers comprising inner layers 13 and outer layers 14.例文帳に追加

本発明に係る電極基板は、基材10の片面上に透明導電層11と金属配線層12を順に積層して配した電極基板1であり、金属配線層12が内層13と外層14からなる二層以上の構造をなしていることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a build-up substrate having high reliability by using a surface treating method of copper wiring of a multilayer substrate which is valid for preventing a clearance, a gouging and a plating deposition failure, generated in a boundary between the copper wiring of a via hole bottom part and a photosensitive insulation resin.例文帳に追加

本発明の目的は、ビアホ−ル底部の銅配線と感光性絶縁樹脂との境界に発生する隙間、エグレ及びめっき析出不良の防止に有効な多層基板の銅配線の表面処理方法を用いた接続信頼性の高いビルドアップ基板を提供する。 - 特許庁

A breaking mechanism 10 includes: one primary wiring conductor 2 and the other primary wiring conductor 2 provided on the upper side of a substrate 1 and each connected to a prescribed electronic circuit; and heater conductors 4 provided on the primary surface of the substrate 1 so as to generate heat when a current flows therein.例文帳に追加

遮断機構10は、基板1の上側に設けられ、それぞれが所定の電子回路に接続された一方の主配線導体2および他方の主配線導体2と、電流が流れることによって発熱するように基板1の主表面上に設けられたヒータ導体4とを備えている。 - 特許庁

Bonding materials 2 are so used as to dispose first heat radiating members 3 on a wiring substrate 1, and a bonding material 4 is so used as to stick a semiconductor element 5 on one of the first heat radiating members 3 and as to connect the semiconductor element 5 with the electrodes present on the wiring substrate 1 via wires 6.例文帳に追加

配線基板1上に接着材2を用いて第1の放熱部材3を配置し、第1の放熱部材3上に接着材4を用いて半導体素子5を固着して、半導体素子5と配線基板1上の電極とをワイヤ6により接続する。 - 特許庁

The gap between a ceramic substrate 1 on which Au wiring 2 is formed and the IC chip 5 is sealed by a sealing resin 7 and a sealing resin 8 is applied onto the ceramic substrate 1 around the IC chip 5 while the Au wiring 2 projecting from the IC chip is covered.例文帳に追加

Au配線2が形成されたセラミック基板1とICチップ5との間の隙間を封止樹脂7でが樹脂封止するとともに、ICチップ5の周囲のセラミック基板1上に、ICチップ5からはみ出したAu配線2を覆うように、封止樹脂8を塗布する。 - 特許庁

To provide an electrode structure for a semiconductor chip that will enable air bubbles produced in underfill resin to be controlled when flip-chip bonding a semiconductor chip onto a wiring substrate, the semiconductor chip having a metal bump made of solder, and filling up a gap between the semiconductor chip and the wiring substrate with the underfill resin.例文帳に追加

半田からなる金属バンプを有する半導体チップを配線基板上にフリップチップ実装して、半導体チップと配線基板との間隙にアンダーフィル樹脂を充填する際に、アンダーフィル樹脂内に発生する気泡を抑制することができる半導体チップの電極構造を提供する。 - 特許庁

A fixing member 81 is formed by a metal and penetrates through the first GND wiring pattern 71 and the resin substrate 3 to be joined to the plate member 2, thereby fixing the resin substrate 3 to the plate member 2 and electrically connecting the first GND wiring pattern 71 with the plate member 2.例文帳に追加

固定部材81は、金属により形成され、第1GND配線パターン71および樹脂基板3を貫いて板部材2に接合することにより、樹脂基板3を板部材2に固定するとともに、第1GND配線パターン71と板部材2とを電気的に接続する。 - 特許庁

In the wiring substrate 100 comprising at least one insulating layer, at least one insulating layer of the wiring substrate has a stiffness distribution in the same plane, and stiffness is set relatively high in a region comprising an electrode where at least an electronic component 200 is mounted.例文帳に追加

1層以上の絶縁層を有する配線基板において、配線基板の少なくとも1層の絶縁層が、同一平面内において剛性分布を有し、少なくとも電子部品が搭載される電極部を含む領域において相対的に剛性が高く構成されている。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device that is equipped with wiring film layers, contact holes that connect wiring film layers together, and other contact holes connected to a semiconductor substrate and capable of restraining the semiconductor substrate located at the base of the contact holes from being overetched when the contact holes are formed at the same time.例文帳に追加

複数層に配線膜を備え、各配線膜を接続するコンタクトホールと、半導体基板と接続するコンタクトホールとを備え、各コンタクトホールを同時に形成する場合、コンタクトホールの底部に位置する半導体基板のオーバーエッチを低減することができる半導体装置を得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can form an insulator layer stably between a conductive material layer such as penetrating wiring, etc. which penetrates a substrate and the substrate and makes the thickness of the conductive material layer uniform and can stably form the penetrating wiring.例文帳に追加

基板を貫通する貫通配線などの導電材層と基板との間に安定して絶縁材層を形成することができ、また導電材層の厚みを均一にして貫通配線を安定して形成することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The imaging device has a substrate 1 which has a wiring conductor 3 formed on its surface, an imaging element 2 which has an electrode joined to the wiring conductor 3 through a conductive bump 5, and an adhesive layer 8 which is formed between the imaging element 2 and substrate 1 to cover the conductive bump 5.例文帳に追加

表面に配線導体3が形成された基板1と、配線導体3に導電性バンプ5を介して接合された電極を有する撮像素子2と、導電性バンプ5を覆うように撮像素子2と基板1との間に設けられた接着剤層8とを有する。 - 特許庁

The breaking mechanism 10 comprises: one primary wiring conductor 2 and the other primary wiring conductor 2 that are provided above a substrate 1 and are each connected to a given electronic circuit; and heater conductors 4 that are provided on a primary surface of the substrate 1 to produce heat when current flows thereto.例文帳に追加

遮断機構10は、基板1の上側に設けられ、それぞれが所定の電子回路に接続された一方の主配線導体2および他方の主配線導体2と、電流が流れることによって発熱するように基板1の主表面上に設けられたヒータ導体4とを備えている。 - 特許庁

When a second fiber 220b which is to be wired adjacently to a first fiber 220a which has been wired on the surface of the substrate 210 is wired, it is supplied through the wiring head 6, in such a way that the second fiber 220b and the first fiber 220a overlap each other, as seen from the wiring head 6 in the direction of the surface of the substrate 210.例文帳に追加

基板210面上に既に布線された第1のファイバ220aに隣接して布線される第2のファイバ220bを布線する際に、第2のファイバ220bを、第1のファイバ220aに対して、布線ヘッド6から基板210面の方向に見て互いに重なるように布線ヘッド6を介して供給する。 - 特許庁

In the wiring substrate comprising the insulating layer 2 formed on the surface of a core substrate 1 and the wiring conductor layer 3 adhered to the surface of the insulating layer 2, the insulating layer 2 is constituted of a thermosetting resin wherein thiol compound is connected to a group at the terminal end of a radical polymer.例文帳に追加

コア基板1の表面に形成された絶縁層2と、絶縁層2の表面に被着された配線導体層3とを具備して成る配線基板において、絶縁層2は、ラジカル重合体ラジカル重合体の末端の基にチオール化合物が結合した熱硬化性樹脂から成る。 - 特許庁

Furthermore, this flexible substrate is provided with lead wires (240) for plating connected to sections different from sections connected to the plurality of wiring in the plurality of terminal sections, and extended to the edge (200e1) of the flexible substrate, and equipped with width (W2) narrower than the width (W1) of the wiring.例文帳に追加

更に、複数の端子部における複数の配線に接続される部分とは異なる部分に夫々接続されており、当該フレキシブル基板の縁(200e1)まで延びると共に配線の幅(W1)よりも狭い幅(W2)を有するメッキ用リード線(240)を備える。 - 特許庁

To provide a printed-wiring board having an excellent plating burying property in a through-hole and having a superior long-term connection reliability in an insulating substrate corresponding to the reduction of the diameter, thinning or aspect ratio enhancing of the printed-wiring board, and also to provide the method of manufacturing the insulating substrate and a semiconductor device.例文帳に追加

プリント配線基板の小径化、薄型化あるいは高アスペクト化に対応した絶縁基板および絶縁基板の製造方法であり、貫通孔内のめっき埋め込み性に優れ長期接続信頼性に優れたプリント配線基板および半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a wiring board which can excellently maintain bondability between an insulating substrate made of glass-ceramic and a conductor layer for a long period and which has superior bondability with a metal plating layer and a brazing filler metal; and to provide an electronic component mounting substrate constituted including an electronic component mounted on the wiring board.例文帳に追加

ガラスセラミックスからなる絶縁基板と導体層との接合性を長期間に亘って良好に維持できるとともに、金属めっき層やろう材との接着性に優れた配線基板と、これに搭載された電子部品を具備して構成される電子部品実装基板を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device 70 is provided with a laminated semiconductor package 12 configured by laminating a plurality of individual semiconductor packages 13 where a semiconductor element 1 is fixed to a wiring member 4 comprising a flexible substrate 4a and wiring 4b, and a base substrate 5 on which the laminated semiconductor package 12 is mounted.例文帳に追加

半導体装置70は、フレキシブル基板4a及び配線4bからなる配線部材4に半導体素子1を固定した個別半導体パッケージ13を複数積層して構成された積層半導体パッケージ12と、この積層半導体パッケージ12を搭載したベース基板5とを備える。 - 特許庁

In an electromagnetic coil provided with a core fixed on a substrate and wiring circulating around the core and a method for manufacturing the same, an electrode is embedded in a groove formed in the substrate, and the electrode and wiring circulating around the core are constructed electrically conductively.例文帳に追加

基板に固定されているコアと、該コアを周回している配線を備えた電磁コイルまたはその作製方法において、前記基板に形成された溝に電極が埋め込まれ、該電極と前記コアを周回している配線とが電気的に導通するように構成する。 - 特許庁

The annular wiring 210 of the semiconductor chip 200 is connected with the substrate electrode 310 exposed to the outside, so that the annular wiring 210 is accessible from the substrate electrode 310 even in the completed state where the semiconductor chip 200 is not exposed to the outside.例文帳に追加

半導体チップ200の環状配線210が外部に露出している基板電極310に接続されているので、半導体チップ200が外面に露出していない完成状態でも基板電極310から環状配線210にアクセスすることができる。 - 特許庁

To provide a wiring board having an excellent reliability and a manufacturing method thereof which improves the adhesiveness of its through hole formed in an insulating substrate to its through conductor provided in its through hole, in the wiring board having the insulating substrate containing inorganic powder and resin.例文帳に追加

無機粉末と樹脂とを含有してなる絶縁基体を具備してなる配線基板において、絶縁基体に形成された貫通孔と、貫通孔内に設けられた貫通導体との密着性を向上させ、信頼性に優れた配線基板並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

For the manufacturing method for a multilayer printed-wiring board that laminates an inner layer substrate and a pre-preg for integration, this is a manufacturing method for a multilayer print-wiring board that performs a far infrared drying step after a roughening treatment by a chemical roughening liquid is done on a copper circuit surface, formed on the inner layer substrate.例文帳に追加

内層回路基板とプリプレグとを積層一体化してなる多層プリント配線板の製造方法において、内層回路基板に形成された銅回路表面を化学粗化液により粗化処理後に遠赤外乾燥工程を有する多層プリント配線板の製造方法。 - 特許庁

Furthermore, a first insulating layer 131 is formed at a position separated from the solder bump 123 at least a prescribed distance L on the surface of the wiring pattern 122 on the reverse side of the substrate 121, and on the surface of the substrate 121 at a position where there is no wiring pattern 122.例文帳に追加

更に、ビア125の内部を埋め、かつ、配線パターン122の基材121側とは反対の面及び配線パターン122の無い位置の基材121の表面であって、半田バンプ123から少なくとも所定距離Lだけ離れた位置に、第1絶縁層131が形成されている。 - 特許庁

例文

In the method of manufacturing a camera module including a CMOS image sensor, a semiconductor chip 2A for optical sensor is mounted on the optical component mounting surface of a mother board 1 of a wiring substrate, and a barrel 4 is bonded to the mother board 1 of wiring substrate to cover the semiconductor chip 2A after connection of a bonding wire.例文帳に追加

CMOSイメージセンサを有するカメラモジュールの製造方法において、配線基板母体1の光学系部品搭載面に光センサ用の半導体チップ2Aを搭載し、ボンディングワイヤ接続した後、半導体チップ2Aを覆うように鏡筒4を配線基板母体1に接合する。 - 特許庁




  
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