antireflectionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3570件
To prevent peeling and cracking of an antireflection film at the end face of a harmonics generating element which is structured to hold a wavelength conversion layer between upper and lower substrates with an organic resin adhesive, and to prevent combustive destruction of an adhesive layer near the end face of the element.例文帳に追加
波長変換層を有機樹脂接着剤によって上下の基板間に挟んだ構造の高調波発生素子において、素子の端面における反射防止膜の剥離やクラックを防止し、かつ素子の端面近傍での接着層の燃焼破壊を防止する。 - 特許庁
The antireflection film includes an acrylic resin layer comprising a polymerized product of a polymerizable composition which contains hollow silica fine particles having an acryloyl group and/or a methacryloyl group on the surfaces and an acrylic monomer having an acryloyl group and/or a methacryloyl group.例文帳に追加
アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を表面に有する中空シリカ微粒子と、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有するアクリル系モノマー、を含む重合性組成物の重合生成物からなる、アクリル系樹脂層を含むことを特徴とする反射防止膜。 - 特許庁
The optically readable optical disk 1 is provided with an antireflection layer 11 consisting of continuous patterns of fine ruggedness at a pitch smaller than the wavelength of a signal reading laser on an optical reading surface of a disk substrate 10.例文帳に追加
この発明の光ディスクは、光学読み取りが可能な光ディスク1において、ディスク基板10の光学読み取り面上に、信号読み取り用のレーザーの波長より小さいピッチで微細な凹凸の連続パターンからなる反射防止層11が設けられている。 - 特許庁
The composition for formation of an antireflection film comprises: (A) a hardly volatile light-absorbing compound; (B) a siloxane polymer; and (C) a solvent, and a product obtained by the hydrolysis of phenyl alkoxy silane is used as the component (A).例文帳に追加
本発明の反射防止膜形成用組成物を、(A)難揮発性光吸収化合物と、(B)シロキサンポリマーと、(C)溶剤とを含有してなる反射防止膜形成用組成物として構成し、(A)成分として、フェニルアルコキシシランの加水分解反応による生成物を用いる。 - 特許庁
A chemical amplification type resist containing a base polymer prepared by mixing a polynorbornene derivative with a poly(norbornene-maleic anhydride) derivative and an acid generating agent is applied on an antireflection film 11 formed on a semiconductor substrate 10 to form a resist film 12.例文帳に追加
半導体基板10の上に形成された反射防止膜11の上に、ポリノルボルネンの誘導体とポリ(ノルボルネン−無水マレイン酸)の誘導体とが混合されたベースポリマーと、酸発生剤とを有する化学増幅型レジストを塗布してレジスト膜12を形成する。 - 特許庁
Since the elastic adhesive such as a modified silicone resin is used as the base of the antireflective coating material constituting the internal antireflection layer 14, excessive stress of the antireflective coating material which causes peeling can be absorbed.例文帳に追加
内面反射防止層14を構成する反射防止用塗料の母材として例えば変成シリコーン系樹脂等の弾性接着剤を用いることによって、剥離の原因となる反射防止用塗料の過大な応力を吸収することを可能とする。 - 特許庁
To provide optical parts which permit selection of the optimum optical parts having antireflection films capable of reducing reflection at respective boundaries at a high level and having low reflectivity within a wide wavelength range according to use wavelengths from among plurality of kinds varying in design wavelengths.例文帳に追加
各界面での反射を高レベルに低減でき、広い波長範囲で低反射率である反射防止膜を持つ最適な光学部品を、設計波長の異なる複数種類のなかから使用波長に応じて選択可能にした光学部品を提供すること。 - 特許庁
The coating agent for forming the low-refractive index layer of the antireflection film comprises a radically polymerizable compound and 0.5-9.0 wt.% of an ethylenic unsaturated group-containing acidic phosphoric acid ester in the solid content of the coating agent.例文帳に追加
反射防止フィルムの低屈折率層を形成するための塗工剤において、該塗工剤がラジカル重合性化合物と、塗工剤の固形分中に0.5〜9.0重量%のエチレン性不飽和基を有する酸性リン酸エステルとを含有していることを特徴とする。 - 特許庁
The coating composition is one which forms a cured film interposed between a plastic substrate and an antireflection film comprising an inorganic oxide and contains an organosilicon compound and an adhesion improver comprising an acetylene compound having a specified structure.例文帳に追加
プラスチック基材と、無機酸化物からなる反射防止膜との間に設ける硬化膜を形成するコ−ティング組成物であって、有機ケイ素化合物と、特定の構造を有するアセチレン化合物からなる密着向上剤とを含有するコ−ティング組成物である。 - 特許庁
The antireflection film forming composition contains a reaction product of a compound having at least two glycidyl ether structures and an aromatic compound such as a hydroxybenzoic acid or a naphthalenecarboxylic acid.例文帳に追加
少なくとも二つのグリシジルエーテル構造を有する化合物とヒドロキシ安息香酸、ナフタレンカルボン酸などの芳香族化合物との反応生成物を含むことを特徴とする反射防止膜形成組成物、及び該反射防止膜形成組成物より形成される反射防止膜。 - 特許庁
The antireflection film for a microstructure includes a particulate layered film formed by alternately depositing an electrolyte polymer and fine particles on a microstructure surface, wherein the refractive index of the particulate layered film ranges from 1.10 to 1.21.例文帳に追加
微細構造体表面に電解質ポリマー及び微粒子を交互に積層させて形成される微粒子積層膜からなり、該微粒子積層膜の屈折率が1.10以上1.21以下であることを特徴とする微細構造体用反射防止膜である。 - 特許庁
The photosensitive resin composition is used as a forming material for a coating material or a printing ink, a color filter, an electronic component, an interlaminar insulation film, a wiring coating film, an optical member, an optical circuit, an optical circuit component, an antireflection film, a hologram or a building material.例文帳に追加
本発明の感光性樹脂組成物は、塗料又は印刷インキ、或いは、カラーフィルター、電子部品、層間絶縁膜、配線被覆膜、光学部材、光回路、光回路部品、反射防止膜、ホログラム又は建築材料の形成材料として用いられる。 - 特許庁
To provide an optical element having an antireflection film which can attain low reflection from a region of a small incident angle (0 to 25°) to a region of a large incident angle (25° or more) of the optical element, an optical system, a projection exposing device and a device manufacturing method.例文帳に追加
光学素子の入射角度の小さな領域(0〜25°)から入射角度の大きな領域(25°以上)に亙り低反射を達成することができる反射防止膜を有する光学素子、光学系、投影露光装置、デバイス製造方法を提供する - 特許庁
An antireflection film 4 is formed on the front surface inclusive of at least sloping parts 250 on the front surface of the coil insulating film 25 after the formation of a first magnetic film 21, gap film 24, coil film 23 and coil insulating film 25 and before the formation of a second magnetic film.例文帳に追加
第1の磁性膜21、ギャップ膜24、コイル膜23及びコイル絶縁膜25を形成した後、第2の磁性膜を形成する前、コイル絶縁膜25の表面のうち、少なくとも、傾斜部250を含む表面に反射防止膜4を形成する。 - 特許庁
This dust protective substrate 11 is used, for example to prevent the adhesion of dust to the surface of a transmission type liquid crystal panel such as a liquid crystal projector, and comprises a piezoelectric substrate 12, a first transparent electrode 13, a second transparent electrode 14, and an antireflection coating 15.例文帳に追加
防塵基板11は、例えば、液晶プロジェクタなどの透過型液晶パネルの表面に塵や埃などが付着することを防止するために用いられ、圧電基板12と、第1透明電極13と、第2透明電極14と、反射防止膜15とを有する。 - 特許庁
An antireflection layer is formed on one surface of a transparent support, an electromagnetic wave shielding layer is formed on the other surface, thereupon, a near-infrared ray shielding layer is formed and, further thereupon, an adhesive layer is formed, preferably, leaving a ground electrode lead so as to be exposed.例文帳に追加
透明基体の一面上に反射防止層を形成し、他の面上に電磁波遮蔽層を形成し、その上に、好ましくはアース電極取出部を露出するように残して、近赤外線遮蔽層を形成し、さらにその上に接着剤層を形成する。 - 特許庁
To provide a viewing angle regulation sheet which is capable of suppressing the visibility from side surfaces, has one member endowed with antidazzle function and antireflection function, is suitably used for an image display apparatus disliking the leakage of, for example, personal information and can be reversibly used.例文帳に追加
サイドからの視認性を抑制し得ると共に、一つの部材に防眩機能と反射防止機能が付与され、例えば個人情報の洩れを嫌う画像表示装置に好適に用いられる、リバーシブル使用が可能な視野角規制シートを提供すること。 - 特許庁
Further, the antireflection film, and the polarizing plate and the image display device using the antireflection film are also disclosed.例文帳に追加
支持体上に1層以上の層を有する光学フィルムであって、最表面には無機微粒子とバインダーを含有する薄膜層が形成されており、無機微粒子の含有率は薄膜層内の厚み方向で変化し、支持体と逆側(上部側)の領域で最少含有率(A)をとり、かつ、最低含有率を示す領域より支持体側(下部側)の領域で最大含有率(B)をとり、最大含有率(B)に対する最少含有率(A)の比率R(=A/B)が1を超えていることを特徴とする光学フィルム、特に反射防止フィルム、及びそれを用いた偏光板並びに画像表示装置。 - 特許庁
When it is defined that a reflection factor and transmittance of a laser beam on the face of the substrate, on which the reflection/transmission film is formed, are Rb and Tb and the reflection factor of the laser beam on the face of the substrate, on which the antireflection film is formed, is Ra, the following conditional expressions are satisfied.例文帳に追加
上記基板の反射透過膜が形成された面でのレーザ光の反射率および透過率をそれぞれRbおよびTbとし、上記基板の反射防止膜が形成された面でのレーザ光の反射率をRaとすると、以下の条件式(1)および(2)を満足する。 - 特許庁
To form an antireflection layer, having a low refractive index on the surface of a substrate and to provide a low reflective substrate, having high transmittance for visible rays by the method of supersaturation precipitation that the substrate is brought into contact with a silicon oxide supersaturated aqueous solution of hydrosilicofluoric acid to precipitate a silicon dioxide film on the substrate surface.例文帳に追加
珪弗化水素酸の酸化珪素飽和水溶液と基板とを接触させて基板表面に二酸化珪素被膜を析出させる過飽和析出法により、基板表面に低屈折率の反射防止層を形成して可視光透過率の高い低反射基板を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a resist underlay film having a function as an antireflection film as well as excellent pattern transfer performance and etching resistance, and causing no bend in a pattern during transferring a fine pattern, and to provide a composition for a resist underlay film used for the above method, and a pattern forming method.例文帳に追加
反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能及びエッチング耐性に優れ、微細化したパターンの転写時においてもパターンが曲がらないレジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a glare shield antireflection film whose reflexibility (film uniformity) is satisfactory, and which is excellent in visibility, glare shielding performance and sharpness, and which is excellent in black compaction when a moving image is displayed, and to provide the manufacturing method of the film, a polarizer and a display device using the film.例文帳に追加
本発明の目的は、反射性(膜均一性)が良好で、視認性、防眩性、鮮鋭性及び動画を表示したときの黒のしまりに優れた防眩性反射防止フィルムとその製造方法及びそれを用いた偏光板及び表示装置を提供することにある。 - 特許庁
The organic substrate with light absorptive antireflection film and the manufacturing method thereof are characterized by building up of an adhesive layer 12 comprising principally of a nitride of silicon, a light absorptive film 13 and a low refractive index film 15, on a plasma-surface-treated organic substrate 10, in this order from the substrate side.例文帳に追加
表面がプラズマで処理された有機基体10上に、基体側から、ケイ素の窒化物を主成分とする密着層12、光吸収膜13、低屈折率膜15が順に形成された光吸収性反射防止膜付き有機基体とその製造方法。 - 特許庁
The antireflection film has at least one hard coat layer and a low refraction index layer positioned at the outermost layer.例文帳に追加
反射防止フィルムにより高度な視認性を有し、更に視野角(特に下方向視野角)が拡大し、そして視角変化による、コントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することのない偏光板、およびそれを用いた液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁
Al_2O_3 films 72 being antireflection film for reducing reflectance on first, third and fifth layers and TiOx films 73 being light absorbing layer for reducing transmittance on second, fourth and sixth layers are alternately laminated above a fine rugged periodic structure 33 on a transparent base plate 31.例文帳に追加
透明基板31上の微細凹凸周期構造33上には、第1、3、5層に反射率を低減させるための反射防止膜であるAl_2O_3膜72と、第2、4、6層に透過率を低減させるための光吸収層であるTiOx膜73を交互に積層する。 - 特許庁
The antireflection layer 130 includes a first layer 131, a second layer 132, a third layer 133, a fourth layer 134, a fifth layer 135, a sixth layer 136, a transparent conductive layer 137 as a seventh layer and an eighth layer 138 arranged in the order outward from the lens base 110 side.例文帳に追加
この反射防止層130は、レンズ基材110側から外側に向けて順に配置された第1層131、第2層132、第3層133、第4層134、第5層135、第6層136、第7層である透明導電層137及び第8層138から構成される。 - 特許庁
The photoelectric conversion device includes: a plurality of semiconductor particles 2 each of which has first and second conductivity type portions; an insulator 4 arranged among the semiconductor particles 2; and a first antireflection film 3 formed between the semiconductor particles 2 and the insulator 4 and contacting with the semiconductor particles 2 and the insulator 4.例文帳に追加
第1および第2導電型部を有する複数の半導体粒子2と、該半導体粒子2間に配置された絶縁体4と、前記半導体粒子2と絶縁体4との間に、半導体粒子2および絶縁体4と接した第1の反射防止膜3と、を備えた。 - 特許庁
To provide an antireflection film having a high productivity without lowering an anti-scratch property even when a solid content concentration in a coating liquid for a hard coat layer is changed, and having alkali resistance with which a low refractivity layer does not peeled off from the hard coat layer even when saponification process is applied thereto.例文帳に追加
ハードコート層の塗液の固形分濃度が変化しても、耐擦傷機能が低下しない生産性の高い反射防止フィルムとなり、またケン化処理を行っても低屈折率層がハードコート層から剥がれることがないアルカリ耐性のある反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a method for coating continuously a web with a coating liquid containing a solid component without deviation of a solid and an antireflection film manufactured by using the same, and to provide a display medium film for a micro-capsule-type electrophoresis-display device and a pressure sensitive copying paper.例文帳に追加
本発明は、固形分を含む塗工液を固体の偏りなく連続にウェブに塗工する塗工方法およびその方法を用いて製造した反射防止フィルム、マイクロカプセル型電気泳動式表示装置用の表示媒体フィルム並びに感圧複写紙を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an optical film which is extremely thin and has a sufficient contamination preventing function without decreasing transparency as an optical film and to provide an optical film excellent in an antireflective effect and having a contamination preventing layer as the outermost layer and an antireflection layer.例文帳に追加
光学フィルムとして透明性を損ねることなく、非常に薄い膜厚で、充分な防汚機能を有する光学フィルムを提供することにあり、更に第2の目的は、該防汚層を最外層に、また反射防止層を有する反射防止効果の優れた光学フィルムを提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of coating a TiN film 41 of an antireflection film on an Al shielding film 10, forming a black dye-filled polyimide film 11 thereon, opening the film 11 on a position for forming the marker 15, and thereafter opening the film 41 by anisotropically etching.例文帳に追加
Al遮光膜10上に反射防止膜であるTiN膜41を被覆し、その上に黒色染料入りポリイミド膜11を形成し、マーカ15を形成する箇所の上の黒色染料入りポリイミド膜11を開口し、その後、TiN膜41を異方性エッチングで開口する。 - 特許庁
The display front panel 40 comprises a transparent substrate 20, an antireflection film 30 prepared by applying coating liquid including an antireflective material on the viewer side of the transparent substrate 20, and a design layer 10 that is provided on the viewer side of the transparent substrate 20 and that forms the non-display area.例文帳に追加
表示用前面板40は、透明基板20と、透明基板20の観察者側に反射防止材料を含む塗布液が塗布されることで設けられた反射防止膜30と、透明基板20の観察者側に設けられて非表示領域を形成する意匠層10と、を備えている。 - 特許庁
A method for forming the photoresist laminate is provided which includes a step of forming a photoresist layer on a substrate, and a step of forming an antireflection layer by applying a coating composition comprising a fluorine-containing polymer comprising 0.1-100 mol% of a structural unit derived from a fluorine-containing monomer of formula (1).例文帳に追加
基板上にフォトレジスト層を形成する工程、およびの含フッ素単量体由来の構造単位を0.1〜100モル%含む含フッ素重合体を含むコーティング組成物を塗布することにより反射防止層を形成する工程を含むフォトレジスト積層体の形成方法。 - 特許庁
To provide a solid-state imaging element, having a structure capable of optimizing the film thickness of an antireflection film formed on a photodiode, without causing deterioration of image sensor characteristics or being restricted on a manufacturing process, even if a general CMOS manufacturing process is applied.例文帳に追加
一般的なCMOS製造プロセスを適用した場合においても、イメージセンサ特性の劣化を生じさせず、また、製造プロセス上の制約を受けることなく、フォトダイオード上に形成された反射防止膜の膜厚を最適化できる構造を有する固体撮像素子を提供する。 - 特許庁
To provide an antiglare film, etc. which makes both the anti-reflection property (securing antiglare property) and haze prevention compatible, and also permits compatibility of glittering (scintillation) prevention, as well as securing of clearness, and even if an antireflection layer (AR layer) is disposed, will not impair the anti-reflection function.例文帳に追加
写り込み防止(防眩性の確保)と白ぼけ防止を両立させると共に、鮮明性の確保とぎらつき(シンチレーション)防止の両立も可能とし、さらには反射防止層(AR層)を設ける場合であってもその反射防止機能を損なうことのない防眩性フィルム等を提供する。 - 特許庁
To provide a glare-proof antireflection film having good film material property (film uniformity and adhesiveness), and excellent in a glare preventing effect, visibility and the solidity of black when displaying a moving picture and having little irregular color of reflected light, and to provide a polarizing plate and a display device using the same.例文帳に追加
本発明の目的は、膜物性(膜均一性、接着性)が良好で、ぎらつき防止効果、視認性及び動画を表示したときの黒のしまり、反射光の色むらに優れた防眩性反射防止フィルムとそれを用いた偏光板及び表示装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide an antireflection film which provides display image free from glaring and reflection of external light, has satisfactory vividness of the image and is superior in visibility, and gives an approximately neural color to reflected light and is superior in satisfactory image drawability, durability and weather resistance and is advantageous with respect to productivity and cost.例文帳に追加
表示画像にギラツキ感及び外光の写りこみのない、画像鮮明性が良好で視認性に優れ、反射光の色味がニュートラルに近く画像描画性良好で、耐久性と耐候性に優れ、生産性やコスト性に優れた反射防止フィルムを提供すること。 - 特許庁
The MgF_2 film 34 is a low refractive material, is disposed so as to improve the antireflection effect and, at the same time, acts as a protective film for causing moisture and oxygen gas to hardly pass through the MgF_2 film 34, and stability of transmissivity characteristic in environment of high temperature and high humidity is secured.例文帳に追加
このMgF_2膜34は低屈折材料であり、反射防止効果を向上させるために配置していると共に、MgF_2膜34が水分や酸素を透過し難い保護膜としても作用しており、高温、高湿下における透過率特性の安定性を確保する。 - 特許庁
To provide an optical film having no problems of streak failure and pressing failure on the surface of the film, allowing good surface processibility of a hard coat layer and an antireflection layer and having high contrast and excellent durability at high temperature and high humidity, and provide a polarizer and a liquid crystal display device using the polarizer.例文帳に追加
フィルムの表面のスジ故障と押され故障の問題がなく、ハードコート層や反射防止層などの表面加工性がよく、高いコントラスト、高温高湿時の耐久性に優れた光学フィルム、偏光板、及び該偏光板を用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide an antireflection film which realizes lower reflectance, by incorporating a low refractive index layer as a layer configuration containing silica fine particles having a porous or hollow inner portion, which has superior film strength, uneveness properties and contamination preventing property of the film surface, and which is to be used for a liquid crystal display apparatus.例文帳に追加
内部が多孔質または空洞であるシリカ系微粒子を含有する低屈折率層を層構成として含むことで反射率をより低減した、膜強度、ムラ、膜表面の防汚性に優れた、液晶表示装置用として使用するための反射防止フィルムを提供することにある。 - 特許庁
In the sheet-like optical member 8 such as lens sheet 9 in which a recessed and projected shape comprising transparent substrate and molding resin is formed on both surfaces or on one surface, antireflection films 12, 12' having a refractive index of 1.25 to 1.35 are disposed on at least one surface thereof.例文帳に追加
透明基材と成型樹脂からなる凹凸形状が、両面または片面に形成されたシート状の光学部材、例えばレンズシート9において、その少なくとも1つの面に屈折率1.25〜1.35の反射防止膜(12、12′)を設けたことを特徴とするシート状光学部材8である。 - 特許庁
The filter for a plasma display panel includes a layer having each one minimum of the transmittance in the wavelength region from 580 to 600 nm and in the wavelength region from 470 to 520 nm, a layer containing a UV absorbent if necessary, a near IR ray cut layer, an electromagnetic wave shield layer, an antireflection layer and a non-glare layer.例文帳に追加
580〜600nmの波長域及び470〜520nmの波長域に透過率の極小値を1つずつ持つ層と、必要に応じて紫外線吸収剤を含有する層、近赤外線カット層、電磁波シールド層、反射防止層、ノングレア層を設けたプラズマディスプレイパネル用フィルター。 - 特許庁
To provide a multifunctional optical filter having high mechanical strength and excellent in production aptitude, a front plate and a picture display device using same, and to provide especially an optical filter or the like excellent in an infrared shielding function, an electromagnetic wave shielding function, an antireflection function, and a color correction function.例文帳に追加
製造適性に優れ、機械的強度の高い、多機能の光学フィルター、これを用いた前面板及び画像表示装置を提供すること、特に、赤外線遮蔽機能、電磁波遮蔽機能、反射防止機能、及び色補正機能に優れた光学フィルター等を提供すること。 - 特許庁
The antireflection film comprises a laminate of an Y2O3 film and a layer composed of a material having refractive index of √(ns) where ns is the refractive index of GaAs and a layer having refractive index of ns/n above where is the refractive index of that layer, or a laminate of a Ge film and a ZnS film.例文帳に追加
反射防止膜としては、Y_2O_3膜、GaAsの屈折率をn_sとして屈折率が√(n_s)より小さい材料よりなる層と、この層の屈折率をnとして屈折率がn_s/nよりも大きい層との積層膜、又は、Ge膜とZnS膜との積層膜を適用する。 - 特許庁
On a semiconductor substrate 11 participating in the constitution of a photovoltaic cell, an etching-resistant porous film 13 is formed by using a paste, and the etching-resistant porous film 13 serves as a mask in an etching process for the formation of a very finely corrugated antireflection structure 15 on the semiconductor substrate 11.例文帳に追加
太陽電池を構成する半導体基板11上に、ペーストを使用して多孔質の耐エッチング性膜13を形成し、多孔質の耐エッチング性膜13をマスクとして用いて、エッチングを行うことにより、半導体基板11上に、微細な凹凸からなる反射防止構造15を形成する。 - 特許庁
The film 10 having shielding property against electromagnetic waves is produced by pattern etching a conductive foil 11 on a base film 13, forming a light absorbing layer 12 on the conductive foil 11 for antireflection treatment and then subjecting the surface of the light absorbing layer 12 to roughening treatment for non-gloss treatment.例文帳に追加
電磁波シールド性フィルム10は、基材フィルム13上にパターンエッチングによる導電性箔11を有し、この導電性箔11上に、光吸収層12を形成して反射防止処理し、更に光吸収層12の表面を粗面化処理して無光沢処理されている。 - 特許庁
To provide a method for reducing the occurrence of a crack or cutout due to the cutting of a hard coat treated article, especially, a hard coat film high in surface hardness or improved in curling or brittleness or a hard coat film with a functional thin film having an antireflection or anti-staining function.例文帳に追加
ハードコート処理物品、特に、表面の硬度が大きくカールや脆性を改良したハードコートフィルムや、反射防止、防汚などの機能を有する機能性薄膜付きハードコートフィルムなどの裁切断によるクラックや欠けの発生を減少させる方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a plastic optical member which can be obtained by molding a thermoplastic resin in a metal mold having a fluoropolymer layer formed on a transferring surface, which can be mass-produced and which excels in transferability, a mold release properties and further, in adhesion to inorganic dielectric films, such as antireflection films.例文帳に追加
転写面にフッ素系ポリマー層が形成された金型を使用して、熱可塑性樹脂を成形して得られた量産可能な光学系部材であって、転写性、離型性に優れ、さらには反射防止膜等の無機誘電体膜との密着性に優れるプラスチック光学系部材を提供する。 - 特許庁
To make it possible to obtain an antireflection film having a good adhesion property to a treating base material and high transparent by a simple method which is excellent in terms of a treatment cost, a treating time and the laboriousness of the treatment.例文帳に追加
処理コスト、処理時間および処理の煩雑さがないという面で優れている簡便な方法にて、処理基材との密着性が良好でかつ透明性の高い反射防止膜を得ることのできる反射防止膜用剤およびこれを用いた反射防止膜製造方法を提供する。 - 特許庁
The wavelength conversion member 70 includes an antireflection section 76 composed of: a moss eye-like structure 74 having minute concavo-convex structure on the surface-side of the fluorescent particle 71; and a translucent medium 73 intruding into tapering gaps between fine protrusions 75 of the moss eye-like structure 74.例文帳に追加
波長変換部材70は、蛍光体粒子71の表面側に、微細凹凸構造を有するモスアイ状構造部74とモスアイ状構造部74の先細り状の微細突起75間に入り込んだ透光性媒体73とで構成される反射防止部76を備える。 - 特許庁
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