antireflectionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3570件
To provide an antireflection film which has a hard coating layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in this order on the surface of a transparent base material film wherein the adhesion property of the high refractive index layer and the low refractive index layer is good and which sufficiently satisfies abrasion resistance.例文帳に追加
透明基材フィルムの表面にハードコート層、高屈折率層および低屈折率層をこの順で有し、高屈折率層と低屈折率層との密着性が良く、耐擦傷性を十分に満足する反射防止フィルムおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
The surface protective material 4 protects the surface of the solar battery device 10, and, for example, saw-tooth-like antireflection treatment 5 is applied on a light incident surface of the surface protective material in order to improve power generation efficiency of the solar batteries 1 by preventing reflection of incident light.例文帳に追加
表面保護材4は、太陽電池装置10の表面を保護するものであって、その光の入射面には、入射光の反射を防止して太陽電池セル1の発電効率を高めるために、例えばのこぎり歯状の反射防止加工5が施されている。 - 特許庁
To provide a hard coat film which has a good adhesiveness with a transparent substrate film, has an excellent adhesiveness after a light resistance test, and has a hard coat layer having both high hard properties and an excellent antistatic performance, and to provide an antireflection film using this, a polarizing plate and a displaying device.例文帳に追加
透明基材フィルムとの密着性が良好で、耐光性試験後も優れた密着性を有し、かつ高いハード性と優れた帯電防止性能を有するハードコート層を備えたハードコートフィルム、これを用いた反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置を提供する。 - 特許庁
The antireflection film (ARC) 103, the silicon nitride film 102, and the silicon board 101, are etched continuously and collectively by using an etching gas containing at least an NF_3 gas or an SF_6 gas or the NF_3 gas and the SF_6 gas, thus forming the trenches 105 for the element isolation (STI).例文帳に追加
少なくとも、NF_3ガス、又はSF_6ガス、又はNF_3ガスとSF_6ガスを含むエッチングガスを用い、反射防止膜(ARC)103と、シリコン窒化膜102と、シリコン基板101のエッチングを、連続的に一括で行い、素子分離(STI)のためのトレンチ105を形成する。 - 特許庁
The composition for the antireflection film contains a perfluoroalkylalkylsulfonic acid (A) represented by the formula (1): C_nF_2n+1(CH_2CH_2)_mSO_3H (where n denotes an integer of 1-20 and m denotes an integer of 1-20), an N-substituted ethylenediamine (B) and/or an N-alkylmorpholine (C).例文帳に追加
下記一般式(1) C_nF_2n+1(CH_2CH_2)_mSO_3H (1)(式中、nは1〜20の整数を示し、mは1〜20の整数である。)で表されるパーフルオロアルキルアルキルスルホン酸(A)とN置換エチレンジアミン(B)及び/又はN−アルキルモルホリン(C)を含有することを特徴とする反射防止膜用組成物。 - 特許庁
The antireflection resin sheet has a base material layer, a gas barrier layer and a hard coat having an uneven structure on an outside surface laminated in this order, and forms a low refractive index layer comprising a material having lower refractive index than that of a hard coat layer forming resin on the hard coat layer.例文帳に追加
基材層、ガスバリア層、外側表面に凹凸構造を有するハードコート層がこの順で積層され、かつ、前記ハードコート層上に当該ハードコート層形成樹脂よりも屈折率の低い材料よりなる低屈折率層が形成されている反射防止樹脂シート。 - 特許庁
In an optical packaging substrate 11, an optical semiconductor device 12 is mounted onto one main surface of the substrate, and an antireflection film or an infrared absorber is deposited onto the back surface of a site, where the optical semiconductor device 12 mounted on the optical packaging substrate 11.例文帳に追加
本発明の光実装基板11は、基板の一主面に光半導体素子12が搭載されるものであり、光実装基板11の光半導体素子12が搭載される部位の背面に、反射防止膜または赤外吸収体を被着して成ることを特徴とする。 - 特許庁
The antireflection film having at least an antireflection layer on a transparent support has a low refractive index layer that contains at least hollow silica particles and silicone in the outermost surface and has a refractive index of 1.20-1.49, and the amount of the hollow silica particles is 30-80 mass % of a solid content.例文帳に追加
透明支持体上に少なくとも反射防止層を有する反射防止フィルムであって、最表面に少なくとも中空シリカ粒子およびシリコーンを含有する屈折率が1.20〜1.49である低屈折率層を有し、中空シリカ粒子が固形分中30〜80質量%含有され、最表面から5nmまでの深さ範囲における、X線光電子分光分析装置により測定され、下記式(A)により表されるSi−C結合ピーク強度比率の平均値Rosが0.40以上であり、かつ最表面から深さ10〜25nmにおけるSi−C結合ピーク強度比率の平均値Rotが0.0005〜0.10であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁
In a process of forming a silicon nitride film 16, the silicon nitride film 16 is so formed as to have a thickness to enable a reflectance change to become 0.08%/nm or below at an interface between the silicon nitride film 16 and an antireflection film 18 with a thickness change in the silicon nitride film 16 at the formation of the silicon nitride film 16.例文帳に追加
シリコン窒化膜16を形成する工程では、シリコン窒化膜16を形成する際に生ずるシリコン窒化膜16の膜厚の変動に対する、シリコン窒化膜16と反射防止膜18との界面における反射率の変動が0.08%/nm以下となるような膜厚のシリコン窒化膜16を形成する。 - 特許庁
The electrically conductive antireflection film is obtained by forming an optically functional layer obtained by alternately stacking electrically conductive layers and low refractive index layers comprising an organic resin in two layers on a transparent plastic film substrate and a resin or compound having antifouling property is contained in the low refractive index layers.例文帳に追加
透明プラスチックフィルム基材上に、導電層と有機樹脂からなる低屈折率層を交互に2層積層した光学機能層を形成した反射防止フィルムであって、低屈折率層中に防汚性を有する樹脂もしくは化合物が添加されていることを特徴とする反射防止フィルムである。 - 特許庁
The above are achieved by an antireflection film having a low refractive layer on the outermost surface of a transparent plastic film substrate covered by a hard coat layer, wherein the low refractive layer is formed from a photo-curable composition comprising an inorganic fine particle, a cationic polymerizing compound having a silyl group within the molecule, and a photo-cationic polymerization initiator.例文帳に追加
上記課題は、ハードコート層付き透明プラスチックフィルム基材上の最表面に無機微粒子、分子内にシリル基を有するカチオン重合性化合物、及び光カチオン重合開始剤を含有する光硬化性組成物で低屈折率層を形成した反射防止フィルムにより達成される。 - 特許庁
Regarding the transmission type screen used for a rear projection type projection TV, the transmission type screen is provided with a glass substrate, the transmission type screen is provided with an optical antireflection layer on the front side of the glass substrate and a light diffusing material formed of resin film containing diffusing agent in the resin on the rear side of the glass substrate.例文帳に追加
背面投射型プロジェクションテレビに用いる透過型スクリーンにおいて、該透過型スクリーンはガラス基板を有し、該ガラス基板の前面に光反射防止層を有し、該ガラス基板の背面に拡散剤を樹脂中に含む樹脂フィルムからなる光拡散材を有することを特徴とする透過型スクリーン。 - 特許庁
By adopting the layer consisting of the simple compound of silicon nitride as one of the multilayer film of the antireflection film, the plastic lens which takes advantage of characteristics of amorphous silicon having high durability, can suppress the effect of ultraviolet ray and moisture to the lens base material and the other layers and has high heat resistance and light resistance can be provided.例文帳に追加
反射防止膜の多層膜の1つとして、窒化シリコンの単純化合物からなる層を採用することにより、耐久性が高く、非晶質の窒化シリコンの特性を活かして、レンズ基材やその他の層に対する紫外線および水分の影響を抑制でき、耐熱性および耐光性の高いプラスチックレンズを提供できる。 - 特許庁
The antireflection laminate is obtained by stacking at least a silicon oxide layer (1) as a first layer, a titanium nitride layer as a second layer and a silicon oxide layer (2) as a third layer in this order on a transparent substrate and the interface between the silicon oxide layer (1) and the titanium nitride layer is nitrided.例文帳に追加
透明性を有する基材上に、少なくとも第1層に酸化シリコン層(1)、第2層に窒化チタン層、第3層に酸化シリコン層(2)をこの順に積層した反射防止効果を有する積層体であって、酸化シリコン層(1)の窒化チタン層との界面が窒化されていることを特徴とする反射防止積層体である。 - 特許庁
An antireflection film layer including a conductive layer consisting of the mixture of indium oxide and tin oxide, whose mixture ratio is ≤65 wt.% and ≥60 wt.% respectively, and having a surface resistivity value being ≥10^5Ω per unit area is provided at least on either surface of plastic film.例文帳に追加
プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化インジウムと酸化スズの混合物からなり、その混合比がそれぞれ65重量%以下及び60重量%以上からなり、かつ表面抵抗値が10^5Ω/□以上の導電層を含む反射防止膜層を有する帯電防止性反射防止フィルム。 - 特許庁
The light beam scanning section 52 is formed by subjecting a lower flange section 82 and upper flange section 84 constituting a polygon mirror 62 to black color treatment as antireflection treatment and subjecting leaf springs 88a, 88b, 90a and 90b for fixing first and second fθ lenses 64 and 66 to black color treatment.例文帳に追加
光ビーム走査部52は、ポリゴンミラー62を構成する下側フランジ部82および上側フランジ部84に反射防止処理として黒色処理が施されるとともに、第1および第2fθレンズ64、66を固定する板ばね88a、88b、90aおよび90bに黒色処理が施される。 - 特許庁
On the light emitting surface 16 of the multilayered laminated structure 18 constituted of a substrate 11, a first semiconductor layer 12, and a second semiconductor layer 13, an antireflection filter 17 composed of a plurality of projecting sections arranged in a cycle shorter than the wavelength of the light outputted from the light emitting surface 16 is formed on the surface 16.例文帳に追加
基板11、第1の半導体層12、及び第2の半導体層13から構成される多層積層構造18の発光面16上に、発光面16より出力される光の波長よりも短い周期で配置された、複数の凸部からなる反射防止フィルタ17を形成する。 - 特許庁
In the optical element 1 including an aspherical optical surface formed by the press molding method, a ray effective portion 2b of the optical surface has, formed thereon, an antireflection structure 4 including a minute uneven structure, which contains a component different from that of a base of the optical element and has an average pitch of 400 nm or less.例文帳に追加
プレス成形法によって形成されており、非球面の光学面を有する光学素子1であって、該光学面の光線有効部2bには、該光学素子の基材とは異なる成分を含み平均ピッチが400nm以下の微細凹凸構造を有する反射防止構造体4が形成されている。 - 特許庁
To precisely discriminate the presence of the adhesion of residue in inspecting the presence of the adhesion of the residue consisting of an organic component to the surface of a resist pattern by applying an electron beam to a substrate which the resist pattern and an antireflection film being an organic film containing silicon overlie in this order from the upper side.例文帳に追加
レジストパターンと、シリコンを含む有機膜である反射防止膜と、が上側からこの順番で積層された基板に対して、電子線を照射することにより、当該パターン上への有機成分からなる残渣の付着の有無を検査するにあたり、精度高く残渣の付着の有無を判別すること。 - 特許庁
A protruded secondary surface shape is formed of a protruded basic shape which may be connected with each other, the basic shape has 30 to 200 nm average height and 80 to 400 nm average diameter and arrangement of the basic shapes at the antireflection surface is substantially irregular.例文帳に追加
凸状の二次表面形状:相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ30nm〜200nmかつ平均直径80nm〜400nmであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。 - 特許庁
By the configuration, since the need of providing the adhesion enhancement processing part in processing blocks other than the development processing block 20 is eliminated, the number of processing parts (a heat processing unit for performing heat processing after applying an antireflection film, for instance) to perform the processing of relatively long processing time is increased accordingly.例文帳に追加
この構成によると、現像処理ブロック20以外の他の処理ブロックに密着強化処理部を設ける必要がなくなるので、処理時間が比較的長い処理を行う処理部(例えば、反射防止膜を塗布後の熱処理を行う熱処理ユニット)の個数をその分だけ増加させることができる。 - 特許庁
The image display apparatus is equipped with the antireflection film.例文帳に追加
屈折率の異なる複数の機能層から成る防眩性反射防止膜であって、含フッ素共重合体を含む低屈折率層において、側鎖に下記一般式[1]で表されるポリシロキサンセグメントを含んでなる重合体グラフト部位を有するポリマーを含有することを特徴とする反射防止膜、及びこの反射防止膜を備えた画像表示装置。 - 特許庁
The antireflection film is obtained by forming an optically functional layer obtained by alternately stacking high refractive index layers and low refractive index layers comprising an organic resin in two or more layers on a transparent plastic film substrate and a resin or compound having antifouling property is contained in the low refractive index layers.例文帳に追加
透明プラスチックフィルム基材上に、高屈折率層と有機樹脂からなる低屈折率層を交互に2層以上積層した光学機能層を形成した反射防止フィルムであって、低屈折率層中に防汚性を有する樹脂もしくは化合物が添加されていることを特徴とする反射防止フィルムである。 - 特許庁
When fine conical or pyramidal projections are arrayed two-dimensionally on a substrate, the arrangement period is varied with a fundamental period as the center or the height of the projections is varied, so that the influence of diffraction of light can be reduced to form an ideal antireflection structure.例文帳に追加
基板上に微細な円錐形状やピラミッド状の突起を2次元に配列する際に、その配列周期を基本となる周期を中心に変動させて配列したり、突起の高さを変動させて配列ことにより光の回折による影響が低減でき、理想的な反射防止構造が形成できる。 - 特許庁
A method for manufacturing an antireflection structure includes steps of: preparing a substrate 27 having a rough surface 27p with a surface roughness larger than a predetermined wavelength; and forming a plurality of finely rugged portions 29 having an average pitch equal to or less than the predetermined wavelength on the rough surface 27p of the substrate 27 by X-ray lithography.例文帳に追加
本発明の製造方法は、所定の波長よりも大きい表面粗さの粗面27pを有する基板27を準備する工程と、X線リソグラフィによって、所定の波長以下の平均ピッチを有する複数の微小凹凸部29を基板27の粗面27pに形成する工程とを含む。 - 特許庁
The method for soldering the optical member 14 which is disposed on the endoscope and is deposited with an antireflection film on outside surface at least one surface and the metallic frame 15 for holding the optical member 14 consists in heating the optical member 14 and the metallic frame 15 in a hydrogen atmosphere, thereby soldering both.例文帳に追加
本発明は、内視鏡に設けられ且つ少なくとも片方の面に反射防止膜が成膜された光学部材14、光学部材14を保持する金属枠15とを半田付けする方法において、光学部材14と金属枠15とを水素雰囲気下で加熱して半田付けすることを特徴とする。 - 特許庁
An ND film is not deposited on the transparent region 11, but a fine ruggedness periodical structure having a pitch shorter than visible light wavelength is formed on the surface, the fine ruggedness periodical structure becomes an antireflection structure and, therefore, light made incident on the surface of the transparent region 11 is hardly reflected.例文帳に追加
透明領域11には、ND膜が蒸着されておらず、その表面には可視光波長よりも短いピッチの微細凹凸周期構造が形成され、この微細凹凸周期構造が反射防止構造となっているため、透明領域11の表面に入射した光は殆ど反射されることがない。 - 特許庁
The antireflection film has at least one metallic oxide layer formed by a CVD method on either surface of long-length film having knurling height being 5 to 30% of thickness at both ends in a width direction, and the stainproof layer is applied and provided on the metallic oxide layer positioned on the uppermost layer.例文帳に追加
幅手両端部に厚みに対して5%〜30%のナーリング高さを有する長尺フィルムの一方の面に、CVD法で形成された少なくとも1層の金属酸化物層を有し、且つ、最上層に位置する該金属酸化物層上に防汚層が塗設され設けられたことを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁
The antireflection film 9 on the incident side is also disposed on the incident side glass substrate 12, is prepared by the high-temperature film deposition and, therefore, a reflection loss is mostly reduced.例文帳に追加
λ/2位相差膜6は誘電体材料を斜め蒸着することで形成されているので、λ/2位相差板6への反射防止膜9は高温成膜で作製することができ、入射側の反射防止膜9も入射側ガラス基板12に設けられるので高温成膜で作製することができるので反射ロスが殆ど低減される。 - 特許庁
To provide an antireflection film which is formed by a coating method of an open system in which water is mixed easily in a coating liquid, which has sufficient antireflective performance, antifouling properties and scratch resistance and in which the generation of a repelling defect and color nonuniformity is restrained by using a hydrophilic solvent and performing dehydration treatment using silica gel.例文帳に追加
塗液の水分混入が発生しやすい開放系の塗工方式において、溶剤に親水性溶剤を用い、シリカゲルにて脱水処理を行うことにより、十分な反射防止性能、防汚性、耐擦傷性を有しながらハジキ欠陥、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a paint for an optical element which allows forming a film facilitating acquisition of a raw material, and having sufficient durability against an organic solvent and sufficient light internal antireflection effect to a substrate having a refractive index of 1.70 or more; the film; an optical element equipped with the film; and an optical instrument equipped with the optical element.例文帳に追加
原料の入手が容易で、有機溶剤に対して十分な耐久性を有し、屈折率が1.70以上の基材に対しても十分な光の内面反射防止効果を有する皮膜を形成できる光学素子用塗料、前記皮膜、前記皮膜を備えた光学素子及び該光学素子を備えた光学機器の提供。 - 特許庁
The method of manufacturing the members having the antireflection function includes a step of forming needle-like crystal made of a nickel metal, a nickel-iron alloy, or a nickel-zinc alloy on a surface of a substrate and a step of transferring a fine rugged structure of the needle-like crystal formed on the substrate, to a surface of a resin material.例文帳に追加
基板の表面にニッケル金属、ニッケル−鉄系合金又はニッケル−亜鉛系合金からなる針状結晶を形成する工程と、該基板上に形成された該針状結晶の微細凹凸構造を樹脂材料の表面に転写する工程とを含む反射防止機能を有する部材の製造方法である。 - 特許庁
The optical glass rod 6 comprises a main-body member 6b and a pair of end portion members 6c whose overall length is shorter than that of the main-body member 6b and which each have an antireflection film 6a on one end surface, and both end surfaces of the end portion members 6c are bonded to both end surfaces of the main-body member 6b in optical contact.例文帳に追加
光学ガラスロッド6は、本体部材6bと、該本体部材6bよりも全長が短くかつ反射防止膜6aを一端面に備えた一対の端部部材6cとからなり、本体部材6bの両端面それぞれに対し、端部部材6cの他端面をオプティカルコンタクトによって接合して形成される。 - 特許庁
The plastic lens comprises a plastic lens base, a hard coat layer on the plastic lens base, and an antireflection film comprising an organic thin film on the hard coat layer, wherein the hard coat layer is formed from a coating composition that contains titanium oxide having a rutile crystalline structure as inorganic oxide fine particles.例文帳に追加
プラスチックレンズ基材と、プラスチックレンズ基材上に形成されたハードコート層と、ハードコート層の上に形成された有機薄膜で構成される反射防止膜とを有するプラスチックレンズにおいて、無機酸化物微粒子としてルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有するコ−ティング用組成物からハードコート層を形成する。 - 特許庁
The laminated polyester film for an antireflection film has a coating layer, containing a melamine compound and a urethane resin on at least one surface of a polyester film, wherein the absolute reflectance of the laminated polyester film on the coating layer side is 4.0% or higher with respect to the entire wavelength range of 400-800 nm wavelength.例文帳に追加
ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、メラミン化合物およびウレタン樹脂を含有する塗布層を有し、当該塗布層側の絶対反射率が波長400〜800nmのすべての波長範囲に対して4.0%以上であることを特徴とする反射防止フィルム用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition which is suitably used for forming an antireflection film for a display, has a high refractive index, excellent transparency and excellent adhesion to a polyester substrate represented by polyethylene terephthalate, and forms a cured film hardly yellowing with time.例文帳に追加
本発明は,ディスプレイに用いられる反射防止フィルムの形成に好適に用いられる感光性組成物であって、高屈折率で透明性に優れ、ポリエチレンテレフタレートに代表されるポリエステル系基材に対する密着性に優れ、経時で黄変し難い硬化塗膜を形成し得る感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
With respect to the semiconductor ring laser apparatus, a semiconductor laser element having antireflection films applied to both its end surfaces is disposed in the optical path of a ring resonator constituted on a single substrate, and there is adopted the constitution wherein the driving power supply of the semiconductor laser element is so provided as to oscillate the laser element directly by the driving power supply.例文帳に追加
本発明の半導体リングレーザー装置は、一つの基盤上で構成するリング共振器の光路内に、両端面に反射防止膜を施した半導体レーザー素子を配置すると共に、半導体レーザー素子の駆動電源を備えるようにし、該駆動電源によって直接レーザー発振させる構成を採用した。 - 特許庁
The antireflection transparent electrically conductive laminated film is disposed on the front face of a display device with a cathode-ray tube and has ≤2.0% average reflectance in the wavelength range of 450-650 nm and ≤20% difference between the maximum value and minimum value of transmittance in the wavelength range of 380-700 nm.例文帳に追加
この反射防止透明導電性積層フイルムは、陰極線管表示装置の前面に配置され、フイルムの450nm乃至650nmの波長域での平均反射率が2.0%以下であり、かつ380nm乃至700nmの範囲における透過率の最大値と最小値との差が20%以下である。 - 特許庁
The λ/2 retardation film 6 is formed by oblique vapor deposition of dielectric material and, therefore, the antireflection film 9 onto the λ/2 retardation plate 6 can be prepared by high-temperature film deposition.例文帳に追加
偏光変換素子27には、偏光分離膜1と反射膜2とを備えた透明部材3、λ/2位相差膜6と反射防止膜9とが形成されたガラス基板8からなるλ/2位相差板6、および短冊状の反射膜15と反射防止膜9とを備えた入射側ガラス基板12が設けられている。 - 特許庁
To provide an antireflection film with high chemical resistance, in which crosslinking of an interface adjacent to a high refractive index layer (especially, crosslinking of an interface between the adjacent low-refractive index layer and the high refractive index layer) is enhanced, physical strength such as contactness, abrasion resistance is raised and further more, the physical strength is not impaired, even when saponification processing is performed.例文帳に追加
高屈折率層と隣接する界面の架橋(特に隣接する低屈折率層と高屈折率層の界面の架橋)を強化し、密着性、耐擦傷性などの物理強度を向上し、さらに鹸化処理を行ってもその物理強度が損なわれない高い耐薬品性を有する反射防止フィルムを提供すること。 - 特許庁
In the antireflection film of two layers or three layers which uses an oxide film and a fluoride thin film with low absorption in a wavelength region between 150 and 300nm as a film material, a thin film of ≤0.85 packing density is used as a low refractive index layer, in order to be able to cope with a F_2 stepper, an ArF stepper and a KrF stepper.例文帳に追加
本発明は特にF_2、ArF、KrFステッパーに対応可能とするために、150nm〜300nmの波長域で吸収の小さい酸化膜、フッ化物薄膜を膜材料として用いた2層又は3層反射防止膜において、低屈折率層にパッキング密度0.85以下の薄膜を使用する。 - 特許庁
The refractive layer of the antireflection film is constituted such that the total film thickness of the first to third refractive layers is 180 to 220 nm, the film thickness of the first refractive layer is 10 to 50 nm, the film thickness of the third refractive layer is 150 to 190 nm and, further, only the first to third layer are deposited under ion beam assisted irradiation.例文帳に追加
この反射防止膜の屈折率層の構造は第1〜第3の屈折率層の膜厚の総和を180〜220nmとし、第1の屈折率層の膜厚を10〜50nmとし、第3の屈折率層の膜厚を150〜190nmとし、更に第1層〜第3層のみをイオンアシスト照射下で蒸着させる。 - 特許庁
An antireflection film (a dielectric multilayer film) 31, a light absorbing film (a chalcopyrite film) 32 and a wavelength selecting film (another dielectric multilayer film) 33 are layered between prism glasses 12 and 13 constituting the color resolving prism 10 to form the dichroic filter 30 and the wavelength selection film 33 is stuck to the prism glass 13 by an adhesive layer (a UV adhesive) 34.例文帳に追加
色分解プリズム10を構成するプリズムガラス12と13間に、反射防止膜(誘電体多層膜)31、光吸収膜(カルコパイライト膜)32および波長選択膜(誘電体多層膜)33を積層してダイクロイックフィルタ30を形成し、接着層(UV接着剤)34によって接着する。 - 特許庁
In the electroluminescence display device, a metal thin film having light transmission properties, such as, for example, calcium, lithium, etc. is formed on upper surfaces of an organic compound layer 22 and a partition wall 21 in a cathode 23, and an antireflection film having optical absorptivity is formed to prevent the outdoor light from being reflected on the upper surface of the metal thin film.例文帳に追加
陰極23は、有機化合物層22及び隔壁21の上面に、例えばカルシウムやリチウム等の光透過性のある金属薄膜が形成されていて、前記金属薄膜の上面には外光の反射を防止するために光吸収性のある反射防止膜が形成されている。 - 特許庁
To provide an optical film which is free from the problem of a streak defect and a press defect on the film surface, ensures good surface workability of a hard coat layer, an antireflection layer or the like, keeps high contrast, and has excellent durability at high temperature and high humidity, a polarizing plate, and a liquid crystal display using the polarizing plate.例文帳に追加
本発明の目的は、フィルムの表面のスジ故障と押され故障の問題がなく、ハードコート層や反射防止層などの表面加工性がよく、高いコントラスト、高温高湿時の耐久性に優れた光学フィルム、偏光板、及び該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することにある。 - 特許庁
To prevent the generation of uneven rainbows at the time of curing an active ray curing substance layer by irradiating the layer with active rays in the case of continuously forming an active ray cured layer on a resin film and to provide an optical thin film such as an antireflection layer having no uneven application when the optical thin film is formed on the active ray cured layer by application.例文帳に追加
樹脂フィルム上に活性線硬化層を連続的に形成するにあたり、活性線を照射して活性線硬化物層を硬化させる際、虹むらの発生を防ぎ、その上に反射防止層のような光学薄膜を塗布により形成した際、塗布むらがない光学薄膜を提供する。 - 特許庁
The hybrid lenses 10 is constituted as follow; antireflection layers 18, 19 are disposed on both surfaces of the ceramic lens 11 made by using light transparent ceramic having refractive index of ≥2.0, visible light transmittance of ≥70% and particle size of 40 μm to 120 μm as glass material and the plastic lens 15 made of ultraviolet curing resin is bonded thereto.例文帳に追加
屈折率が2.0以上であって可視光の透過性が70パーセント以上にして粒子径が40マイクロメートルから120マイクロメートル程度の透光性セラミックスを硝材としたセラミックスレンズ11の両面に反射防止膜層18,19を設けて紫外線硬化型樹脂によるプラスチックレンズ15を貼り合わせたハイブリッドレンズ10とする。 - 特許庁
Particularly, when the illuminator 4 having high directivity such as an LED or the like is disposed in the housing 3, even if an antireflection agent is coated on an inside surface 8a of the window 8, as a return light reflected on the window 8 is captured in the lens 6, the light is copied as a luminescent spot of the illuminator 4 on an imaging unit 5.例文帳に追加
特に、筺体3内にLEDなどの指向性の高い照明部4を配置させた場合、ガラス窓8の内側表面8aに反射防止剤を塗布したとしても、ガラス窓8で反射した戻り光が、レンズ部6内に取り込まれると、撮像部5に照明部4の輝点として写り込んでしまう。 - 特許庁
To provide a plasma treatment method by which stable surface modification and thin-film formation on a surface can be performed while avoiding damage to polymer resin film materials due to plasma treatment performed for the polymer resin film materials and to provide an antireflection film, a polarizing plate, and an image display device produced with the use of the plasma treatment method.例文帳に追加
高分子樹脂フィルム材料へプラズマ処理を行う際、プラズマ処理による高分子樹脂フィルム材料のダメージを抑え、安定した表面改質、表面への薄膜形成が出来るプラズマ処理方法、このプラズマ処理方法による反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置の提供。 - 特許庁
The film 10' is produced by adhering a conductive foil 11 to a transparent base film 13 with a transparent adhesive 14, pattern etching, forming a light absorbing layer 12 and subjecting the surface of the light absorbing layer 12 to roughening treatment for antireflection and non-gloss treatment.例文帳に追加
粘着膜付き電磁波シールド性フィルム10’は、導電性箔11を、透明な基材フィルム13に透明接着剤14により接着した後、パターンエッチングし、その後、光吸収層12を形成し、この光吸収層12の表面を粗面化処理して反射防止、無光沢処理を施してなる。 - 特許庁
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