「antireflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(66ページ目) - Weblio英語例文検索

The antireflection film is constituted by layering a hard coat layer 2, a high refractive index layer 3 and the low refractive index layer 4 in this order on transparent base material film 1 or by layering a conductive high refractive index hard coat layer and the low refractive index layer in this order on the transparent base material film.例文帳に追加

透明基材フィルム１上に、ハードコート層２、高屈折率層３及び低屈折率層４をこの順で積層してなる反射防止フィルム、或いは、透明基材フィルム上に、導電性高屈折率ハードコート層及び低屈折率層をこの順で積層してなる反射防止フィルム。 - 特許庁

Therefore, a reaction between oxygen (O_2) radicals and the Al-Cu film 13c to form AlxOy can be prevented, and in a process of removing polymers, the reduction of AlxOy by fluorine radicals, and the peel-off of the antireflection films 13f, 16f from the Al-Cu film 13c are prevented.例文帳に追加

従って、酸素（Ｏ_2）ラジカルとＡｌ−Ｃｕ膜１３ｃとが反応してＡｌｘＯｙが形成されることが防止され、ポリマー除去時にＡｌｘＯｙがフッ素ラジカルによって還元され、反射防止膜１３ｆ、１６ｆがＡｌ−Ｃｕ膜１３ｃから剥離することもない。 - 特許庁

To provide an optical film which has no problem of streak failure and pressing failure at a film surface, has good surface processibility of a hard coat layer, an antireflection layer or the like and has high contrast and excellent durability at the time of high temperature and high humidity; and further to provide a polarizing plate having the optical film and a liquid crystal display apparatus using the polarizing plate.例文帳に追加

フィルムの表面のスジ故障と押され故障の問題がなく、ハードコート層や反射防止層などの表面加工性がよく、高いコントラスト、高温高湿時の耐久性に優れた光学フィルム、偏光板、及び該偏光板を用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a member having antireflection structure capable of preventing the reflection of unnecessary light and suppressing the occurrence of stray light even on an inner wall of an opening part formed on a plate-like part, and sufficiently preventing the occurrence of ghost and flare even when applied for a small-size imaging optical device.例文帳に追加

その板状部に形成された開口部の内壁においても不要光の反射を防止し、迷光の発生を抑制することができ、小型の撮像光学装置に適用した場合であっても、ゴーストやフレアの発生を充分に防止することができる部材を提供すること。 - 特許庁

Thus, coating liquid such as the medical liquid of the antireflection film or the resist liquid is coated on the hydrophilic water 21, so that the surface tension of the coating liquid can be reduced according to the action of the hydrophilic water 21, and the coating liquid can be extended along the surface of the water W almost in parallel with the face of the wafer W.例文帳に追加

このように親水液２１の上に反射防止膜の薬液やレジスト液等の塗布液を塗布すると、親水液２１の作用により、前記塗布液の表面張力が減少し、塗布液はウエハＷの表面に沿ってウエハＷの面にほぼ平行に伸展していく。 - 特許庁

The optical base material 11 is formed of a heat-resistant resin, and the intermediate layer 12 has 1 μm or more of thickness, a Young's modulus of 14 times or more of Young's modulus of the optical base material 11, and a thermal expansion coefficient of a level same to that of the antireflection film 13.例文帳に追加

光学基材１１は耐熱性樹脂で形成され、中間層１２の厚さは１μｍ以上、中間層１２のヤング率は光学基材１１のヤング率の１４倍以上、中間層１２の熱膨張係数は反射防止膜１３の熱膨張係数と同程度としてある。 - 特許庁

To provide a hard coat film including a high hard coat layer having a higher refractive index than a base material film and having no uneven interference, an optical film having high antireflection performance and suitable of mass production, an optical film having excellent uneven interference preventive property, and a sheet polarizer and an image display device including the optical film.例文帳に追加

基材フィルムよりも屈折率が高いハードコート層を有し干渉斑のないハードコートフィルム、反射防止性が高く大量生産性に適した光学フィルム、干渉ムラ防止性に優れた光学フィルム、及び前記光学フィルムを具備した偏光板および画像表示装置の提供。 - 特許庁

The screen fabric for printing comprises a fabric-like woven cloth woven by using warps 16 and wefts 17 of fine wires of stainless steel, and at least one side surface of the woven cloth coated with antireflection films 16a, 17a for ultraviolet rays and made of an oxide, a nitride or a carbide of a metal or magnesium fluoride.例文帳に追加

ステンレス鋼の細い線材を経糸１６および緯糸１７に用いて製織された紗状織物の少なくとも片面を金属の酸化物、窒化物もしくは炭化物又はフッ化マグネシウムからなる紫外線用の反射防止膜１６ａ、１７ａで被覆する。 - 特許庁

The antireflection film 31 has a low refractive index layer having a refractive index between 1.4 and 1.6 to the light flux of 450 nm wavelength and a high refractive index layer having a refractive index between 1.8 and 2.2 to the light flux of 450 nm wavelength and a plurality of both layers are alternatively laminated.例文帳に追加

反射防止膜３１は、交互に複数積層された、波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が１．４以上で１．６以下の低屈折率層と、波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が１．８以上で２．２以下の高屈折率層とを有する。 - 特許庁

An indexer 1, a carrying mechanism 17 for heat treatment section, and a section T for inspecting a mounted substrate W being delivered between carrying mechanisms 18 for antireflection film forming section are disposed at the starting point of a treatment section carrying passage 25 on a first floor.例文帳に追加

１階の処理部搬送経路２５の始点に、基板Ｗを検査するとともに、インデクサ１・熱処理部用搬送機構１７・反射防止膜形成処理用搬送機構１８間で受け渡しを行うために載置された基板Ｗを検査するための検査部Ｔを配設する。 - 特許庁

Further, by depositing an SiO_2 film 74 of low-refractive material on seventh layer that is the outermost surface layer, having an optical film thickness n×d(n: refractive index, d: physical film thickness) of λ/4 (λ=500 to 600 nm) in order to enhance antireflection effect, the ND film 71 comprising inorganic hard film of seven-layer composition is formed.例文帳に追加

更に、反射防止効果を高めるために最表層の第７層に低屈折材料であるＳｉＯ_2膜７４を光学膜厚ｎ×ｄ（ｎ：屈折率、ｄ：物理膜厚）でλ／４（λ＝５００〜６００ｎｍ）蒸着し、７層構成の無機硬質膜から成るＮＤ膜７１を成膜する。 - 特許庁

To provide a layer having a medium refractive index and a layer having a high refractive index suitable for an antireflective layered product; to provide an antireflective layered product suitable for mass production and excellent in optical characteristics, physical characteristics and light resistance; and to provide a polarizing plate and an image display device subjected to antireflection treatment.例文帳に追加

反射防止積層体に好適な中屈折率層及び高屈折率層を提供し、大量生産に適し、光学特性、物理的特性、耐光性に優れた反射防止積層体を提供し、反射防止処理された偏光板、画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a touch panel having high durability which is free from occurrence of deterioration of its antireflection characteristics due to deformation of appearance shape and retardation changes even if left under a high-temperature environment for a long time and which allows comfortable input operations to be done and yet which is successful in workability in an assembly process.例文帳に追加

高温環境下に長時間放置しても外観形状の変形やリタデーション変化による反射防止特性の劣化が起こらず、且つ快適な入力操作を行え、しかも組立て時の作業性の良好な高耐久性を有するタッチパネルを提供する。 - 特許庁

Thus, even if antireflection films are formed using a layer with a low refractive index composed of SiO_2 having high residual stress at the time of film forming, the occurrence of cracks is not arisen in an acceleration test which is kept in a state of high temperature and high moisture for a long time, and therefore it is effective for preventing the occurrence of cracks.例文帳に追加

これにより、成膜する際に残留応力が大きいとされているＳｉＯ_2からなる低屈折率層を用いて反射防止膜を形成しても、高温・多湿の状態に長時間おいた加速度試験においてクラックの発生はみられず、クラックの発生の防止に有効である。 - 特許庁

To provide a hollow silica sol and hollow silica fine particles, which are excellent in transparency and low refraction characteristic in optical applications such as antireflection films and are useful as a low dielectric enamel component, a coating material component, a doping component, an additive or the like for the applications of electronic materials or the like.例文帳に追加

反射防止膜などの光学用途において透明性と低屈折率特性に優れており、また電子材料などの用途において低誘電率エナメル成分、塗料成分、ドープ成分及び添加剤などに対しても有用である中空シリカゾル及び中空シリカ微粒子を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive substrate which is adjusted so as to obtain a product having uniform quality even if an unevenness is caused in the intrasurface reflectance of a substrate when a fine pattern is formed using the photosensitive substrate obtained by disposing a photoresist layer on the substrate by way of an organic antireflection layer.例文帳に追加

基板上に有機反射防止層を介してホトレジスト層を設けた感光性基材を用いて微細パターンを形成する際に、基板の面内の反射率にバラツキを生じても品質の一定した製品が得られるように調整された感光性基材を提供する。 - 特許庁

The antireflection film is composed of a multilayer film formed by laminating 4 to 12 layers in which the reflectance of exposure light of wavelength 320 to 450 nm is 1.5% or less, and the reflectance of infrared light of wavelength 800 nm or more (in particular, 880 nm) as alignment light is 2% or less.例文帳に追加

露光光である波長３２０〜４５０ｎｍの反射率が１．５％以下、アライメント光である波長８００ｎｍ以上（特に８８０ｎｍ）の赤外光の反射率が２％以下となる４〜１２層で積層される多層膜で構成される反射防止膜を提供する。 - 特許庁

To provide coating liquid for forming an optical interference layer which is good in the dispersion stability of metal oxide particulates and whose retention stability is excellent, an optical interference layer produced by using the coating liquid and showing high film strength and a high refractive index, and an antireflection film and a display device.例文帳に追加

金属酸化物微粒子の分散安定性に優れ、塗布液の停滞安定性が良好な光学干渉層形成用塗布液、該塗布液を用いて作製され、高い膜強度、高屈折率を示す光学干渉層、反射防止フィルム及び表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for surface treatment capable of enhancing the selection ratio or the ratio of the etching rate of an antireflection film, such as BARC or the like of an organic material, which serves as a means for forming a highly precise pattern by surface treatment of a semiconductor or the like to that of a resist which servers as a mask for forming the pattern.例文帳に追加

半導体などの表面処理において高精度にパターン形成を行うための手段となる反射防止膜であるＢＡＲＣなどの有機材とパターンを形成するマスクであるレジストとのエッチング速度の比、すなわち選択比を高くした表面処理装置を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor devices by patterning a wiring material film (film to be worked) 10 containing metal to be formed on a substrate 1 consists in first forming the resist patterns 13 across an antireflection film 11 consisting of a silicon material on the wiring material film 10.例文帳に追加

基板１上に形成された金属を含有する配線材料膜（被加工膜）１０をパターニングする半導体装置の製造方法であり、先ず、配線材料膜１０上にシリコン系材料からなる反射防止膜１１を介してレジストパターン１３を形成する。 - 特許庁

An antireflection film 10 containing an inorganic-organic hybrid material comprises the inorganic-organic hybrid material made of the reaction product of silica particles and an organopolysiloxane; and a thin film formed by curing a curable silicone resin composition, in which the inorganic-organic hybrid material is dispersed.例文帳に追加

無機・有機ハイブリッド材料を含む反射防止膜１０であって、シリカ粒子とオルガノポリシロキサンとの反応物からなる無機・有機ハイブリッド材料と、無機・有機ハイブリッド材料が分散し、硬化性シリコーン樹脂組成物を硬化させてなる薄膜と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The hollow fine particle such as the inorganic porous fine particle is restrained from being flocculated in the applying step, and the antistatic antireflection film of satisfactory conductivity is prepared by bringing a content of halogen elements resulting from the quaternary ammonium salt conductive monomer, into a range of 1-5 atom%.例文帳に追加

４級アンモニウム塩導電性モノマー起因であるハロゲン元素含有率を１〜５ａｔｏｍ％の範囲にすることで、無機多孔質微粒子などの中空微粒子が塗布段階で凝集することを抑制し、かつ良好な導電性を有する帯電防止反射防止フィルムを作成した。 - 特許庁

The laminated polyester film for an antireflection film has a coating layer containing at least one cationic polymer and at least one binder polymer on at least one surface of an at least uniaxially stretched polyester film, wherein the haze of the film is ≤2.0%.例文帳に追加

少なくとも一軸方向に延伸されたポリエステルフィルムの少なくとも片面に、少なくとも１種のカチオンポリマーおよび少なくとも１種のバインダーポリマーを含有する塗布層を有し、フィルムのヘイズが２．０％以下であることを特徴とする反射防止フィルム用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The substrate-treating device 500 comprises an indexer block 9, a treatment block 10 for antireflection films, a treatment block 11 for resist films, a development processing block 12, a treatment block 13 for resist cover films, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying treatment block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The light absorbing antireflection glass substrate is composed of a glass base constituting a display surface of a cathode ray tube on which, a film of either silicon oxide, silicon oxide nitride, or silicon nitride of 1-15 nm, and a light absorbing film of 5-70 nm, and a film with low refractive index of 50-300 nm, in this sequence.例文帳に追加

陰極線管の表示面を構成するガラス基体上に、１〜１５ｎｍの、シリコン酸化物膜、シリコン酸窒化物膜またはシリコン窒化物膜と、５〜７０ｎｍの光吸収膜と、５０〜３００ｎｍの低屈折率膜とがこの順に設けられてなる光吸収性反射防止ガラス基体。 - 特許庁

The organic antireflection film comprises a three-dimensional fine structure which is obtained by hydrolyzing at least two organic silicon compounds each having the silicon bonded to a hydrolyzable functional group and polymerizing the hydrolyzed organic silicon compounds, and an inorganic fine particle dispersed colloidally in the three-dimensional fine structure.例文帳に追加

反射防止膜は、加水分解可能な官能基と結合しているケイ素を有する少なくとも２種類以上の有機ケイ素化合物を加水分解、及び、重合して得られる三次元微細構造体と、その構造体中にコロイド状に分散している無機微粒子が含まれている。 - 特許庁

To provide an antireflection film which is in contact with a conveyance roller at a state that the maximum surface becomes a high refractive index layer, with which a bright spot foreign matter is reduced even if winding is performed once, at a low cost and with low refractive index, a polarizing plate using the film and an image display device using the plate.例文帳に追加

最表面が高屈折率層となっている状態で搬送ローラーに接触し、一旦巻き取りを行っても輝点異物が低減し、かつ、低コスト、低反射率の反射防止フィルム、これを用いた偏光板及び画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

The antireflection layer 138 has a refractive index n between the refractive index of the first layer and the refractive index of the second layer; and has a thickness of λ/4n when λ represents a wavelength of the light-emitting element, whereby a reflection loss at the interface between the barrier layer 137 and the organic intermediate layer 139 can be reduced.例文帳に追加

反射防止層１３８は、第１層の屈折率と、第２層の屈折率と、の間の屈折率ｎを備え、発光素子波長をλとした場合λ／４ｎの厚さを備えることで、バリア層１３７と有機中間層１３９界面での反射損失低減を可能とした。 - 特許庁

The light source includes a light emitting element 10 and a photoconductive body 11 for conducting the light of the light emitting element 10 to the original image, and an arrangement of an antireflection means on the surface of the photoconductive body prevents irradiation on the original image or an approach to the imaging optical system by disturbing light, straying light, or the like.例文帳に追加

光源は発光素子１０とこの発光素子１０の光を原稿へと導く導光体１１を含み、この導光体上面に反射防止手段を設けることにより外乱光・迷光などの原稿への照射または結像光学系への進入を防ぐ。 - 特許庁

A pellicle having an antireflection layer having mean surface roughness of 1 to 8 nm and formed by using magnesium fluoride is used to provide a pellicle having ≥95% transmissivity over the whole range of an angle of incidence of 0 to 20° of light of 193 nm.例文帳に追加

表面平均粗さが１ｎｍ以上８ｎｍ以下のフッ化マグネシウムを用いて形成される反射防止層を有するペリクルを用いることで、１９３ｎｍの光の入射角が０〜２０°の全ての範囲で透過率が９５％以上のペリクルを提供することが出来る。 - 特許庁

To optimize an antireflection film for use, when patterning a resist for use in an ion implantation step and enhance throughput in the manufacture of a semiconductor device, containing a step of ion-implanting impurities in a region selected by the use of a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンを使用して選択された領域に不純物をイオン注入する工程を含む半導体装置の製造方法に関し、イオン注入工程において使用されるレジストをパターニングする際に使用される反射防止膜の最適化を図るとともに、スループットを向上すること。 - 特許庁

The lens has an antireflection film having ≤1% reflectance Rv in the wavelength region of 420-650 nm and ≥40% reflectance Rir in the wavelength region of 920-1,100 nm to the incidence of light parallel to the optical axis of the lens.例文帳に追加

光軸に平行した光の入射に対し、波長領域４２０ｎｍ〜６５０ｎｍの反射率Ｒ_ｖがＲ_ｖ≦１％であり、波長領域９２０ｎｍ〜１１００ｎｍの反射率Ｒ_ｉｒが４０％≦Ｒ_ｉｒである反射率特性を有する反射防止膜が形成されたレンズである。 - 特許庁

It has been found that a coated substrate having high transparency and high antireflection performance is prepared by forming an antiaggregatory and uniform film on the substrate using hollow silica/silicone particles containing no matrix resin, or organic polymer-coated hollow silica/silicone particles.例文帳に追加

マトリックス樹脂を含有しない中空シリカ・シリコーン粒子あるいは有機重合体被覆中空シリカ・シリコーン粒子は凝集のない均一な被膜を基材上に形成し、高い透明性と高い反射防止性能を有する被膜付基材を提供することを見出した。 - 特許庁

A stripping composition containing a polar aprotic solvent such as dimethyl sulfoxide or sulfolane and an aggressive base such as hydroxylamine or hydroxylamine formate is brought into contact with an antireflection composition applied to a substrate for a period of time sufficient for removal to remove the antireflective composition from the substrate.例文帳に追加

例えばジメチルスルホキシド、スルホランなどの極性非プロトン溶剤と、例えばヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンホルメートなどのアグレッシブベースを含むストリッピング組成物と、基体に施用した反射防止組成物とを、反射防止組成物を除去するための時間接触させ、基体から反射防止組成物を除去する。 - 特許庁

The antireflection film includes the hard coat layer and a low-refractive index layer in order on the transparent base material, wherein the hard coat layer contains a quaternary ammonium salt material, and the low-refractive index layer contains silica particles having voids therein.例文帳に追加

透明基材上にハードコート層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルムであって、前記ハードコート層が４級アンモニウム塩材料を含み、且つ、前記低屈折率層が内部に空隙を有するシリカ粒子を備えることを含むことを特徴とする反射防止フィルムとした。 - 特許庁

In the layered antireflection film, a transparent low refractive index layer 4 in the multilayered structure contains a silicon alkoxide and/or its hydrolyzed products as the component having functional groups having reactivity with the functional groups in another layer.例文帳に追加

本発明の積層反射防止膜は、多層構造のうちの透明低屈折率層４に、他の１つの層に含まれる官能基との反応性を持つ官能基を有する成分であるシリコンアルコキシドおよび／またはその加水分解生成物を含有させたことを特徴とする。 - 特許庁

The objective lens 1 and the antireflection coating film formed on it are set in the manner that the intensity of the incident light on the closest periphery of the objective lens 1 is not less than 45% and not more than 80% compared with the intensity of the incident light on the center of the objective lens 1 from the light source.例文帳に追加

対物レンズ１及びそれに形成された反射防止膜は、光源から対物レンズ１の中心への入射光の強度に対して、対物レンズ１の最周辺部の入射光の強度が４５％以上８０％以下となるよう、設定されている。 - 特許庁

To provide an antireflection coating which has a small reflection factor and superior scratch resistance and stainproofing property, is a coating type suitable for mass-production, and further has superior durability and weatherability, and then to provide a film ro image display device whose reflection is prevented by the same.例文帳に追加

反射率が低く、耐擦傷性と防汚性に優れた反射防止膜、大量生産に適した塗布型の反射防止膜、更には、耐久性、耐候性に優れた反射防止膜を提供し、それにより反射が防止されたフィルムまたは画像表示装置を提供する。 - 特許庁

The antireflection film is formed by forming the high refractive index layer by curing a composition for forming below described high refractive index layer, and forming the low refractive index layer by applying the composition for forming the low refractive index layer onto the high refractive index layer, heating and drying, and then again ultraviolet irradiating.例文帳に追加

高屈折率層が、下記高屈折率層形成用組成物を硬化して形成されたものであり、低屈折率層が、高屈折率層上に低屈折率層形成用組成物を塗布し、加熱乾燥後、再度紫外線照射して形成される反射防止フィルム。 - 特許庁

To provide a coating type and light absorbing type antireflection film in which a low refractive index layer having a low refractive index can be formed on transparent resin film in a short period of time without deteriorating the transparent resin film, and which can be consecutively produced and is excellent in abrasion resistance and chemical resistance.例文帳に追加

透明樹脂フィルムを劣化させることなく、短時間で透明樹脂フィルムに屈折率の低い低屈折率層を成膜することができ、連続生産が可能で、耐擦傷性、耐薬品性等にも優れた塗工型の光吸収型反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁

To obtain a vertical section in a treated shape, when an antireflection film formed of at least two separate layers of at least two kinds of polysilanes is dry-etched with a resist pattern used as a mask and thereby to enable control of the influence of microloading effects produced by a reaction product in etching.例文帳に追加

少なくとも二種類のポリシランを少なくとも二層に分けて成膜した反射防止膜を、レジストパターンをマスクとしてドライエッチングを行う際、加工形状の断面が垂直状に得られるようになり、エッチング時の反応生成物によって生じるマイクロローディング効果の影響を制御できる。 - 特許庁

The antireflection film 33 is provided on a surface of the second prism 32 to which the first prism 31 is cemented, has a refractive index distribution in which a refractive index decreases from the second prism 32 side to the adhesive 34 side, and prevents the reflection of light between the second prism 32 and the adhesive 34.例文帳に追加

反射防止膜３３は、第１プリズム３１と接合される第２プリズム３２の表面に設けられ、第２プリズム３２側から接着剤３４側にかけて減少する屈折率分布を有し、第２プリズム３２と接着剤３４との間で生じる反射を防止する。 - 特許庁

The antireflection layer 12A is formed by alternately stacking the first layer which is the low refractive index layer and the second layer which is the high refractive index layer and a first layer 121, a second layer 122, a third layer 123, a fourth layer 124 and a fifth layer 125 are stacked in order from a side of the hard coat layer 11.例文帳に追加

反射防止層１２Ａは、低屈折率層である第１の層と高屈折率層である第２の層とが交互に積層され、ハードコート層１１の側から、第１層１２１、第２層１２２、第３層１２３、第４層１２４および第５層１２５が順に積層されている。 - 特許庁

An objective lens 3, which is provided on an optical path of an light pickup apparatus 1 for performing recording and/or reproduction of information by using a light flux emitted from light sources 10 to 12, is equipped with a base material 30 and the antireflection film 31 formed on a surface of the base material 30.例文帳に追加

光源１０〜１２から出射される光束を用いて情報の記録及び／または再生を行う光ピックアップ装置１の光路上に備えられる対物レンズ３は、基材３０と、基材３０の表面に形成された反射防止膜３１とを備える。 - 特許庁

The solid state imaging element module 1 has a transparent board 2, a solid state imaging element 3 and metal wirings 4, and comprises an antireflection film 6 provided on the board to suppress the incidence of a reflected light by the board and/or the wirings to the solid state imaging element.例文帳に追加

透光性基板２と固体撮像素子３と金属配線４とを備える固体撮像素子モジュール１において、固体撮像素子への透光性基板及び／又は金属配線による反射光の入射を抑制する反射防止膜６を透光性基板に設ける。 - 特許庁