「antireflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(69ページ目) - Weblio英語例文検索

The curable resin composition for forming the antireflection film for the microlens contains: a component (A), an ethylenic unsaturated group-containing fluoropolymer; a component (B), a compound having two or more (meth)acryloyl groups; a component (C), a compound generating active species by irradiation with active energy rays; and a component (D), an organic solvent and further contains substantially no particle.例文帳に追加

下記成分（Ａ）〜（Ｄ）：（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（Ｂ）２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、（Ｃ）活性エネルギー線の照射により活性種を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有し、かつ粒子を実質的に含まない、マイクロレンズ用反射防止膜形成用硬化性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an excellent polyester film having satisfactory optical characteristics for use as a substrate of an antireflection film, excellent also in handleability, lubricity and windability after both side processing, and capable of preventing deterioration due to scratching and peeling of a functional layer even in the absence of a protective film or the like.例文帳に追加

反射防止膜の基材として使用するのに十分な光学特性を有し、かつポリエステルフィルムの両面加工後の取り扱い性、滑り性、巻き取り性にも優れ、保護フィルム等の存在がなくてもキズ、機能層の剥がれの発生等による品質低下を防止できる優れたポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The problems can be solved by stacking a hard coat layer 5 and an antireflection layer 6 (comprising layers 6a and 6b different from each other in refractive index) in this order on the top surface of a transparent plate 2 having a finely rugged face 3 with protrusions 3a formed at a pitch below the wavelength of light on the undersurface thereof.例文帳に追加

透明板２の下面に、光の波長以下のピッチの微細凹凸３ａが形成された凹凸面３を有し、上面には、ハードコート層５、および反射防止層６（屈折率の異なる６ａおよび６ｂからなる）がこの順に積層された構造として、従来の課題を解決することができた。 - 特許庁

The antireflection film has on the surface of a plastic film substrate 1 a cured coating layer 2 of a coating material composition consisting essentially of a silicone resin comprising a partial hydrolyzate and/or a hydrolyzate of a hydrolyzable organosilane and fine hollow silica particles of 5 nm to 2 μm average particle diameter with a hollow formed in an outer shell.例文帳に追加

プラスチックフィルム基材１の表面に、加水分解性オルガノシランの部分加水分解物及び／又は加水分解物からなるシリコーンレジンと、平均粒子径が５ｎｍ〜２μｍで且つ外殻の内部に空洞が形成された中空シリカ微粒子とを必須成分とするコーティング材組成物の硬化被膜層２を備える。 - 特許庁

The film thicknesses from the first layer to the third layer counted from a substrate side of seven layers of antireflection films alternately laminated with SiO_2 layers and TiO_2 layers and the physical film thickness ratios of the SiO_2 layers and the TiO_2 layers are controlled and the optical thicknesses from the fourth layer up to the seventh layer are so controlled as not to be excessively increased.例文帳に追加

ＳｉＯ_2層とＴｉＯ_2層とを交互に積層させてなる７層の反射防止膜で、基板側から数えて１層目から３層目までの膜厚およびＳｉＯ_2層とＴｉＯ_2層の物理膜厚比を制御することと４層目から７層目までの光学膜厚を厚くなりすぎないように制御すること。 - 特許庁

The antireflection film includes at least a hard coat layer and a low refractive index layer, successively layered on a transparent film substrate, wherein the surface of the low refractive index layer has recesses in the form of suction cups having a diameter of 0.5 to 15 μm and a depth of 2 to 50 nm by 10,000 to 100,000/mm^2 in number.例文帳に追加

透明フィルム基材上に、少なくともハードコート層、低屈折率層をこの順に積層している反射防止フィルムにおいて、該低屈折率層表面が直径０．５〜１５μｍかつ深さ２〜５０ｎｍの吸盤状凹みを、１０，０００〜１００，０００個／ｍｍ^２有することを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

To provide a composition for forming a functional thin film capable of forming a functional thin film for imparting desired properties such as electrical conductivity, antistatic properties, antireflection properties or the like on a surface of a resin base material, especially an olefin resin base material with high adhesion and to provide a method for forming a functional thin film using the composition for forming a functional thin film.例文帳に追加

導電性、帯電防止性、反射防止性など所望の性質を付与するための機能性薄膜を樹脂基材、特にオレフィン系樹脂基材表面に高い密着性で形成し得る機能性薄膜形成用組成物、およびそれを用いた機能性薄膜形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the antireflection laminated body, the refractive index of the low refractive index lower layer is lower by 0.03-0.30 than that of the low refractive index upper layer, and the thickness ratio d_(upper layer)/d_(lower layer) of the low refractive index upper layer to the low refractive index lower layer is within a range of 0.2-1.5.例文帳に追加

また、前記低屈折率下層の屈折率が前記低屈折率上層の屈折率よりも０．０３〜０．３０低いことを特徴とし、また前記低屈折率下層と前記低屈折率上層との厚み比が、ｄ_上層／ｄ_下層＝０．２〜１．５の範囲にあることを特徴とする反射防止積層体である。 - 特許庁

The peeling strength is improved by eliminating the antireflection film on the surface of the foundation of the collimator lens 1, using the acrylic ultraviolet setting type adhesive 3 as the adhesive, and roughening a joined surface 13 on the collimator lens side relative to the mount layer of the acrylic ultraviolet setting type adhesive 3 so that joining area can be increased.例文帳に追加

コリメータレンズ１の素地の表面の反射防止膜を省略し、接着剤にアクリル系紫外線硬化型接着剤３を用いると共に、そのアクリル系紫外線硬化型接着剤３のマウント層に対するコリメータレンズ側の接合面１３を粗面化して接合面積を増大させ、剥離強度を改善する。 - 特許庁

To provide an antireflection film for a display which has improved moisture proofness and heat resistance, i.e., is not deteriorated due to metal aggregation even under a high temperature and high humidity environment, has high transparency, antireflectivity, excellent antistaic function and antifouling function.例文帳に追加

本発明は、耐湿熱性を向上した、すなわち高温高湿環境下においても金属の凝集などによる劣化のない、高透明性、反射防止性、さらには帯電防止機能に優れ、防汚機能を有するディスプレイ用反射防止フィルムとその製造方法、およびその反射防止フィルムを前面に備えたディスプレイを提供することを目的とする。 - 特許庁

A method for manufacturing an antireflection structure includes steps of: preparing a substrate 27 having a rough surface 27p with a surface roughness larger than a predetermined wavelength; and forming a plurality of finely rugged portions 29 having an average pitch equal to or less than the predetermined wavelength on the rough surface 27p of the substrate 27 by electron beam lithography using a surface electron source 23.例文帳に追加

本発明の製造方法は、所定の波長よりも大きい表面粗さの粗面２７ｐを有する基板２７を準備する工程と、面電子源２３を用いた電子ビームリソグラフィによって、所定の波長以下の平均ピッチを有する複数の微小凹凸部２９を基板２７の粗面２７ｐに形成する工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing an antireflection film includes the steps of applying a coating composition made by mixing the following (A)-(D) components onto a base material to form a coating film; vaporizing a solvent from the coating film to dry the coating film; curing the coating film to form a cured layer, in this order, and forms a multilayer structure with different refractive indexes from the coating composition.例文帳に追加

下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を混合してなる塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide an optical component provided with an antireflection film which is formed thinly with a few number of layers on the surface of a base body made of synthetic resin, has an effective wavelength region in a wavelength band of red and near infrared laser beams and has an effective wavelength region having a width of ≥100 nm in a wavelength band of blue laser beams.例文帳に追加

合成樹脂製の基体表面に薄く少ない層数で形成されるとともに、赤色、近赤外レーザ光の波長帯域に有効波長領域を有しかつ、青色レーザ光の波長帯域に１００ｎｍ以上の幅の有効波長領域を有する反射防止膜を備えた光学部品を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this way, the antireflection film of the junction area for the division part 8 outside of the light receiving area 12 and the cathode is protected against etching, etc. with the polysilicon film 14, so that crystal defects or impurity density variations are suppressed; and devices with built-in high performance, high quality photo diodes can be formed.例文帳に追加

これにより、受光領域１２外の分割部８とカソードとのジャンクション領域の反射防止膜がポリシリコン膜１４によってエッチング等から保護されるようになるため、この領域での結晶欠陥の発生や不純物濃度の変動等が抑えられ、高性能かつ高品質のフォトダイオード内蔵型半導体装置が形成される。 - 特許庁

The compsn. for forming an antireflection film contains a partial hydrolyzate of at least one compd. selected from the group comprising tungsten, molybdenum, niobium and tantalum compds. having an org. group represented by the formula-OR (where R is an alkyl, aryl, aralkyl or aryloxyalkyl) and a solvent.例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物は、式：−ＯＲ（但し、Ｒはアルキル基、アリール基、アラルキル基またはアリールオキシアルキル基を表す。）で示される有機基を有する、タングステン化合物、モリブデン化合物、ニオブ化合物およびタンタル化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物の部分加水分解物および溶剤を含有してなる。 - 特許庁

The antireflection film material used as a resist intermediate layer film of a multilayer resist film used for lithography contains a polymer compound obtained by the reaction of a polymer compound having a repeating unit expressed by general formula (1) with a chelating agent, an organic solvent and an acid generator.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト中間層膜として用いる反射防止膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物をキレート化剤と反応させて得られる高分子化合物と、有機溶剤と、酸発生剤とを含有することを特徴とする反射防止膜材料。 - 特許庁

The method for producing the antireflection film including two layers different in refractive index includes applying, drying and curing a coating composition containing two or more kinds of inorganic particles, wherein at least one kind of inorganic particle is surface-treated with a fluorine compound and the coating composition contains a metal chelate.例文帳に追加

２種類以上の無機粒子を含む塗料組成物を塗布乾燥硬化する工程により、屈折率の異なる２層を構成する反射防止フィルムの製造方法であって、少なくとも１種類の無機粒子はフッ素化合物による表面処理がされており、前記塗料組成物は金属キレートを含むことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁

A clock input interface circuit 1 includes impedance matching/output voltage regulating resistances R11, R13, output voltage regulating resistances R12, R14, current stabilizing resistances R15, R16, an antireflection terminating resistance R17, DC level blocking capacitances C1, C2, RF bypass capacitances C3, C4, and current source transistors Q1, Q2.例文帳に追加

クロック入力インターフェース回路１は、インピーダンス整合・出力電圧調整抵抗Ｒ１１，Ｒ１３と、出力電圧調整抵抗Ｒ１２，Ｒ１４と、電流安定化抵抗Ｒ１５，Ｒ１６と、反射防止終端抵抗Ｒ１７と、ＤＣレベル阻止容量Ｃ１，Ｃ２と、ＲＦバイパス容量Ｃ３，Ｃ４と、電流源トランジスタＱ１，Ｑ２とから成る。 - 特許庁

To provide a high definition solid-state image sensor in which flare is prevented by lowering reflectivity without the sacrifice of sensitivity, and a method for manufacturing a highly reliable solid-state image sensor with high yield without deteriorating an antireflection film and preventing charging while decreasing the use frequency of an evaporation unit and for mounting the image sensor while preventing cracking.例文帳に追加

高精細な固体撮像素子で感度低下をもたらさず、反射率を低減させフレア防止し、その製造にては、蒸着機の使用頻度を少なく、反射防止膜を変質させず、帯電を防止して収率よく製造でき、その実装にては、クラックの発生を防いだ高信頼性の固体撮像素子、及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

An illumination optical system includes a light source, an image display element, and an illumination optical system for applying light from the light source to the image display element, the illumination optical system includes a reflection type polarizer and a polarization beam splitter, and an antireflection means is provided on a surface of the polarization beam splitter that is neither an incidence surface nor an emission surface.例文帳に追加

光源、画像表示素子、前記光源からの光を前記画像表示素子に照射する照明光学系を有し、前記照明光学系には反射型偏光板、偏光ビームスプリッターを含み、前記偏光ビームスプリッターにおける入射面でも射出面でもない面に反射防止手段を設けたことを特徴とする照明光学系。 - 特許庁

To provide an antireflection multilayer coating comprising mere three or four layers for the production of a laser resistant optical constituent element and to achieve minimum residual reflection and high transparency to UV in the wavelength range of about 150-250 nm at a large incident angle in the range of about 70-80°, particularly in the range of about 72-76°.例文帳に追加

わずか３または４層の反射防止多層コーティングをレーザ抵抗性の光学的構成要素の製造のために提案し、約７０°から約８０°の範囲、特に約７２°と約７６°の間の範囲の大きな入射角度で、約１５０ｎｍから約２５０ｎｍの波長範囲における紫外線に対し、最小の残留反射および高い透明性を可能にする。 - 特許庁

The screen has configuration such that an opening is provided nearby the focus of a lenticular lens on an image observation side surface of a first component, the opening having a light absorption layer with a finite width at a border part between the openings, antireflection processing is applied to an image observation side surface of a second component, and the first component and second component are coupled to each other.例文帳に追加

スクリーンとして、第１の構成要素の画像観視側面のレンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第２の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第１の構成要素と前記第２の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁

Since the SiO films 14, 16 formed thus do not substantially contain nitrogen; the SiO films 14, 16 suppress transmissions of ammonia gas, nitrogen gas or the like, when an antireflection film 18 of a silicon nitride film or the like is formed, and the SiO films 14, 16 suppress the occlusion of an alkali originating from nitrogen to the first interlayer insulating film 13 and the second interlayer insulating film 15.例文帳に追加

このようにして形成されたＳｉＯ膜１４，１６は、実質的に窒素を含まないため、シリコン窒化膜等の反射防止膜１８を形成する際にアンモニアガスや窒素ガス等の透過を抑制し、第１層間絶縁層１３および第２層間絶縁層１５に窒素に由来する塩基性物質の吸蔵を抑制する。 - 特許庁

The method for manufacturing the antireflection transfer film comprises the steps of: forming a low refractive index layer and a high refractive index layer successively on a base material film directly or via a releasing layer to form a layered sheet; and of heating/stretching the layered sheet to control the thickness of the low refractive index layer at the least and that of the high refractive index layer.例文帳に追加

基材フィルム上に、直接又は離型層を介して、低屈折率層及び高屈折率層を順次積層して積層シートを形成し、これを加熱延伸する工程を備えた反射防止転写膜の製造方法であって、加熱延伸するによって、少なくとも低屈折率層及び高屈折率層の各層の厚みを制御することとした。 - 特許庁

For example, an antireflection film consisting of a TiN first light-absorbing film having 10 nm thickness, an Al2O3 dielectric film having 82 nm thickness formed on the first light-absorbing film, and a TiN second light-absorbing film having 12 nm thickness formed on the dielectric film is successively formed on a panel glass of a cathode ray tube.例文帳に追加

たとえば、ブラウン管用パネルガラス上に順次形成された、厚さ１０ｎｍのＴｉＮの第１の光吸収膜、この第１の光吸収膜上に形成された厚さ８２ｎｍのＡｌ_2 Ｏ_3 の誘電体膜、この誘電体膜上に形成された厚さ１２ｎｍのＴｉＮの第２の光吸収膜からなる反射防止膜を形成する。 - 特許庁

To provide an optical filter and a method of manufacturing the optical filter by which air bubbles are formed because of unevenness due to a metal pattern and the sectional shape of the pattern and then remaining air bubbles make transparency and antireflection effect insufficient, even when laminating is carried out with an adhesive layer, serving as a flattening layer, of an antireflective film with the adhesive layer.例文帳に追加

平坦化層を兼ねる接着剤層付き反射防止フィルムの接着剤層でラミネートする場合でも、金属パターンによる凹凸及びパターンの断面形状が原因で気泡が発生し、残留気泡により透視性や反射防止効果が不十分なものとなるのを防止することのできる光学フィルタとその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the laser guide 10 for transmitting laser light from a laser generation source, guide constituting members 11a 14 are provided at the optical path of laser light, and the light incident surface and light emitting surface of the guide constituting members 11a, 14 are coated with antireflection films 15, 16 each composed of a mutual stacked body of a high refractive index layer and a low refractive index layer.例文帳に追加

レーザー発生源からのレーザー光を伝送するための加工機用レーザーガイド１０は、レーザー光の光路にガイド構成部材１１ａ，１４が設けられ、そのガイド構成部材１１ａ，１４の光入射面及び光出射面が高屈折率層と低屈折率層との交互積層体で構成された反射防止膜１５，１６で被覆されている。 - 特許庁

The screen is constituted by providing an aperture part near the focus of a lenticular lens on the image viewing side surface of a first component element, providing a light absorption layer having finite width at a boundary part between the aperture parts, and performing antireflection treatment to the image viewing side surface of a second component element, and then combining the first component element and the second component element.例文帳に追加

スクリーンとして、第１の構成要素の画像観視側面レンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第２の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第１の構成要素と前記第２の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁

In the antireflection structure which is constituted by arranging an infinite number of conical minute projections having bottom surface size of 50 to 380 nm at a pitch of 50 to 380 nm, the minute projection is made of a particle of 10 to 50 nm sphere conversion diameter and a resin and addition amount of the particle lies within a range between 20 weight % and 60 weight %.例文帳に追加

錐体状をなし、底面の大きさが５０〜３８０ｎｍの無数の微細突起が５０〜３８０ｎｍのピッチで配置されて成る反射防止構造において、上記微細突起を球換算直径で１０〜５０ｎｍの粒子と樹脂から成るものとし、当該粒子の添加量を２０〜６０重量％の範囲内とする。 - 特許庁

The silicon nitride film as the first layer is made to contain the Si-H group more to make it harder to desorb H_2 from the silicon nitride film and the CAP effect that the film density of the silicon nitride film as the second layer is increased to prevent H_2 from being discharged to the outside is increased to enhance H_2 passivation of the antireflection film of the silicon nitride films.例文帳に追加

第１の層の窒化シリコン膜のＳｉ−Ｈ基の含有の程度を高めることによってＨ_２が窒化シリコン膜から脱離し難くし、また、第２の層の窒化シリコン膜の膜密度を高くすることによってＨ_２の外部への放出を防ぐＣＡＰ効果を高めることによって、窒化シリコン膜の反射防止膜のＨ_２パッシベーションを高める。 - 特許庁

The antireflection film is constituted by layering an easy adhesion layer 2, a hard coat layer 3, a transparent conductive layer 4, a light absorbing layer 5 and the low refractive index layer 6 in this order on transparent base material film 1 or by layering the hard coat layer, a conductive light absorbing layer and the low refractive index layer in this order on the transparent base material film.例文帳に追加

透明基材フィルム１上に、易接着層２、ハードコート層３、透明導電層４、光吸収層５及び低屈折率層６をこの順で積層してなる反射防止フィルム、或いは、透明基材フィルム上に、ハードコート層、導電性光吸収層及び低屈折率層をこの順で積層してなる反射防止フィルム。 - 特許庁

The antireflection film having the low refractive index layer laminated at least on one side of a transparent base material is formed using a low refractive index coating agent containing an organic modified poly siloxane of a leveling agent and at least a low refractive index silica particle having void inside the particles in an ionizing radiation curing type material.例文帳に追加

透明基材の少なくとも片面に、低屈折率層を積層した反射防止フィルムにおいて、電離放射線硬化型材料に、レベリング剤である有機変性ポリシロキサンと、少なくとも粒子の内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を含有してなる低屈折率コーティング剤を用いて形成されることを特徴とする反射防止フィルムである。 - 特許庁

To provide an antireflection film which is highly packed with hollow particulates within a low-refractive index layer, assures a low refractive index by the voids in the hollow particulates to make prevention of reflection possible and can improve wear resistance by packing a second binder into the gaps among the hollow particulates to intensify the bond between the hollow particulates.例文帳に追加

中空微粒子が低屈折率層内において高充填されており、中空微粒子の内部の空洞によって低屈折率を確保して反射防止を可能とし、また、中空微粒子間の空隙に第２バインダーを充填することによって中空微粒子間の結合を補強して耐摩耗性を向上することができる反射防止膜を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste capable of forming a light receiving surface electrode, which paste can ensure that a semiconductor substrate and the light receiving surface electrode are in ohmic contact with each other at a sufficient bonding strength through a firing of an antireflection film, when sintering the light receiving surface electrode at low temperature such as 500 to 650°C.例文帳に追加

本発明の目的は、受光面電極を５００〜６５０℃で低温焼成する場合において、反射防止膜をファイアスルーして半導体基板と受光面電極が互いにオーミック接触し、かつ接着強度を十分に確保することが可能な受光面電極を形成し得る導電性ペーストを提供することにある。 - 特許庁

The laminated polyester film for transferring an antireflection layer has the applied layer containing the release agent at least on one face of the polyester film, wherein the precipitation amount of oligomer (cyclic trimer) to the surface of the film is 3.0 mg/m^2 when heat treatment is performed for 10 minutes at 180°C on one surface having a coating layer by.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に離型剤を含有する塗布層を有し、当該塗布層を有するいずれかの表面において、１８０℃で１０分間熱処理したときのフィルム表面へのオリゴマー（環状三量体）析出量が３．０ｍｇ／ｍ^２以下であることを特徴とする反射防止層転写用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a composition containing inorganic oxide fine particles containing inorganic oxide fine particles and a polymerizable monomer exhibiting (I) antireflection property, (II) excellent adhesiveness to a substrate, (III) a function as a hard coat layer and (IV) excellent total luminous transmittance, particularly on a glass surface, as well as sufficiently achieving the above functions in a single layer.例文帳に追加

特にガラス表面において、Ｉ．反射防止能を有し、ＩＩ．基材への密着性に優れ、ＩＩＩ．ハードコート層としての機能を有し、ＩＶ．全光線透過率に優れ、しかも単層でこれらの機能を満足させ、無機酸化物微粒子と重合性モノマーとを含有する無機酸化物微粒子含有組成物を提供することを目的としている。 - 特許庁

The antidazzle sheet 12 is produced by forming the antidazzle layer 16 on a transparent layer sheet consisting of at least one layer as the structural member of the transparent base sheet 15, forming the antireflection layer 17 on a transparent sheet consisting of at least one layer as the structural member of the transparent base sheet 15, and then laminating the both sheets.例文帳に追加

該防眩シート１２は、透明基材シート１５の構成部材である少なくとも一層の透明シートに防眩層１６を形成しておき、他方において、透明基材シート１５の構成部材である少なくとも一層の透明シートに反射防止層１７を形成しておき、両者を積層することにより製造することができる。 - 特許庁

A method for manufacturing an antireflection film comprises steps of: applying a coating composition on a substrate to form a coated film; volatilizing a solvent from the coated film and drying it; and curing the coated film to form a cured layer, in this order, and thereby forming a multilayer structure composed of layers, each having different refractive indexes, from the coating composition.例文帳に追加

下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有する塗布組成物を基材上に塗布し塗膜を形成する工程、該塗膜から溶剤を揮発させ乾燥させる工程、該塗膜を硬化し硬化層を形成する工程をこの順に有し、前記塗布組成物から屈折率の異なる多層構造を形成させる、反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a cellulose film less in variation of in-plane retardation (Re) and retardation in the thickness direction (Rth) by humidity variation, having a proper glass transition temperature (Tg) and capable of widely controlling the values of Re and Rth; and to provide a retardation film, optical compensation film, antireflection film, polarizing plate and image display device, using the cellulose film.例文帳に追加

湿度変動による面内のレターデーション（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の変化が少なく、適度なガラス転位温度（Ｔｇ）をもち、Ｒｅ、Ｒｔｈの値を幅広く制御できるセルロース体フィルム、それを用いた位相差フィルム、光学補償フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置の提供。 - 特許庁

To find a surface shape required for a structure having an antireflection performance of light and an improved performance of light transmissibility and the like, and in particular, to provide a structure having good mechanical strength such as surface scratch resistance, and to provide a composition which can form the structure having such a special surface shape.例文帳に追加

光の反射防止性能、光の透過改良性能等を有する構造体に要求される表面形状を見出し、特に表面耐傷性等の機械的強度を付与した構造体を提供することであり、また、かかる特定の表面形状を有する構造体を形成させることができる組成物を提供すること。 - 特許庁

The metallic wiring layer 30 has a lower conductive layer 30A, a first layer 34 composed of aluminum or an aluminum alloy, a second layer 36 formed on the first layer 34 and composed of an intermetallic compound (aluminum nitride), and a third layer 38, formed on the second layer 36 and composed of a metallic nitride (titanium nitride) which serves as an antireflection coating.例文帳に追加

金属配線層３０は、下部導電層３０Ａ、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる第１の層３４、第１の層の上に形成された金属間化合物（窒化アルミニウム）からなる第２の層３６、および第２の層の上に形成された、反射防止膜としての金属の窒化物（窒化チタン）からなる第３の層３８を有する。 - 特許庁

The screen fabric for printing comprises a fabric-like raw woven cloth woven by using the fine monofilaments of synthetic fibers as warps 16 and wefts 17 and the warps 16 and the wafts 17 covered entirely with a conductive ultraviolet antireflection film made of an oxide, a nitride or carbide of a metal or preferably physically vapor deposited films 16a, 17a.例文帳に追加

合成繊維の細いモノフィラメント糸を経糸１６および緯糸１７に用いて製織された紗状の原反織物の経糸１６および緯糸１７が金属の酸化物、窒化物もしくは炭化物からなる導電性の紫外線反射防止膜、好ましくは物理蒸着膜１６ａ、１７ａによって全面にわたって被覆される。 - 特許庁

In the wavelength multiplexed light coupler, a second optical filter 43 is constituted of: a dielectric multilayer film 43A formed in at least an outgoing light passage region 52 of a part besides an incident light passage region 51, on a first surface 31a of a first lens; and a laminated film with an antireflection film 50A formed on the multilayer film.例文帳に追加

波長多重光カプラでは、第２の光学フィルタ４３が、第１のレンズの第１面３１ａ上の、入射光通過領域５１を除いた部分で少なくとも出射光通過領域５２に形成された誘電体多層膜４３Ａと、この多層膜の上に形成された反射防止膜５０Ａとの積層膜で構成される。 - 特許庁

In the light emitting diode element comprising the light emitting diode chip and the cover layer formed on the surface, the cover layer is provided with an antireflection function to light emitted from the light emitting diode chip, the thickness is ≤50 μm and the absolute value of the temperature coefficient of a refractive index is ≤15×10^-6/°C.例文帳に追加

本発明の発光ダイオード素子は、発光ダイオードチップと、その表面に形成された被覆層とを備えた発光ダイオード素子において、被覆層は、発光ダイオードチップから出射された光に対する反射防止機能を備え、厚さが５０μｍ以下であり、かつ、屈折率の温度係数の絶対値が１５×１０^-6／℃以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The antireflection film is characterized by laminating a hard coat layer containing metallic oxide particulates and having a higher refractive index than a cellulose ester film on the base material of the cellulose ester film whose content of phosphate based plasticizer is <1 mass%, and laminating a low refractive index layer having a lower refractive index than the hard coat layer on the hard coat layer.例文帳に追加

リン酸エステル系可塑剤の含有量が１質量％未満であるセルロースエステルフィルム基材上に、金属酸化物微粒子を含有し、かつ該セルロースエステルフィルムよりも屈折率の高いハードコート層、また該ハードコート層上にハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を積層したことを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁