「antireflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

When an antireflection layer and a near IR light blocking layer are formed on each of both surfaces of a transparent base material to form a laminate, the near IR light blocking layer is formed by using a near IR light absorbing dyestuff, a binder resin and also minute solid particles which have an average primary grain size of ≥1 μm and are smaller than thickness of the near IR light blocking layer.例文帳に追加

透明基材の両面にそれぞれに反射防止層と、近赤外線遮蔽層を形成するに当り、近赤外線遮蔽層を、近赤外線吸収色素及びバインダー樹脂に、平均１次粒子径が１μｍ以上であって、前記近赤外線遮蔽層の厚さより小さい微小固体粒子を併用して積層体を形成する。 - 特許庁

The optical filter includes an antireflection film and a conductive layer and further has a shock relief layer, wherein the shock relief layer has a dynamic storage modulus and a dynamic loss modulus at a frequency of 1 Hz at -10°C in a range of 1×10^3-1×10^6 Pa and in a range of 1×10^3-3×10^5 Pa, respectively.例文帳に追加

反射防止膜および導電層を含む光学フィルタであって、さらに衝撃緩和層を有し、且つ−１０℃での周波数１Ｈｚにおける衝撃緩和層の動的貯蔵弾性率が１×１０^3〜１×１０^6Ｐａの範囲にあり、且つ動的損失弾性率が１×１０^3〜３×１０^5Ｐａの範囲にあることを特徴とする光学フィルタ。 - 特許庁

The antireflection film is obtained, by disposing on a transparent base material, one or more layers that are different from the transparent base material in the refractive index, wherein the transparent base material has a refractive index of ≤1.54 and the layers include resin and an antistatic filler, comprising conductive fine particles having proton conductivity dispersed in the resin.例文帳に追加

透明基材上に、少なくとも１層以上の屈折率が異なる層が設けられてなる反射防止フィルムであって、該透明基材の屈折率が、１．５４以下であり、該層が、樹脂及び該樹脂中に分散されたプロトン伝導性を有する導電性微粒子からなる帯電防止用フィラーを含む層である反射防止フィルム。 - 特許庁

The antireflection laminate includes a transparent base material and a low-refractive index layer formed on one surface of the transparent base material and containing zeolite, wherein the particle diameter of the zeolite is 5 to 200 nm, crystallinity of zeolite is ≥0.64, the content of the zeolite is 5 to 95%, and the refractive index of the low refractive index layer is 1.20 to 1.40.例文帳に追加

透明基材と、透明基材の片面に形成されたゼオライトを含む低屈折率層を備え、ゼオライトは粒径５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、結晶化度が０．６４以上であり、ゼオライトの含有量が５％以上９５％以下であり、低屈折率層の屈折率が１．２０以上１．４０以下であることを特徴とする反射防止積層体。 - 特許庁

This manufacturing method of an arc tube includes: an arc tube preparation process of preparing an arc tube 20a with a bulb part 30 formed therein; a bulb part surface polishing process of polishing a surface of the bulb part 30; and an optical thin film formation process of forming an antireflection film 70 as an optical thin film on the surface of the tube part 30, in that order.例文帳に追加

管球部３０が形成された発光管２０ａを準備する発光管準備工程と、管球部３０の表面を磨く管球部表面磨き工程と、管球部３０の表面に光学薄膜としての反射防止膜７０を形成する光学薄膜形成工程とをこの順序で含む発光管の製造方法。 - 特許庁

When a via hole and wiring channel for burying Cu wiring is formed on an interlayer insulating film by a dry etching with a photo resist film as a mask, an antireflection film 26 on the interlayer insulating film which is made up of an SiOC film 25 is composed of an SiO film 26a, an SiON film 26b and an SiO film 26c, and the halation of a photo resist film 27 is inhibited.例文帳に追加

フォトレジスト膜をマスクにしたドライエッチングで層間絶縁膜にＣｕ配線埋め込み用のビアホールおよび配線溝を形成する際、ＳｉＯＣ膜２５からなる層間絶縁膜上の反射防止膜２６をＳｉＯ膜２６ａ、ＳｉＯＮ膜２６ｂおよびＳｉＯ膜２６ｃの３層膜で構成し、フォトレジスト膜２７のハレーションを抑制する。 - 特許庁

To provide an antireflection film very low in refractive index and having a low refractive index layer the surface of which is hardly flawed by scuff or the like, which is never peeled, and is also prevented from sticking dirt such as finger prints, skin fat, sweat and cosmetics, and is made easily to wipe off the dirt even if it adheres.例文帳に追加

屈折率が非常に低く、擦過などによる低屈折率層の表面に傷が付きにくく、低屈折率層の剥離がなく、また、低屈折率層の表面に、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着することを防止し、付着しても容易に拭き取れるようにする低屈折率層を有する反射防止フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

The organic solvent dispersion type niobium oxide sol obtained in the preparation method has excellent liquid stability in a high concentration and excellent compatibility with other organic solvents and then, is remarkably useful as a raw material of a catalyst, an opto-electronic material, a semiconductor material, a dielectric material, a coating material, a surface protective agent, an antireflection material, a refractive index adjustor or the like.例文帳に追加

このような製造方法によって得られる有機溶媒分散型酸化ニオブゾルは、高濃度で液安定性に優れ、他の有機溶媒との相溶性に優れているため、触媒、オプトエレクトロニクス材料、半導体材料、誘電体材料、塗料、表面保護剤、反射防止材、屈折率調整剤等の原料として極めて有用である。 - 特許庁

To provide an electrically conductive antireflection film which diminishes reflected light, enhances contrast, imparts superior antistatic property and electromagnetic wave shielding property, hardly undergoes a change of its reflectance and resistance by heat treatment in a sealing step and in an evacuation step and prevents the appearance of a ghost even when the film is formed on a glass substrate having high light transmittance.例文帳に追加

反射光の低減とコントラストの向上が図れ、優れた帯電防止性と電磁波遮蔽性を付与し、シール工程や排気工程における熱処理の前後で反射率や抵抗値が変動し難く、しかも光透過率の高いガラス基体に被覆形成しても、映像が二重に見えることがない導電性反射防止膜を提供する。 - 特許庁

In the antireflection film having a base material, a bar code layer arranged on the surface of the base material and the laminated body consisting of laminated thin layers formed on the surface of the bar code layer, the laminated body is formed by laminating a thin layer formed by a plasma CVD method and a thin layer formed by a sputtering method or a deposition method.例文帳に追加

基材と、基材上に位置するハードコート層と、ハードコート層上に位置し、複数の薄層が積層されてなる積層体と、を有する反射防止フィルムにおいて、当該積層体を、プラズマＣＶＤ法により形成される薄層と、スパッタリング法または蒸着法により形成される薄層とを積層することにより形成する。 - 特許庁

This hardcoating film and antireflection film are laminated with the hardcoating layer having an uneven structure in an interface between a polyester film and the hardcoating layer, on at least one face of the polyester film, a particle is contained in the hardcoating layer, and an average particle size of the particle is 50% or more to 150% or less of average thickness of the hardcoating layer.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ポリエステルフィルムとハードコート層の界面に凹凸構造を有するハードコート層が積層され、該ハードコート層中に粒子を含有し、該粒子の平均粒子径が該ハードコート層の平均厚みの５０％以上、１５０％以下であることを特徴とするハードコートフィルムおよび反射防止フィルム。 - 特許庁

The lens member 6 characterized in that the annular end-sealing material 6b is laminated on the surface on the large circle of the lens body 6 of an approximately spherical shape and that the antireflection film 6c is laminated on the surface of the lens body 6a on both sides of the end-sealing material 6b and the package for housing the optical semiconductor element using the same.例文帳に追加

略球状のレンズ本体６ａの大円上の表面に環状の封止材６ｂが被着されているとともに、この封止材６ｂの両側のレンズ本体６ａの表面に反射防止膜６ｃが被着されていることを特徴とするレンズ部材６およびこれを用いた光半導体素子収納用パッケージ。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing occurrence of standing waves, having high sensitivity, having a large depth of focus (DOF) and having excellent in-plane uniformity (CDU) of a linewidth when a highly reflective substrate is directly used without using an antireflection film, and a resist film using the composition, and a pattern formation method.例文帳に追加

反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an antireflection laminate which has good mechanical properties sufficient to endure a daily use, an optically functional laminate using the same and a display unit using the same by laminating a transparent ceramic thin layer of high refractive index and a transparent ceramic thin layer of low refractive index alternately together on at least one side of a substrate to form a laminated anti-reflective film.例文帳に追加

基材上の少なくとも片側に透明な高屈折率セラミック薄膜層と低屈折率セラミック薄膜層を交互に積層させた反射防止膜において、日常の使用に耐えられる十分な機械強度特性を有した反射防止積層体、それを用いた光学機能性積層体およびそれを用いた表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polarizing plate having a polarizing film produced by a coating method with high shearing stress and featuring that the polarizing film is hardly scratched but easily processed and that the film gives high yield during manufacturing and excellent productivity, to provide a method for manufacturing the polarizing plate, and to provide an optical element having an antireflection layer and an antistatic layer by using the polarizing plate having excellent processing property.例文帳に追加

塗布方式で高いずり応力により偏光膜を製造し、その偏光膜が傷がつきにくく、加工し易く、製造中の収率が高く、生産性に優れた偏光板及びその製造方法、更に該加工性の優れた偏光板を使用して反射防止層や帯電防止層を有する光学要素を提供する。 - 特許庁

The screen is constituted by providing an aperture part near the focus of a lenticular lens on the picture viewing side surface of a 1st component element, providing a light absorbing layer having finite width at the mutual boundary part of the aperture parts, and performing antireflection processing to the picture viewing side surface of a 2nd component element, and then coupling the 1st component element and the 2nd component element.例文帳に追加

スクリーンとして、第１の構成要素の画像観視側面レンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第２の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第１の構成要素と前記第２の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁

The superconductive single photon detecting element 100 includes a magnesium oxide substrate 10, a niobium nitride wiring 13 formed on a front surface of the substrate 10, a cavity layer 12 formed on the niobium nitride wiring 13, a reflection layer 11 formed on the cavity layer 12, and an antireflection layer 14 formed on a rear surface of the substrate 10.例文帳に追加

超伝導単一光子検出素子１００は、酸化マグネシウムからなる基板１０と、基板１０の表面に形成された窒化ニオブ配線１３と、窒化ニオブ配線１３上に形成されたキャビティ層１２と、キャビティ層１２上に形成された反射層１１と、基板１０の裏面に形成された反射防止層１４と、を備える。 - 特許庁

In the blanks or the black matrix comprising a light shielding film or a light shielding film and antireflection film which is directly or indirectly attached and formed on the surface of a transparent substrate, the light shielding film has a metal component of the light shielding film consisting essentially of Ni, Mo and Ti and is constituted as a thin film having a Ti content of 10 to 25 atom%.例文帳に追加

透明基板の表面上に直接若しくは間接に付着させて形成した遮光膜又は遮光膜と反射防止膜から成るブランクス又はブラックマトリックスにおいて、遮光膜は、遮光膜の金属成分をＮｉとＭｏとＴｉを主成分とし、Ｔｉの含有量が１０〜２５原子％である薄膜でを構成される。 - 特許庁

In the antireflection layer having at least one low refractive index layer and at least one high refractive index layer, an absorbance ratio (A/B) of the absorbance A of -CH_2- antisymmetric stretching vibration to the absorbance B of -CH_3 antisymmetric stretching vibration is 0.5-2.例文帳に追加

少なくとも１つの低屈折率層と少なくとも１つの高屈折率層を有する反射防止層において、すくなくとも１層の赤外吸収スペクトルの、−ＣＨ_３逆対称伸縮振動の吸光度Ａに対する−ＣＨ_２−逆対称伸縮振動の吸光度Ｂの吸光度比（Ａ／Ｂ）が０．５〜２であることを特徴とする反射防止層。 - 特許庁

The antireflection layer 4 includes a layer 41 of an intermediate refractive index that serves as a base layer formed by a first composition, containing polyester resin or polyurethane resin and metal oxide particles, a layer 42 of a high refractive index, and a layer 43 of a low refractive index, formed of a second composition including organic oxide particles and porous silica particles.例文帳に追加

反射防止層４は、ポリエステル樹脂またはポリウレタン樹脂と、金属酸化物微粒子とを含む第１の組成物により形成されたベース層となる中屈折率の層４１と、高屈折率の層４２と、有機ケイ素化合物と、多孔質シリカ微粒子とを含む第２の組成物により形成された低屈折率の層４３とを含む。 - 特許庁

A ratio (d_H/d_L) of thickness d_H of the high refractive index layer 3 to thickness d_L of the low refractive index layer 2 in the antireflection layer 9 is within a range of 1.0 to 1.9.例文帳に追加

基材フィルムの片面に、ハードコート層、さらにその上に高屈折率層と低屈折率層の２層からなる反射防止層がこの順に形成された反射防止フィルムであって、該反射防止層の高屈折率層の厚みｄ_Ｈと低屈折率層の厚みｄ_Ｌの比ｄ_Ｈ／ｄ_Ｌが１．０〜１．９の範囲にあることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

In the antireflection film, formed by laminating one or more layers of metal oxide thin films on a base material film, at least one metal oxide thin-film layer formed by bringing a gaseous component, composed of a metal compound having hydrolyzability into reaction with the moisture vapor generated from the base material film is used.例文帳に追加

基材フィルム上に１層以上の金属酸化物薄膜が積層されてなる反射防止フィルムにおいて、金属酸化物薄膜層のうち少なくとも１層に、加水分解性を有する金属化合物からなるガス成分を、基材フィルムから発生する水蒸気と反応させることにより形成された金属酸化物薄膜層を用いる。 - 特許庁

The optical parts have a substrate made of an acrylic resin material, a thick silicon oxide film formed on the surface of the substrate, and a multilayer antireflection film formed on the silicon oxide film by alternately depositing at least each one layer of a low refractive index material layer and a high refractive index material layer.例文帳に追加

アクリル系樹脂材料製の基板と、この基板の表面に形成される膜厚の厚い酸化硅素膜と、この酸化防止膜の上に形成される、低屈折率材料からなる層および高屈折率材料からなる層を、交互に少なくとも一層ずつ形成してなる多層反射防止膜とを有することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material which is for a multilayer resist process, especially for a double layer resist process or a triple layer resist process, which functions as an excellent antireflection film especially against exposure with short wavelength light, that is, having high transparency and most suitable n and k values, and further is excellent in etching resistance in substrate working.例文帳に追加

多層レジストプロセス用、特には二層レジストプロセス用又は三層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing an antireflection structure includes steps of: preparing a substrate 27 having a rough surface 27p with a surface roughness larger than a predetermined wavelength; and forming a plurality of finely rugged portions 29 having an average pitch equal to or less than the predetermined wavelength on the rough surface 27p of the substrate 27 by lithography using an electron beam or a proton beam.例文帳に追加

本発明の製造方法は、所定の波長よりも大きい表面粗さの粗面２７ｐを有する基板２７を準備する工程と、電子ビーム又は陽子ビームを用いたリソグラフィによって、所定の波長以下の平均ピッチを有する複数の微小凹凸部２９を基板２７の粗面２７ｐに形成する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a coating liquid composition used for manufacturing optical films such as a coating-type antireflection film having a low reflection, excellent soil resistance and scratch resistance and suitable for mass production, an optical film using the coating liquid composition and a polarizing plate and an image display device using the optical film.例文帳に追加

反射率が低く、防汚性、耐擦傷性に優れ、且つ大量生産に適した塗布型の反射防止フィルムなどの光学フィルムを製造するための塗布液組成物を提供すること、このような塗布液組成物を用いて優れた光学フィルムを提供すること、並びにこのような光学フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a dye-sensitized photoelectric conversion element and its manufacturing method wherein an antireflection film endures heating in calcination necessary for manufacturing of a dye-sensitized semiconductor layer and it is excellent in its productivity and cost performance and a low reflection ratio is realized at a wide wavelength range of visible light and high photoelectric conversion efficiency is obtained.例文帳に追加

反射防止膜が色素増感半導体層の作製に必要な焼成時の加熱に耐えることができ、しかも生産性・コストパフォーマンスに優れており、また、可視光の広範囲の波長域にわたって低い反射率を実現することができ、高い光電変換効率を得ることができる色素増感光電変換素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

There is provided a composition for forming a low refractive index layer which comprises hollow silica particles, a fluoro(meth)acrylate compound obtained by reacting a compound having 3 or more isocyanate groups in the molecule and a specific fluoroalcohol and 2-hydroxyethyl(meth)acrylate, a (meth)acrylate monomer, a photoinitiator and a solvent, and a an antireflection film, a polarizing plate and a display device using the composition.例文帳に追加

中空シリカ粒子、分子中に３個以上のイソシアネート基を有する化合物と、特定のフルオロアルコール及び２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを反応させて得られるフルオロ（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリレートモノマー、光開始剤及び溶剤を含んでなる低屈折率層形成用組成物、及びこれを用いた反射防止フィルム、偏光板並びに表示装置。 - 特許庁

The curing composition for an antireflection film of a microlens contains: (A) 100 parts by weight of titanium oxide particles coated with an oxide of one or more metal elements selected from a group comprising silicon, aluminum, titanium, zirconium, tin, antimony and zinc; (B) 1 to 300 parts by weight of a curing compound; and (C) 0.1 to 60 parts by weight of a curing catalyst.例文帳に追加

（Ａ）ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、スズ、アンチモン及び亜鉛からなる群から選択される一以上の金属元素の酸化物で被覆された酸化チタン粒子１００重量部と、 （Ｂ）硬化性化合物１〜３００重量部と、 （Ｃ）硬化触媒０．１〜６０重量部とを含有するマイクロレンズ反射防止膜用硬化性組成物。 - 特許庁

The plastic lens comprises a plastic lens base material, a hard coat layer formed on the plastic lens base material, and an antireflection thin film comprising an organic thin film formed on the hard coat layer, wherein the hard coat layer is formed from a coating composition containing titanium oxide having a rutile crystalline structure as inorganic oxide fine particles.例文帳に追加

プラスチックレンズ基材と、プラスチックレンズ基材上に形成されたハードコート層と、ハードコート層の上に形成された有機薄膜で構成される反射防止膜とを有するプラスチックレンズにおいて、無機酸化物微粒子としてルチル型の結晶構造を有する酸化チタンを含有するコ−ティング用組成物からハードコート層を形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing coating liquid for manufacturing the antireflection film including: a binder layer which has voids therein and essentially comprises oxide; and oxide fine particles of which one part of particle size is embedded in the binder layer has two or more processes of hydrolyzing a hydrolyzable metal compound which becomes raw material of the binder layer.例文帳に追加

内部に空隙を持ち、酸化物を主成分とするバインダー層と、粒径の一部がバインダー層に埋没している酸化物微粒子とを含む反射防止膜を製造するためのコーティング液の製造方法において、バインダー層の原料となる加水分解可能な金属化合物を、加水分解させる工程が、２つ以上あることを特徴とするコーティング液の製造方法である。 - 特許庁

The antireflection film comprises hard coat layers having a high refractive index and low refractive index layers layered on a transparent base film, wherein the high refractive index layer consists of a gel film having a refractive index of 1.65 or more formed from a sol liquid containing an oxide sol of titanium or tantalum and a reactive organosilicon compound such as methyltrimethoxysilane in a liquid medium.例文帳に追加

透明基材フイルム上に、高屈折率を有するハードコート層及び低屈折率層を積層してなる反射防止フイルムにおいて、上記高屈折率層が、液媒体中にチタン又はタンタルの酸化物ゾルと、メチルトリメトキシシラン等の反応性有機珪素化合物とを含むゾル液から形成された屈折率１．６５以上のゲル膜からなることを特徴とする反射防止フイルム。 - 特許庁

In the filmy filter for preventing glass breakage, a glass breakage preventing layer 11 is constituted of an acrylic adhesive material which is consisting essentially of an acrylic polymer of a monomer consisting essentially of (meth)acrylic acid alkyl ester and is impregnated with polyoxyalkylene glycol and then an antireflection film 12 is laminated on one surface side 11a of the glass breakage preventing layer 11.例文帳に追加

アクリル系重合体として（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主成分とする単量体の重合体を主材成分とし、これにポリオキシアルキレングリコールを含ませたアクリル系粘着性材料によりガラス割れ防止層１１を構成し、このガラス割れ防止層１１の一面側１１ａに反射防止フィルム１２を積層したことを特徴とするガラス割れ防止用フィルム状フィルタ。 - 特許庁

When a surface portion of the antireflection film comes into contact with water for 15 minutes and then is wiped away, the surface portion has a chromaticity change ΔE of 0.45 or smaller, the chromaticity change ΔE being a chromaticity change in CIE1976L*a*b* color space, measured under a standard light source D65.例文帳に追加

微細空孔を含む層を少なくとも１層有する反射防止フィルムであって、該反射防止フィルムの表面を水に１５分間接触させた後に拭き取った部分の、Ｄ６５標準光源下で測定したＣＩＥ１９７６Ｌ^*ａ^*ｂ^*色空間における色度変化△Ｅが０．４５以下であることを特徴とする反射防止フィルム、及びそれを用いた偏光板並びに画像表示装置。 - 特許庁

An antireflection layer 138 as a third layer for at least some wavelengths of emitted light is sandwiched between a barrier layer 137 as a first layer for preventing intrusion of water or oxygen into the organic EL element 150 and an organic intermediate layer 139 as a second layer for relaxing stress of the barrier layer.例文帳に追加

発光素子として例えば有機ＥＬ素子１５０を用い、有機ＥＬ素子１５０への水分や酸素の浸入を防ぐ第１層としてのバリア層１３７と、バリア層の応力を緩和するための第２層としての有機中間層１３９間との間に位置し、射出光の少なくとも一部の波長に対して、第３の層としての反射防止層１３８を挟んだ。 - 特許庁

The antireflection film is obtained by disposing a layer (first layer) having a refractive index of ≥1.6 on one face of a transparent substrate and a layer (second layer) having a refractive index of ≤1.55 on the first layer.例文帳に追加

透明基材の片面に、屈折率１．６以上の層（第１層）を積層し、さらに第１層の透明基材側とは異なる面に屈折率１．５５以下の層（第２層）を積層したフィルムであって、可視光領域内で選択される任意の基準波長（λ）に対して、第１層の屈折率（ｎＨ）と厚み（ｄＨ）との積が、以下の式（１）を満足することを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

To provide a diamondlike hard carbon film which has excellent water repellency and extremely satisfactory adhesion with an oxide film, a target with which the diamondlike hard carbon film can be produced, a diamondlike hard carbon film which has excellent water repellency and extremely satisfactory adhesion with a metal oxide film, and an antireflection film having the diamondlike hard carbon film as a protective film.例文帳に追加

撥水性に優れ、酸化物膜との密着性が極めて良好なダイヤモンド状硬質炭素膜、該ダイヤモンド状硬質炭素膜を製造することが可能なターゲット、撥水性に優れ、金属酸化物膜との密着性が極めて良好なダイヤモンド状硬質炭素膜、および該ダイヤモンド状硬質炭素膜を保護膜として有する反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁

A phase shifter film is composed of a film consisting of four or more layers in which high refractive index layers with a function to mainly adjust the transmittance and low refractive index layers with a function to mainly adjust a phase shift amount are stacked alternately, and at least one layer of low refractive index layers is designed so as to have an antireflection function at least to exposure light.例文帳に追加

位相シフター膜が、主に透過率を調整する機能を持った高屈折率層と、主に位相シフト量を調整する機能を持った低屈折率層とを交互に積層した４層以上の膜からなり、低屈折率層のうち少なくとも一層が、少なくとも露光光に対する反射防止機能を有するように設計されていることを特徴とする。 - 特許庁

To form a resist laminate having a sufficient antireflection effect, particularly in a photolithography process using rays in a vacuum ultraviolet region, and sufficient developing characteristics in a developing process of the photolithography, by forming an antireflective film for a resist on the photoresist layer, the antireflective film comprising a fluorine-containing polymer having a lower refractive index and excellent in solubility in a developing solution.例文帳に追加

より低屈折率で、かつ現像液溶解性に優れた含フッ素重合体からなるレジスト用反射防止膜をフォトレジスト層上に設けることで、特に真空紫外領域の光線を利用するフォトリソグラフィープロセスにおいて充分な反射防止効果を有し、かつその中の現像プロセスにおいても充分な現像特性を有するレジスト積層体を形成する。 - 特許庁

To provide an antiglare antireflection film which can effectively prevent the reflecting-in of external light or the lowering of contrast without degrading the sharpness of a high-definition image due to the downsizing of a pixel size or the like and in which a desired fine rugged structure is effectively and stably formed in high productivity, and to provide a polarizing plate and a display apparatus using the film.例文帳に追加

本発明の目的は、画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸構造を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性反射防止フィルムを提供し、更にそれを用いた偏光板、及び表示装置を提供することにある。 - 特許庁

The antireflection film material used for lithography comprises: at least a light absorbing silicone resin with mass average molecular weight of 30,000 or less in which components having molecular weight of less than 600 account for 5% or less of the whole resin; a first acid generator that is decomposed at a temperature of 200°C or lower; and an organic solvent.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる反射防止膜材料であって、該反射防止膜材料が、少なくとも、質量平均分子量が３００００以下であって、分子量が６００未満の成分が全体の５％以下である光吸収性シリコーン樹脂と、分解温度が２００℃以下の第一の酸発生剤と、有機溶剤を含むものであることを特徴とする反射防止膜材料。 - 特許庁

To obtain a coating for forming a transparent electroconductive film for providing a display device having the transparent electroconductive film excellent in electromagnetic wave shielding effects and antireflection effects, having a natural hue of a transmitted image and weather resistance represented by salt water resistance and excellent in light transmissivity with extremely slight defects by aggregates, etc., of coating components even in the appearance of a coated film.例文帳に追加

電磁波遮蔽効果および反射防止効果に優れ、透過画像の色相が自然であり、耐塩水性に代表される耐候性を有し、光透過性に優れしかも塗膜の外観においても塗料成分の凝集物などによる欠陥が極めて少ない透明導電膜を有する表示装置を得るための透明導電膜形成用塗料を得る。 - 特許庁

Under the set conditions of irregular illumination, a pattern is transferred via a projection optical system PL onto a substrate W where a resist film, an antireflection film or the like are formed with the formation conditions set with reflectivity on the substrate for slant incident light incident onto the substrate W from a direction inclined from the optical axis AX of the projection optical system PL taken into consideration.例文帳に追加

そして、この設定された変形照明条件の下で、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対して傾斜した方向から基板Ｗ上に入射する斜入射光に対するその基板上での反射率を考慮して形成条件が設定されたレジスト膜、反射防止膜などが形成された基板Ｗ上に、投影光学系ＰＬを介してパターンが転写される。 - 特許庁

The antidazzle antireflection film is constituted in such a way that an antidazzle layer is provided on a film substrate, the ratio of scattering reflectance occupied in the integrated reflectance in the antidazzle layer is 2-60%, a low refractive index layer is laminated directly or through other layer on the antidazzle layer and a low refractive index layer forming material contains at least one kind of a cationic polymerizable compound.例文帳に追加

フィルム基材上に防眩層を有し、該防眩層の積分反射率に占める散乱反射率の割合が２〜６０％であって、且つ該防眩層上に、直接または他の層を介して低屈折率層が積層され、且つ低屈折率層形成材料がカチオン重合性化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする防眩性反射防止フィルム。 - 特許庁

In this display device 100 with an electrode part for shielding a leakage electromagnetic field arranged and making contacting with a conducting film 133 provided between a base 131 and an antireflection film 134, the electrode part is constituted by solder melted by light irradiation.例文帳に追加

基材１３１と反射防止膜１３４との間に設けられた導電膜１３３に対して接触して配置される漏洩電磁界のシールド用電極部を有する表示装置において、上記電極部１４０が光の照射によって溶解した半田１７０によって構成されていることを特徴とする漏洩電磁界のシールド用電極部１４０を有する表示装置１００。 - 特許庁