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deposition processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1323件
The (D-P-S) generation process may comprise: a deposition process, an activation process, a deprotection process, a sidewall angle (SWA) correction process, and a double patterning (DP) developing process.例文帳に追加
前記(D-P-S)生成工程は、堆積工程、活性化工程、脱保護工程、側壁角(SWA)訂正工程、及び二重パターニング(DP)現像工程を有して良い。 - 特許庁
The deposition temperature in the first process can be made lower than the deposition temperature in the second process, as the vapor phase deposition technology, for example, an atomic layer deposition method is used.例文帳に追加
第1の工程における成膜温度を、第2の工程における成膜温度より低い温度とすることができ、気相成膜技術としては、例えば原子層堆積法を用いる。 - 特許庁
PROCESS GAS FEED MECHANISM, AND PLASMA CVD FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
プロセスガス供給機構並びにプラズマCVD成膜装置 - 特許庁
METHOD FOR PREVENTING SCALE DEPOSITION IN KRAFT PULP BLEACHING PROCESS例文帳に追加
クラフトパルプ漂白工程におけるスケール付着防止方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION DEVICE, METHOD FOR FORMING THIN FILM, AND PROCESS FOR FABRICATING TRANSISTOR例文帳に追加
成膜装置、薄膜形成方法、トランジスタ製造方法 - 特許庁
MULTILAYER DIELECTRIC FILM FOR THIN FILM CAPACITOR AND ITS DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
薄膜コンデンサ用誘電体積層フィルムおよびその製法 - 特許庁
The shape-forming process S14 and the film deposition process S15 are consecutively performed in a film deposition apparatus for forming the oxide film.例文帳に追加
形状加工工程S14と、成膜工程S15とを、酸化膜を成膜する成膜装置内で連続して行う。 - 特許庁
The shape forming process S14 and the film deposition process S15 are continuously performed in a film deposition apparatus for forming the oxide film.例文帳に追加
形状加工工程S14と、成膜工程S15とを、酸化膜を成膜する成膜装置内で連続して行う。 - 特許庁
To provide synthesis of metal chalcogenides using chemical vapor deposition (CVD) process, atomic layer deposition (ALD) process, or wet solution process.例文帳に追加
本発明は化学蒸着(CVD)プロセス、原子層堆積(ALD)プロセス又は湿式溶液プロセスを用いた金属カルコゲニドの合成を開示する。 - 特許庁
To provide a deposition method and a deposition device capable of suppressing the fluctuation of a deposition rate between the process of continuous deposition and the process of spacing deposition, and capable of stably depositing a fixed film thickness.例文帳に追加
連続成膜時と間隔を空けた際の成膜時とで、成膜レートの変動を抑制することができ、安定して一定膜厚の膜を成膜することができる成膜方法および成膜装置を提供する。 - 特許庁
To provide a film deposition device in which fine powder may be generated in a film deposition process, the film deposition device suppressing adhesion of the powder in a film deposition chamber.例文帳に追加
成膜工程において微細な粉末が発生し得る成膜装置において、成膜室内の粉末の付着を抑制する成膜装置を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of a semiconductor device has a deposition process and a reforming process.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、成膜工程と改質工程とを備える。 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION METHOD FOR PERPENDICULARLY ORIENTING CARBON NANOTUBE UTILIZING LOW-PRESSURE-DC-THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
低圧−DC−熱化学蒸着法を利用したカーボンナノチューブ垂直配向蒸着方法 - 特許庁
The deposition method relates to a method of processing the deposition apparatus having a face plate in a process chamber.例文帳に追加
成膜方法は、プロセスチャンバ内にフェースプレートを有する成膜装置を処理する方法に係る。 - 特許庁
This manufacturing process of the full-color OLED display element pixel structure includes processes: (a) a black matrix manufacturing process, (b) a polysilicon island forming process, (c) a gate forming process, (d) an interlayer forming process, (e) a CCM process, and (f) an OLED implant (OLED deposition) process.例文帳に追加
本発明が提供するフルカラーOLEDディスプレイエレメント画素構造の製造プロセスには、手順:(a)ブラックマトリックス製造プロセス、(b)ポリシリコンアイランド形成プロセス、(c)ゲート形成プロセス、(d)中間層(interlayer)形成プロセス、(e)CCMプロセス、及び(f)OLEDのインプラント (OLED deposition)プロセスを含む。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus capable of shortening a time required for process: and to provide a film deposition method using the film deposition apparatus.例文帳に追加
プロセス所要時間を短縮することが可能な成膜装置と、この成膜装置を用いた成膜方法とを提供する。 - 特許庁
MULTI-STEP DEP-ETCH-DEP (DEPOSITION-ETCHING-DEPOSITION) HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS FOR FILLING DIELECTRIC GAP例文帳に追加
誘電ギャップ充填用のマルチステップ堆積・エッチング・堆積(DEP−ETCH−DEP)高密度プラズマ化学気相堆積プロセス - 特許庁
The sulfide solid electrolyte is produced by carrying out a preparation process, a dissolution process, a coating process and a deposition process.例文帳に追加
準備工程と、溶解工程と、塗工工程と、析出工程とを行うことにより、硫化物固体電解質を作製する。 - 特許庁
METHOD FOR SUPPLYING GASEOUS HYDROGEN INTO PROCESS CHAMBER OF VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
蒸着装置の処理室内への水素ガス供給方法 - 特許庁
BURNER FLAME STABILIZER FOR FLAME HYDROLYSIS DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
火炎加水分解蒸着工程用バーナーの火炎安定化装置 - 特許庁
PROCESS WINDOW FOR ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF STRUCTURE HAVING HIGH ASPECT RATIO例文帳に追加
高アスペクト比構造の電気化学堆積のためのプロセスウインドウ - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR FORMING DEPOSITION FILM BY PLASMA-CVD PROCESS例文帳に追加
プラズマCVD法による堆積膜形成方法及び装置 - 特許庁
PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE AND ATOMIC LAYER DEPOSITION EQUIPMENT例文帳に追加
半導体装置の製造方法および原子層蒸着装置 - 特許庁
To provide a method for producing a component for a vacuum film deposition system which can stably and effectively prevent the peeling of a film deposition material stuck in the process of a film deposition process.例文帳に追加
成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止することを可能にした真空成膜装置用部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
The stabilizing layer may be laminated using either of a sputtering process, a vapor deposition process or a plating process.例文帳に追加
また、上記安定化層は、スパッタリング法、蒸着法またはめっき法のいずれかにより積層することができる。 - 特許庁
To carry out cleaning in-line with a cleaning vapor deposition device of a vapor deposition mask and increase the number of usages of the vapor deposition mask in a vapor deposition process of an organic EL display device.例文帳に追加
有機EL表示装置の蒸着工程における蒸着マスクの洗浄蒸着装置とインラインで行い、蒸着マスクの使用回数を増大させる。 - 特許庁
A process is inserted for suppressing the deposition of boron on a substrate surface.例文帳に追加
ボロンの基板表面への析出を抑える工程を経由する。 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING FLOW OF PROCESS MATERIAL TO DEPOSITION CHAMBER例文帳に追加
堆積チャンバへのプロセス材料の流れを制御する装置と方法 - 特許庁
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS FOR FABRICATING POROUS ORGANIC SILICA FILM例文帳に追加
有機シリカ多孔性膜製造のための化学気相成長方法 - 特許庁
The result about the formation of the atomic layer deposition film is determined between an deposition process and an oxidation process, or after the oxidation process, when having the deposition process depositing a film raw material on the base to form a precursor film and the oxidation process for steam-oxidation-treating the precursor to form the atomic layer deposition film, in the formation of the atomic layer deposition film.例文帳に追加
原子層堆積膜形成が、膜原料を基体上に堆積させて前駆体膜を形成する堆積工程と、前駆体膜を水蒸気酸化処理して原子層堆積膜とする酸化工程とを有している場合、原子層堆積膜形成の成否の判定を、堆積工程と酸化工程との間、または酸化工程の後に行うようにする。 - 特許庁
To provide a film deposition method and a film deposition system where the restriction of cleaning conditions by plasma irradiation can be relaxed in a physical deposition process.例文帳に追加
物理蒸着法において、プラズマ照射によるクリーニング条件の制約を緩和できる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁
The inorganic oriented film layer 41 is formed by, for example, a rhombic vapor-deposition process and the organic oriented film layer 42 is formed by an ion vapor-deposition process using an acrylic monomer as a vapor deposition material.例文帳に追加
無機配向膜層41は例えば斜方蒸着法により形成され、有機配向膜層42は、蒸着材料としてアクリルモノマーを用いたイオン蒸着法により形成される。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING CARBON FIBER BY ORGANIC METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
有機金属化学気相蒸着法によるカーボンファイバの製造方法 - 特許庁
The diffused barrier layer of cuprous is also formed by the sputtering or vacuum deposition process.例文帳に追加
該第1銅拡散バリア層もスパッタリング又は蒸着で形成する。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MAINTAINING VOLATILITY OF BY-PRODUCT IN DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
堆積プロセスにおける副産物の揮発度を維持する方法及び装置 - 特許庁
Using the iridium-containing film deposition material as the raw material, an iridium-containing film is produced by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process, an ALD (Atomic Layer Deposition) process, a spin coating process or the like.例文帳に追加
このイリジウム含有膜形成材料を原料として、CVD法、原子層蒸着法(Atomic Layer Deposition法:ALD法)、スピンコート法などによりイリジウム含有膜を製造する。 - 特許庁
METHOD FOR FEEDING SOURCE GAS FOR GAS DEPOSITION PROCESS, AND FEEDING APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
ガスデポジション法のための原料ガス供給方法及び供給装置 - 特許庁
METHOD FOR PREVENTING DENATURATION OF CATALYST BODY IN CATALYTIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
触媒化学気相堆積法における触媒体の変性防止法 - 特許庁
SYNTHESIS OF CARBON SINGLE-WALLED NANOTUBES BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加
化学気相成長法によるカーボン単層ナノチューブの合成の方法 - 特許庁
PROCESS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND DEPOSITION DEVICE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体デバイスの製造方法および半導体デバイスの成膜装置 - 特許庁
SELECTIVE CAPPING AND COPPER RECESS FORMING PROCESS APPLICABLE TO ELECTROLESS DEPOSITION例文帳に追加
選択的キャッピングおよび無電解めっきに利用可能な銅リセス・プロセス - 特許庁
To obtain a film quality equivalent to that when the process temperature is high even when the process temperature is low while allowing high speed and low temperature in a film deposition process, in the ALD deposition process utilizing plasma.例文帳に追加
プラズマを利用して行うALD成膜処理につき、成膜プロセスの高速化と低温化とを両立させつつ、プロセス温度が低温の場合でも高温の場合と同等の膜質が得られるようにする。 - 特許庁
To provide a vacuum deposition apparatus capable of continuously forming a deposition film by a process high in the availability of materials and excellent in productivity.例文帳に追加
材料の利用効率が高く、生産性に優れたプロセスで、蒸着膜を連続的に形成する。 - 特許庁
The process of deposition-in situ treatment-deposition-in situ treatment is performed to form dielectric layers in the gap.例文帳に追加
堆積−インサイチュ処理−堆積−インサイチュ処理というプロセスを実行して、間隙に誘電層を形成する。 - 特許庁
The amorphous Al_2O_3 film can be deposited using a chemical vapor deposition, atomic layer deposition or sputtering process.例文帳に追加
上記アモルファスAl_2O_3膜は、化学気相堆積法、原子層堆積法又はスパッタ法を用いて、堆積される。 - 特許庁
ROTARY TYPE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS FOR MASS PRODUCTION AND PROCESS FOR FORMING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FILM ON INNER SURFACE OF PLASTIC VESSEL例文帳に追加
ロータリー型量産用CVD成膜装置及びプラスチック容器内表面へのCVD膜成膜方法 - 特許庁
The first wafer is thereafter moved to a second IBS deposition chamber 304 for the purpose of a metallic layer deposition process.例文帳に追加
第1のウェハはその後、金属層堆積プロセスのために第2のIBS堆積室304に移動される。 - 特許庁
In the method for manufacturing a glass preform, the glass preform is manufactured through a fixing process, a deposition process, a pulling process, a clarification process and a consolidation process, in the order.例文帳に追加
本発明に係るガラス母材製造方法は、固定工程,堆積工程,引抜工程,透明化工程および中実化工程を順に経て、ガラス母材を製造する。 - 特許庁
To increase uniformity of a film deposition rate when a plurality of wafers is simultaneously subjected to batch treatment using a film deposition system where film deposition is performed by a supercritical process.例文帳に追加
超臨界プロセスによって成膜を行う成膜装置で、複数のウエハを同時にバッチ処理する際の成膜レートの均一性を高める。 - 特許庁
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