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「deposition process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索
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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > deposition processに関連した英語例文

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deposition processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1323



例文

LAYER DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

層堆積プロセス - 特許庁

TUNGSTEN DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

タングステン形成プロセス - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

原子層堆積プロセス - 特許庁

MULTILAYER FILM DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

多層膜成膜方法 - 特許庁

例文

DEPOSITION FILM FORMING PROCESS例文帳に追加

堆積膜形成方法 - 特許庁


例文

VAPOR DEPOSITION MATERIAL, MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND ITS MANUFACTURING PROCESS, DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

蒸着材、MgO蒸着材およびその製造方法、成膜方法 - 特許庁

CONTINUOUS DEPOSITION POLYMERIZATION PROCESS例文帳に追加

連続式蒸着重合法 - 特許庁

DEPOSITION APPARATUS, DEPOSITION PROCESS, AND PROCESS FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DEVICE例文帳に追加

蒸着装置、蒸着方法、液晶装置の製造方法 - 特許庁

VAPORIZATION AND DEPOSITION APPARATUS AND PROCESS例文帳に追加

気化・堆積装置および方法 - 特許庁

例文

CVD FILM DEPOSITION PROCESS AND CVD FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

CVD成膜方法およびCVD成膜装置 - 特許庁

例文

ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS AND PROCESS例文帳に追加

原子層堆積装置及び方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION PROCESS AND EQUIPMENT例文帳に追加

成膜方法及びその成膜装置 - 特許庁

PROCESS AND DEVICE FOR VACUUM DEPOSITION例文帳に追加

真空蒸着方法とその装置 - 特許庁

MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND ITS MANUFACTURING PROCESS, MANUFACTURING PROCESS OF MgO DEPOSITION FILM例文帳に追加

MgO蒸着材およびその製造方法、MgO膜の製造方法 - 特許庁

NOZZLE EVAPORATION SOURCE FOR VAPOR DEPOSITION PROCESS, AND VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

蒸着工程用ノズル蒸発源及び蒸着方法 - 特許庁

AMORPHOUS Ge/Te DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

非晶質Ge/Te蒸着方法 - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION PROCESS FOR TUNGSTEN MATERIAL例文帳に追加

タングステン材料の原子層堆積法 - 特許庁

PROCESS CHAMBER OF EQUIPMENT FOR FILM DEPOSITION AND EQUIPMENT AND METHOD FOR FILM DEPOSITION例文帳に追加

成膜装置のプロセスチャンバー、成膜装置および成膜方法 - 特許庁

METHOD FOR MONITORING THIN FILM DEPOSITION PROCESS, AND THIN FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

薄膜成膜プロセスの監視方法および薄膜成膜装置 - 特許庁

PROCESS AND APPARATUS FOR FORMING DEPOSITION FILM例文帳に追加

堆積膜形成方法および形成装置 - 特許庁

DEPOSITION FRICTION STIR WELDING PROCESS AND ASSEMBLY例文帳に追加

堆積摩擦攪拌溶接方法およびアセンブリ - 特許庁

PROCESSING CHAMBER FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

原子層成長プロセスのための処理チャンバ - 特許庁

BATCH TYPE FILM DEPOSITION SYSTEM FOR SUPERCRITICAL PROCESS例文帳に追加

超臨界プロセス用バッチ式成膜装置 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD AND METHOD FOR FEEDING PROCESS GAS例文帳に追加

成膜装置及び成膜方法及びプロセスガスの供給方法 - 特許庁

METAL DEPOSITION METHOD CONSISTING OF PLURAL PROCESS STEPS例文帳に追加

複数工程からなる金属析出方法 - 特許庁

PROCESS GAS TRANSFER PIPING, AND FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

プロセスガス搬送用配管及び成膜装置 - 特許庁

To provide a tungsten deposition process.例文帳に追加

本発明タングステン形成プロセスを提供する。 - 特許庁

In this film deposition method, a film deposition process and a sputtering process are alternately and periodically repeated.例文帳に追加

この成膜方法では、成膜工程とスパッタリング工程とを交互に周期的に繰り返す。 - 特許庁

FILM DEPOSITION SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD OF SILICON OXIDE THIN FILM BY CVD PROCESS例文帳に追加

CVD法による酸化珪素薄膜の成膜装置及び成膜方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, SUBSTRATE PROCESS APPARATUS, AND TURNTABLE例文帳に追加

成膜装置、基板処理装置及び回転テーブル - 特許庁

The second space is provided with a chemical film deposition means capable of performing film deposition according to a chemical film deposition process.例文帳に追加

化学的成膜法により成膜を行い得る化学的成膜手段を第2空間に設ける。 - 特許庁

To provide a method for depositing film deposition particles on a substrate at a high film deposition rate, in a film deposition method such as an aerosol deposition process, and to provide a film deposition apparatus.例文帳に追加

エアロゾルデポジション法等の成膜方法において、基板に高い付着率で成膜粒子を付着させる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

ROLLER MANUFACTURING PROCESS AND THERMAL DEPOSITION EQUIPMENT FOR THEREFOR例文帳に追加

ローラの製造方法及びその加熱溶着装置 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING PROCESS-SPECIFIC DATA OF VACUUM DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

真空析出プロセスのプロセス的に重要なデータを求めるための方法 - 特許庁

The bonding coat may be deposited on the insulating layer by a chemical vapor deposition process and an electrophoretic deposition process prior to the deposition of the barrier layer.例文帳に追加

バリヤ層を堆積する前に、化学蒸着法および電気泳動堆積法でボンディングコートを絶縁層に堆積させてもよい。 - 特許庁

LASER DEPOSITION PROCESS AND APPARATUS, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

レーザ成膜方法、レーザ成膜装置、および電子機器 - 特許庁

BIAS SPATTER FILM DEPOSITION PROCESS AND FILM THICKNESS CONTROL METHOD例文帳に追加

バイアススパッタ成膜方法及び膜厚制御方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FILM-FORMED BODY BY AEROSOL DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

エアロゾルデポジション法による成膜体の形成方法 - 特許庁

VAPORIZER AND VAPOR DEPOSITION SYSTEM OF REACTANT LIQUID FOR CHEMICAL VAPOR FILM DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

化学的蒸着膜工程のための反応液体の気化器および蒸着システム - 特許庁

SUSCEPTOR FOR DEPOSITION PROCESS EQUIPMENT, AND METHOD OF FABRICATING THE SAME例文帳に追加

蒸着工程装置用サセプタ及びその製造方法 - 特許庁

PROCESS FOR REDUCTIVE DEPOSITION ON METAL SURFACE例文帳に追加

金属表面上の還元的析出に対する方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR CARRYING OUT PCVD DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

PCVD堆積プロセスを実施する装置および方法 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング装置及びそれを用いた薄膜形成方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING PROCESS GAS FOR VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

蒸着用のプロセスガスを生成する方法及び装置 - 特許庁

In copper deposition processes, a sputter etching process 162 of deposited copper whose deposition is carried out in a same sputter chamber is performed following a sputter deposition process 160 of copper.例文帳に追加

同じスパッタチャンバ内で実行される堆積された銅のスパッタエッチング162が、銅のスパッタ堆積160の後に続いて実行される。 - 特許庁

PROCESS FOR DEPOSITING SILICON FILM AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE USING SILICON FILM DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

シリコン膜の成膜方法及び当該シリコン膜の成膜方法を使用するデバイスの製造方法 - 特許庁

The manufacturing method comprises a deposition process, a hydrothermal synthesis process, and a calcination process.例文帳に追加

その製造方法においては,析出工程と,水熱合成工程と,焼成工程とを行う。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus for depositing a manganese film by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process.例文帳に追加

マンガン膜をCVD法により形成することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

SUSCEPTOR FOR VAPOR DEPOSITION EQUIPMENT, VAPOR DEPOSITION EQUIPMENT, AND PRODUCTION PROCESS OF EPITAXIAL WAFER例文帳に追加

気相成長装置用のサセプタ、気相成長装置及びエピタキシャルウェーハの製造方法 - 特許庁

例文

In a preferred forming process, the electrodeposition mold fabrication technology (e.g., selective deposition, bulk deposition, etching process and flattening process) and post deposition process (e.g., selective etching and/or final backfill process) are employed.例文帳に追加

好ましい形成プロセスでは、電着成型加工技術(例えば、選択的堆積、バルク堆積、エッチング作業、および平坦化作業)、及び、後堆積プロセス(例えば、選択的エッチング作業、および/または、裏込め作業)が用いられる。 - 特許庁




  
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