「deposition process」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The operation rate of the apparatus is improved by carrying out the release and the discharge of the particles during the cycle of the film deposition process.例文帳に追加

成膜プロセスのサイクルの間にパーティクル１１１の離脱および排出を行うことにより、装置の稼働率向上を図ることができる。 - 特許庁

To surely prevent deposition of particles such as minute iron powder or the like on a glass substrate in a chemical reinforcement process by a simpler and easier method.例文帳に追加

化学強化工程において、微小な鉄粉等がパーティクルのガラス基板に付着することをより簡便な方法で確実に防止する。 - 特許庁

To perform diamond coating controlled in film quality to a relatively thin film on a rugged surface of an industrial cutting tool by a hot filament CVD (Chemical Vapor Deposition) process.例文帳に追加

熱フィラメントＤＶＤ法より工業用刃物に凹凸面の比較的薄膜に膜質制御されたダイヤモンドコーティングを行うこと。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel in which deposition process margin is improved, without being affected by temperature during manufacturing process, whereby the display quality is improved, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

製造工程の際に温度の影響を受けずに蒸着工程マージンを向上させ、表示品質を向上させることのできる液晶表示パネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce, while eliminating necessity to perform a process from vapor deposition of a protection film to sealing in a vacuum atmosphere, a risk of panel cracking and the like due to residual stress in a sealing process with passage of time.例文帳に追加

保護膜の蒸着から封着までの工程を真空雰囲気で行うことを不要としながら、時間経過に伴う封着工程での残留応力に起因するパネル割れ等のリスクを軽減する。 - 特許庁

After having passed through vapor deposition processes (c) to (f) to vapor-deposit the organic layer and electrode, a test process (g) to perform a predetermined test to the vapor-deposited organic layer and electrode is equipped, and a sealing process (h) is performed after the test process.例文帳に追加

基板に有機層及び電極を蒸着する蒸着工程（ｃ）〜（ｆ）を経た後に、この蒸着された有機層及び電極に対して所定の検査を行う検査工程（ｇ）を備え、該検査工程の後に封止工程（ｈ）を行う。 - 特許庁

The method for producing a thin film is characterized by using a sublimable vapor deposition material composed of a first oxide and a sublimable vapor deposition material composed of a second oxide different from the first oxide, and then forming an oxide thin film constituted of the first oxide and the second oxide on a substrate by a co-vapor deposition method comprising simultaneously vapor depositing the oxides by a vacuum film deposition process.例文帳に追加

本発明の薄膜の製造方法は、第１酸化物からなる昇華性蒸着材とこの第１酸化物とは異なる種類の第２酸化物からなる昇華性蒸着材を用い、真空成膜法によって同時に蒸着する共蒸着法により、基材上に第１酸化物及び第２酸化物から構成された酸化物薄膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The pretreatment process includes: a dissolving deposition step S1 which deposits deposition biomass using a poor solvent after dissolving cellulose based biomass; a first separation step S2; a pulverizing step S3 which pulverizes the deposition biomass; a countercurrent contact formula elution step S4 which brings the deposition biomass into countercurrent-contact with the poor solvent; a second separation step S5; and a distillation step S6.例文帳に追加

前処理工程は、セルロース系バイオマスを溶解させた後に貧溶媒を用いて析出バイオマスを析出させる溶解析出工程Ｓ１と、第１の分離工程Ｓ２と、析出バイオマスを粉砕する粉砕工程Ｓ３と、析出バイオマスを貧溶媒に向流接触させる向流接触式溶出工程Ｓ４と、第２の分離工程Ｓ５と、蒸留工程Ｓ６と、を備えている。 - 特許庁

In this manufacturing method of an organic luminescent device, a process of forming the organic compound layer is characterized by arranging the deposition mask having a predetermined mask pattern on a pixel barrier rib and a contact film in a state of being faced to a deposition object surface of the substrate, and forming the organic compound layer on the deposition object surface on the substrate to transfer the mask pattern of the deposition mask.例文帳に追加

有機発光装置の製造方法において、有機化合物層を形成する工程は、所定のマスクパターンを持つ蒸着マスクを基板の被蒸着面に対面させた状態で、画素隔壁及び接触膜の上に配置し、前記蒸着マスクのマスクパターンを転写するように、基板の上の被蒸着面に有機化合物層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

In the process where a change with the lapse of time between the time of starting film deposition and the time of its finishing becomes a problem, a series of above operations are performed while film deposition is performed, so that a desired film thickness distribution can be maintained at a high precision.例文帳に追加

また、成膜開始時と終了時との間の経時変化が問題となるようなプロセスにおいては、成膜を行いながら、上記一連の動作を行うことにより、高い精度で所望の膜厚分布を維持するようにする。 - 特許庁

To provide a thin film deposition apparatus capable of suppressing wrinkles by the tension by solving the problem of insufficient cooling of a substrate which is experienced when depositing a thin film by the vacuum process, and to provide a thin film deposition method using the apparatus.例文帳に追加

真空プロセスによる薄膜形成時に見られる、基板冷却の不足を解決し、張力によるシワを抑制するための薄膜形成装置を提供すると共に、これを用いた薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated tube container hardly peeled in the hologram vapor deposition layer of the laminated material of the body part of the container during a distribution process or use, hard to receive a thermal damage in the hologram vapor deposition layer of the thermally fusion-bonded part of the container and having excellent aesthetic properties.例文帳に追加

流通過程や使用中に、胴部の積層材料のホログラム蒸着層での剥離がしにくく、熱融着部のホログラム蒸着層が熱によりダメージを受けにくく、美粧性に優れるラミネートチューブ容器を提供する。 - 特許庁

This electrode is prepared by coating the surface of a titanium electrode base with an Mn (IV)-containing compound oxide of Mn-Mo-Fe, Mn-W- Fe, or Mn-Mo-W-Fe by deposition by an anode deposition process.例文帳に追加

チタン製の電極基体の表面に、４価のＭｎを含有する、Ｍｎ−Ｍｏ−Ｆｅ、Ｍｎ−Ｗ−ＦｅまたはＭｎ−Ｍｏ−Ｗ-Ｆｅの複合酸化物を、陽極析出法により析出させて基体を被覆した電極。 - 特許庁

To continuously form a fluoride thin film of magnesium fluoride or the like having reduced optical absorption of visible light and having satisfactory adhesion on a plastic base material by a vacuum deposition process at a high speed and also at an extremely stable film deposition rate.例文帳に追加

可視光の光学吸収が少なく密着性の良好なフッ化マグネシウム等のフッ化物薄膜をプラスチック基材上に真空蒸着法により高速で、且つ極めて安定した成膜速度で連続的に形成する。 - 特許庁

The equipment and method of depositing a film includes a function (process) of removing at least a part of a deposition film by allowing fine particles 107 to collide against a flexible substrate 101 with the deposition film on the surface while feeding out the substrate 101.例文帳に追加

表面に堆積膜が形成された可撓性基板１０１を繰り出しながら微粒子１０７を衝突させることによって堆積膜の少なくとも一部を除去する機能（工程）を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a deposition method and display material in a display material manufacturing process which realize accurate deposition of thin films of different characteristics by patterning on the same substrate and flat and uniform coating of liquid materials.例文帳に追加

特性の異なる薄膜を同一基板上に精度よくパターニング成膜することと、液体材料を平坦かつ均一に塗布させることを可能とする表示体製造プロセスにおける成膜方法および表示体を提供すること。 - 特許庁

An integrated copper via filling process with the inventive reactor or other reactor includes a first step of highly ionized sputter deposition of copper, a second step of more neutral, lower-energy sputter deposition of copper, and a third step of electroplating copper into a hole.例文帳に追加

集積化された銅のビアを充填する方法は、銅の高度にイオン化されたスパッタ堆積の第１ステップと、銅の、よりニュートラルな低いエネルギーのスパッタ堆積の第２ステップと、ホールへ銅を電気メッキする第３ステップを有する。 - 特許庁

To provide an apparatus for monitoring deposition of a resin container capable of monitoring a deposition state simultaneously with manufacturing by judging the manufacturing history thereof in a manufacturing process and a method for monitoring and a system for manufacturing the resin container.例文帳に追加

製造過程において、その製造履歴を判断することで、製造と同時に成膜状態を監視することができる樹脂容器の成膜監視装置及び成膜監視方法並びに樹脂容器の製造システムを提供する。 - 特許庁

By co-injecting or premixing the deposition or etch precursor gas and film purification compound prior to injection, the deposition or etch process may be optimized with respect to growth/etch rate and achievable material purity.例文帳に追加

付着前駆体ガスまたはエッチング前駆体ガスと膜純化化合物との同時注入または噴射前の予混合によって、成長／エッチング速度および達成可能な材料純度に関して、付着プロセスまたはエッチング・プロセスを最適化する。 - 特許庁

A deposition layer is thin right after a surface activation process through an energy wave, and therefore, if the deposition layer is crushed for a joining operation, the joining interface is spread, and a regenerated surface appears on the joining surface, thus allowing relative members to be mutually joined.例文帳に追加

エネルギー波による表面活性化処理後、すぐには付着物層も薄いので、該付着物層を押しつぶして接合すれば、接合界面は広がり、接合表面に新生面が現れ、被接合物どうしが接合される。 - 特許庁

To provide a method for producing a magnesium oxide vapor-deposition material advantageously usable for forming a magnesium oxide film useful as a protective for the dielectric layer of an alternating current plasma display panel by an electron beam vapor-deposition process.例文帳に追加

交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体層の保護膜として有用な酸化マグネシウム膜を、電子ビーム蒸着法により形成するのに有利に用いることのできる酸化マグネシウム蒸着材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises providing a substrate (110), providing an ion plasma deposition target (108), and depositing a protective coating onto the substrate (110) using the target (108) in an ion plasma deposition process.例文帳に追加

方法は、基板（１１０）を提供することと、イオンプラズマ蒸着ターゲット（１０８）を提供することと、イオンプラズマ蒸着ターゲット（１０８）を使用して、イオンプラズマ蒸着プロセスにより、基板（１１０）上に保護被覆膜を蒸着することとを含む。 - 特許庁

Further, because alternate and successive vapor deposition of a Cr layer and an Ag layer in the process of forming the weight portion can be conducted, easy manufacturing can be attained.例文帳に追加

また、重り部を形成する工程内でＣｒの層とＡｇの層を交互に連続して蒸着することができるため、容易に製造することができる。 - 特許庁

To provide a cluster deposition method on powder, which can deposit clusters uniformly on the powder at one batch despite a simple process.例文帳に追加

簡便な工程でありながら、１バッチで粉体に対してクラスタを均一に堆積させることが可能な粉体に対するクラスタ堆積方法を提供すること。 - 特許庁

A process such as electrode deposition is implemented on the formed plate-like structure in accordance with an intended purpose to produce a desired electronic and a desired optical device.例文帳に追加

形成された板状構造に目的に応じて電極堆積といった工程を行い、所望の電子デバイスおよび光デバイスを製作する。 - 特許庁

Thus, a screw groove spacer and a base desired for restraining deposition of a deposit of process gas are heated without heating a rotor vane, a motor, and a base board part.例文帳に追加

これによって、ロータ翼、モータ、基板部などは加熱せず、プロセスガスの析出物の堆積を抑制したいねじ溝スペーサやベースを加熱することができる。 - 特許庁

Corresponding to a process fluctuation amount generated in film thickness or a dielectric constant of the insulation film during the deposition of the insulation film, a mask dimension of the mask pattern is changed.例文帳に追加

絶縁膜の成膜時に該絶縁膜の膜厚又は誘電率に生じるプロセス変動量に応じて、マスクパターンのマスク寸法を変更する。 - 特許庁

It is desired that the wiring conductor is the wiring pattern composed of the conductor film made by combining a drive process such as deposition, sputtering, etc., and plating treatment.例文帳に追加

配線導体は、蒸着、スパッタリング等のドライプロセスと、めっき処理を組み合わせて形成された導体膜からなる配線パターンであるのが好ましい。 - 特許庁

Further, a top coat is deposited on the barrier layer by a chemical vapor deposition (CVD) process or a method where it is coated with a ceramic precursor and ceramic slurry, and is fired.例文帳に追加

さらに、バリア層に、化学蒸着法（ＣＶＤ）または、セラミック前駆体およびセラミックのスラリでコーティングし、焼成する方法で、トップコートを堆積させる。 - 特許庁

To provide a metal mask in which patterning superior in handling property and of high precision is enabled in a vacuum vapor deposition process when manufacturing an organic EL element.例文帳に追加

有機ＥＬ素子製造における真空蒸着工程において、取り扱い性の良い且つ高精細パターニングを可能とする金属マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method, comprising an energy source and a substrate tube, for manufacturing an optical preform by means of an internal vapor deposition process.例文帳に追加

内部蒸着プロセスによって光プリフォームを製造するための、エネルギー源および基材チューブを備える装置および方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which is capable of performing a deposition process without replacing gas at a high speed, and which can flexibly adapt to the sizes of substrates.例文帳に追加

高速でのガス置換を行うことなく成膜処理を実行可能であり、又基板のサイズに柔軟に対応可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A process kit for the sputtering chamber is equipped with a deposition ring and a cover ring for placement about a substrate support in the sputtering chamber, and a shield assembly.例文帳に追加

スパッタリングチャンバ用のプロセスキットは、スパッタリングチャンバ内で基板支持体の周りに配置するための堆積リング、カバーリング及びシールドアッセンブリを備えている。 - 特許庁

To solve the problem that plasma can not be effectively generated except for the case where pressure is the one higher than the pressure with which the condition is made optimum in a vapor deposition process.例文帳に追加

蒸着プロセスでの最適な条件となる圧力よりも高い圧力でないと有効にプラズマを発生できない問題を解決する。 - 特許庁

During the material deposition process, deposited material is formed within the trench and the build up of material adjacent to a peripheral edge of the wafer is thereby avoided.例文帳に追加

材料の堆積処理中に、溝の中に堆積材料が形成され、それにより、ウェハの周縁部エッジに隣接した材料の蓄積が回避される。 - 特許庁

To optimize a treating process where a metal multilayered film is formed through vacuum deposition to fire the metal multilayered film, so that a magnetic thin film of satisfactory characteristics is obtained.例文帳に追加

良好な特性の磁性薄膜が得られるように、蒸着により金属多層膜を形成して焼成する処理工程を最適化する。 - 特許庁

A plurality of cycles of a second ALD process is sequentially conducted to deposit a layer of a second material on the layer of the first material in the deposition chamber.例文帳に追加

第２のＡＬＤプロセスの複数のサイクルを連続して実行し、前記堆積チャンバ内の前記第１の物質の膜上に、第２の物質の膜を堆積する。 - 特許庁

The process data obtained when the processing unit 31 performs deposition and inspection data obtained when an inspection device 41 inspects the film formed by means of the unit 31 for its state are acquired.例文帳に追加

プロセス装置31で成膜を実施したプロセスデータ、およびプロセス装置31で実施された成膜の状態を検査装置41で検査した検査データを取得する。 - 特許庁

Using a DC plating process having high productivity, the magnetic film 13 is deposited and grown, and the abnormal deposition 14 which frequently occurs is removed.例文帳に追加

生産性の高いＤＣめっき法を用いて磁性膜１３を析出、成長させて、このときに、生ずることがある異常析出１４を除去する。 - 特許庁

To provide a laser deposition process and apparatus in which injection energy of a laser beam and the size of required facility are reduced, and to provide electronic equipment.例文帳に追加

レーザ光の投入エネルギー量の低減と、必要なレーザ設備の小型化とを図ったレーザ成膜方法、レーザ成膜装置、および電子機器を提供する。 - 特許庁

In a chemical vapor deposition process, a chemical precursor that enables thin films to be deposited in or near a limited conveyance area is utilized.例文帳に追加

化学気相成長プロセスにおいて、輸送量制限領域又はその近傍で、薄膜の堆積を行うことを可能にする化学前駆体を利用する。 - 特許庁

To obtain a film having high transparency and blocking-resistance by suppressing the generation of fine scratches in a film deposition process and optimum as a base film for a lens sheet.例文帳に追加

製膜工程で発生する微小キズを抑制し、透明性が高く、耐ブロッキング性を有し、レンズシート用ベースフィルムとして最適なフィルムを得る。 - 特許庁

To provide a flexible dye-sensitized solar cell and a method for manufacturing the same by a simple process including deposition of an oxide semiconductor at low temperature.例文帳に追加

フレキシブル染料感応太陽電池及び、酸化物半導体を低温で蒸着することを含む簡単な工程での製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a fine pattern having both of a groove pattern and a hole pattern in the process of manufacturing a semiconductor device without carrying out vacuum vapor deposition.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において、真空蒸着処理を行わずに、溝状パターンと穴状パターンとが共存する微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a silicon-rich nanocrystal structure that uses an atomic layer deposition process, and to provide a method of manufacturing nonvolatile semiconductor devices.例文帳に追加

原子層蒸着工程を用いたシリコンリッチナノクリスタル構造物の形成方法、及びこれを用いた不揮発性半導体装置の製造方法が開示される。 - 特許庁