「deposition process」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for producing a thin film of metal oxide by CVD using alcohol or atomic layer deposition.例文帳に追加

アルコールを用いた化学気相蒸着法または原子層蒸着法による金属酸化物薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The deposition of the cover layer is conducted in a state in which a bias voltage, selected so as to make arithmetic average roughness (Ra) of the molding surface more increased than that before deposition due to collision of a portion of ions of a process gas with the molding surface during deposition, is applied to the base material.例文帳に追加

被覆層の成膜は、成膜中にプロセスガスのイオンの一部が成形面に衝突することによって成形面の算術平均粗さ（Ｒａ）が成膜前よりも増大するように選択されたバイアス電圧を基材に印加した状態で行う。 - 特許庁

To stably and effectively prevent separation of a film deposition material deposited during the process for depositing a thin film with high internal stress in a vacuum film deposition apparatus, and to suppress degradation of productivity and increase in the film deposition cost when the apparatus is cleaned and the components are changed.例文帳に追加

真空成膜装置で内部応力が大きい薄膜を成膜する際に、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止し、装置クリーニングや部品の交換などに伴う生産性の低下や成膜コストの増加を抑える。 - 特許庁

This invention is to provide the method for depositing materials at prescribed positions in a medium and the method includes a process for deposition to surroundings of deposition inductive substances in a state of holding an aggregate of the deposition inductive substances at the prescribed positions.例文帳に追加

本発明は、析出物質を媒質内の所定の位置に析出する方法を提供し、該方法は、析出誘起物質の集合体を媒質内の所定の位置に保持した状態で、該析出誘起物質の周囲に析出物質を析出させる工程を含む。 - 特許庁

To provide a deposition film forming process which can produce a high quality product with an excellent electrophotographic property, in the case of producing a deposition film by using plasma generated by high frequency power.例文帳に追加

高周波電力によって生起されたプラズマを用いて堆積膜を作製する際に、電子写真特性の優れた製品を高品質で作製できる堆積膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a copper thin film by a chemical vapor deposition process in which the consistent film thickness distribution can be obtained between substrates after the film deposition.例文帳に追加

化学蒸着方法による銅薄膜の形成方法及び装置において、成膜処理後の基板間における安定した膜厚分布を得ることのできる銅薄膜形成方法及び装置を提案する。 - 特許庁

Further, since the single layer film is formed by only one physical vacuum deposition process and does not need any treatment such as grinding after deposition, film formation can be performed inexpensively and easily.例文帳に追加

また、単層膜を形成するものであるので、１回の物理蒸着工程を行うのみでよく、また、蒸着後の研磨などの処理が必要ないので、安価かつ容易に被膜形成を行うことができる。 - 特許庁

To provide a deposition method which is capable of efficiently forming an optical thin film consisting of an oxidized film without requiring systems of intricate structures and process steps over multiple stages and a deposition system for the same.例文帳に追加

複雑な構造の装置や多段階に亘る工程を必要とせず、酸化膜から成る光学薄膜を効率よく形成できる成膜方法及びそのための成膜装置を提供する。 - 特許庁

PROCESS FOR ADJUSTING FEED RATE IN ELECTRON-BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, ELECTRON BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTI-COMPONENT CONDENSATE FREE OF LAMINATION USING THE APPARATUS例文帳に追加

電子ビーム物理蒸着装置において送り速度を調整する方法、電子ビーム物理蒸着装置、およびこの装置を用いた層状化の発生していない多成分凝縮物の製造方法 - 特許庁

To provide a vapor deposition mask by which a working process is shortened by improving joining strength between a mask body and a frame to eliminate the occurrence of wrinkles and to facilitate the handling of the vapor deposition mask.例文帳に追加

マスク本体と枠体との間の接合強度を向上させて、皺の発生がなく蒸着マスクの取り扱いを容易にするとともに、加工工程の短縮化を図れる蒸着マスクを提供する。 - 特許庁

The plasma etching method is to etch the base material to be processed by repeating alternately the deposition step S09 by a deposition gas and the etching step S11 by an etching gas, and intervenes an exhaust process providing exhaust steps S10, S13 for exhausting a process gas once when the process gas is switched.例文帳に追加

このプラズマエッチング法は、デポジッションガスによるデポジッション工程Ｓ０９とエッチングガスによるエッチング工程Ｓ１１とを交互に繰り返すことで被加工基材をエッチングするものであり、プロセスガスを切り替える際に一旦そのプロセスガスを排気する排気工程Ｓ１０，Ｓ１３を設けた排気工程を介在させた。 - 特許庁

The barrier metal film is formed within chemical vapor deposition process chambers P11, P12, P13 which are attached to the first transfer chamber T1, and the metal film is formed within chemical vapor deposition process chambers P21, P22 which are attached to the second transfer chamber T2.例文帳に追加

また、障壁金属膜は、前記第１トランスファーチャンバーＴ１に付着されたＣＶＤ工程チャンバーＰ１１，Ｐ１２，Ｐ１３内で形成され、金属膜は第２トランスファーチャンバーＴ２に付着されたＣＶＤ工程チャンバーＰ２１，Ｐ２２内で形成される。 - 特許庁

In the case of manufacturing bulk acoustic elements by thin film layers formed on a substrate by a chemical vapor deposition process, by locally supplying a medium for promoting the chemical vapor deposition process to the substrate, the operating frequencies of the bulk acoustic wave elements can be tuned uniformly.例文帳に追加

基板上に化学蒸着法によって形成した薄膜層によってバルク音響波素子を作製する際、化学蒸着の促進媒体を基板上の局所に供給することにより複数のバルク音響波素子の動作周波数を均一に同調する。 - 特許庁

To provide a silicon substrate for magnetic recording medium which has sufficient resistance to shock, and enables cost reduction without making a fabrication process and deposition process of magnetic recording layer complex.例文帳に追加

充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用シリコン基板を提供すること。 - 特許庁

A protective layer is formed on one surface of a diamond film layer for reducing the deformation of the diamond film layer in the process of forming the diamond film layer by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

化学蒸着法によってダイヤモンド・フィルム層を形成する工程で、ダイヤモンド・フィルム層の変形を低減するために、保護層がダイヤモンド・フィルム層の1つの表面上に形成される。 - 特許庁

In the process, during a deposition process, the one or more substrates are maintained at a temperature greater than the decomposition temperature of the precursor while the surrounding atmosphere is maintained at a temperature lower than the decomposition temperature of the precursor.例文帳に追加

堆積プロセスの間、一または複数の基体は前駆体の分解温度より高い温度に維持され、一方、周囲の環境は前駆体の分解温度より低い温度に維持される。 - 特許庁

To provide a diamond electrode excellent in durability because detachment and fissure of diamond films are protected in the deposition process of diamond and the use process as an electrode.例文帳に追加

ダイヤモンドの成膜過程及び電極としての使用過程においてダイヤモンド膜の剥離及び亀裂が生じることが防止され、耐久性が優れたダイヤモンド電極を提供する。 - 特許庁

To provide a gas barrier film in which the adhesiveness between a substrate and a deposited thin film is improved with good productivity by using a plasma process in the same winding system as a vapor deposition process.例文帳に追加

蒸着と同一巻取り系でプラズマ処理を用い、生産性よく基材と蒸着薄膜との密着性向上したガスバリア性フィルムとその製造方法を提供する。 - 特許庁

The process chamber comprises an improved susceptor for supporting the wafer and a special gas distribution system adapted to feed various gases for use in the deposition process and cleaning.例文帳に追加

この処理チャンバは、ウェハを支持する改良型のサセプタ、および付着プロセスおよび洗浄で使用するさまざまなガスを供給するように適合された特別なガス分配システムを含む。 - 特許庁

To provide a film forming method which converts a deposited metal by CVD to a conformal and flat form film with a good followability to a substrate surface, by intermediate heat treatment during a deposition process of the metal, or by post-heat treatment after the end of the deposition process to cause a reflowing phenomenon to the deposited metal, and to provide a chemical vapor deposition apparatus.例文帳に追加

ＣＶＤによる金属堆積物を堆積工程実行中に中間熱処理するか、又は堆積工程終了後に後熱処理することによって堆積金属にリフロー現象を起こし、基材表面に対する追随性が良いコンフォーマルで平坦な膜状に改善できる成膜方法及び化学気相蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a wiring layer on an insulating layer in a simple process, using aerosol deposition method.例文帳に追加

エアロゾルデポジション法を用いて簡易な工程により絶縁層上に配線層を形成する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Sputtering, CVD, a sol-gel process or aerosol deposition (AD) may be applied as a method for forming the functional film 14.例文帳に追加

図１（ｂ）において、機能性膜１４を形成する方法としては、スパッタ法、ＣＶＤ法、ゾルゲル法、エアロゾルデポジション（ＡＤ）法等がある。 - 特許庁

To provide a process for depositing a film on a substrate by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) method in which an organic layer on the substrate is not damaged.例文帳に追加

ＰＥＡＬＤにより基板上に成膜するプロセスにおいて、基板上の有機膜にダメージを与えない方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical fiber preform by an outside vapor phase deposition process by which a glass rod is prevented from being broken.例文帳に追加

外付け法による光ファイバ母材の製造方法において、ガラスロッドの割れを防止することが可能な製造方法の提供。 - 特許庁

In many cases, the components of a solvent are absorbed into a porous film layer (102), and then vaporize during a subsequent metal (110) deposition process.例文帳に追加

多くの場合、溶媒の成分は、多孔質フイルム層（１０２）内に吸収され、後で、続く金属（１１０）堆積工程中に揮発する。 - 特許庁

During a deposition process, the three-way valve bypasses the remote plasma generator for leading a first treatment gas from the first gas pipeline to the chamber.例文帳に追加

蒸着工程の間に、三方バルブは、遠隔プラズマ発生器を迂回して第１処理ガスを第１ガス管路からチャンバに導く。 - 特許庁

To eliminate mirror angle errors within a wafer surface in a flat surface optical circuit with a micromirror manufactured by using a diagonal vapor deposition process.例文帳に追加

斜め蒸着工程を用いて作製するマイクロミラー付き平面光回路において、ウエハ面内でのミラー角度誤差をなくする。 - 特許庁

By this method, the film deposition process can be continuously performed at a time through the transmission holes 3a formed in great numbers in the masking member 3.例文帳に追加

これによって、成膜工程をマスク部材３に形成された多数の透孔３ａを通して１度にかつ連続して行う。 - 特許庁

To improve the yield in a manufacturing process by preventing a tunnel barrier layer between magnetic layers due to a re-deposition occurring at etching from being short-circuited.例文帳に追加

エッチング時に発生する再堆積による磁性層間のトンネルバリア層のショートを防止し、製造工程での歩留りの向上を図る。 - 特許庁

The method includes a dual deposition process wherein the first step is to deposit a very thin layer and dope very heavily by ion implantation.例文帳に追加

この方法は、２つの堆積プロセスで構成され、第１工程では、薄い層を堆積し、イオン注入により激しくドーピングする。 - 特許庁

The increased thickness permits dust and the damage on a hole transporting layer to be filled in a deposition process, therefore reducing the defects of the cathode.例文帳に追加

膜厚を厚くすることでその蒸着工程においてダストやホール輸送層の傷が埋まるので、陰極の欠陥が減少する。 - 特許庁

To provide a laser marking method and a laser marking device capable of preventing deposition of fine particles generated in the laser marking process on a main surface of a substrate.例文帳に追加

レーザーマーキングの過程で発生した微少なパーティクルが、基板の主表面に付着することを防止することを目的とする。 - 特許庁

COMPOSITION AND PROCESS FOR PREPARING CLEANSING BAR COMPRISING LOW LEVEL OF SOLUBLE SURFACTANT FOR ENHANCED FRAGRANCE DEPOSITION/LONGEVITY例文帳に追加

芳香の付着／持続を増進させるために可溶性界面活性剤を低レベルで含むクレンジングバー製造用組成物及び製造方法 - 特許庁

To achieve jointing process of an X-ray target material and a heat pipe in shorter time than physical vapor deposition such as ion sputter and laser ablation.例文帳に追加

X線ターゲット材料とヒートパイプの接合工程をイオンスパッタ、レーザーアブレーション等の物理蒸着法よりも短時間に実現する。 - 特許庁

A method and a system for initiating a deposition process utilizing a metal carbonyl precursor (52) and CO as a delivery gas is described.例文帳に追加

供給ガスとして金属カルボニル先駆体（５２）及びＣＯを利用する堆積プロセスの初期化方法及びシステムについて説明する。 - 特許庁

In this process, the toner is not fully melted so that diffused reflection of the toner gives a black part and allows a part having no toner deposition to appear as clear characters.例文帳に追加

その際、トナーは十分溶かされず、トナーの乱反射で黒くし、トナーが無い部分がくっきり文字となって現れるものである。 - 特許庁

To provide a molecular layer deposition (MLD) process having high throughput, and to provide a high-performance solar battery, an electroluminence element and an optical switch.例文帳に追加

スループットの高いＭｏｌｅｃｕｌａｒ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（ＭＬＤ）プロセス，および高性能太陽電池，エレクトロルミネッセンス素子，光スイッチの実現。 - 特許庁

It is preferable that, prior to the solution contact process (S1), the ground base coating process of coating the desired parts with a binder or a primer for supporting deposition of the metal fine particles is disposed or a mask process of masking the desired parts is disposed.例文帳に追加

溶液接触工程(Ｓ１)に先立ち、所望箇所に金属微粒子の担持を支援するバインダーまたはプライマーを塗布する下地塗布工程を備えたり、所望箇所へのマスク工程を備えたりすることも好ましい。 - 特許庁

According to the present invention, especially, mass-production of the semiconductor device having large area and high image quality can be realized without increasing a process cost and decreasing yields, because it is not necessary to add any mask process and deposition process.例文帳に追加

特に、本発明によれば、別途のマスク工程や蒸着工程を追加する必要がないので、工程コストの上昇や収率減少をもたらすことなく、大面積・高画質の半導体装置を大量生産することができる。 - 特許庁

A process for forming the intermediate film, the lower electrode or the piezoelectric film is provided with a process for forming a first layer by an ion beam assist method, and a process for forming a second layer by stopping an ion beam assist and succeeding deposition.例文帳に追加

前記中間膜、下部電極又は圧電体膜を形成する工程は、イオンビームアシスト法で第１層を形成する工程と、イオンビームアシストを止めて堆積を継続して第２層を形成する工程と、を備えている。 - 特許庁

Consequently, additionally depositing an insulating film on a metal deposition preventing film is not needed, and then the productivity of an aluminum wiring process can be improved due to proceeding the aluminum wiring process without the intervening vacuum break during the process.例文帳に追加

したがって、金属蒸着防止膜に絶縁膜を追加的に蒸着することが不必要であり、工程中間に真空ブレークなしに進行するので、アルミニウム配線工程の生産性を向上させることができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminate having an inorganic oxide layer on one surface or both surfaces of a polymer film includes a film deposition process for depositing the inorganic oxide layer and a treating process for performing a plasma treatment by RIE (Reactive Ion Etching) and is characterized by simultaneously performing the film deposition process and the treating process.例文帳に追加

本発明の積層体の製造方法及び製造装置は、高分子フィルムの片面もしくは両面上に、無機酸化物層を有する積層体の製造方法において、少なくとも、前記無機酸化物層を成膜する成膜工程と、ＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）によるプラズマ処理を施す処理工程と、を有し、前記成膜工程と処理工程とが、同時に施されることを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing a thin film is characterized by using a sublimable vapor deposition material composed of a first oxide and a meltable vapor deposition material composed of a second oxide, and then forming an oxide thin film constituted of the first oxide and the second oxide on a substrate by a co-vapor deposition method comprising simultaneously vapor depositing the oxides by a vacuum film deposition process.例文帳に追加

本発明の薄膜の製造方法は、第１酸化物からなる昇華性蒸着材と第２酸化物からなる溶融性蒸着材を用い、真空成膜法によって同時に蒸着する共蒸着法により、基材上に第１酸化物及び第２酸化物から構成された酸化物薄膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a deposition method for a silicon oxide film by a chemical vapor deposition (CVD) method, which can form a silicon oxide containing fewer OH groups without performing extra modification process such as thermal treatment or chlorine processing after the deposition of the silicon oxide film.例文帳に追加

ＣＶＤ法によるシリコン酸化膜の成膜方法であって、シリコン酸化膜成膜後に熱処理または塩素処理などの別の改質工程を行わずとも、ＯＨ基の含有量が抑えられたシリコン酸化膜を成膜することができるシリコン酸化膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film deposition device which is easy to manufacture, easily applicable to a mass production process of large substrates, and capable of improving manufacturing yield and deposition efficiency; a method for manufacturing an organic light-emitting display device by utilizing the thin film deposition device; and an organic light-emitting display device manufactured by utilizing the method.例文帳に追加

製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率及び蒸着効率が向上した薄膜蒸着装置、これを利用した有機発光表示装置の製造方法及びこれを利用して製造された有機発光表示装置を提供する。 - 特許庁