「defect position」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an economical pressure control type positioner of excellent performance that does not cause an excessive positioning of the supplied pressure to the driving section against an adequate position by removing the conventional defect of the pilot valve for the valve positioner.例文帳に追加

バルブポジショナのパイロットバルブの従来のパイロットバルブの有する欠点を除去して、性能の優れたものを経済的に得ることを課題とする。 - 特許庁

The black defect means a light shielding film remaining an unnecessary position of the mask, and the foreign matter means a stuck material including dust, which is stuck from the outside.例文帳に追加

なお、黒欠陥とはマスクの不要位置に残った遮光膜のことを称し、異物とは外部から付着したゴミ等を含む付着物のことを称する。 - 特許庁

Reflection paths and reflection sources corresponding to above wave kinds are specified from relative positional relations of respective trajectories, and a position and a size of the defect are presumed.例文帳に追加

各軌跡の相対的な位置関係から波の種類に応じた反射経路と反射源と特定し、欠陥の位置及び大きさを推定する。 - 特許庁

To reduce errors in a defect position produced by positional displacement by a driving mechanism of a stage without extending total processing time required for substrate inspection.例文帳に追加

基板検査に要するトータルの処理時間が長くすることなく、ステージの駆動機構による位置ずれによって生じる欠陥位置の誤差を低減する。 - 特許庁

A pinhole position or a beam size is adjusted automatically so as to acquire the optimum arrangement of the optical system based on the database with respect to an input defect shape.例文帳に追加

入力した欠陥形状に対してデータベースに基づき、最適な光学系の配置になるよう自動的にピンホール位置、ビームサイズの調整が行われる。 - 特許庁

CONSTANT OF CIRCUIT ELEMENT, CONSTANT DIFFERENCE DETECTING CIRCUIT, POSITION DETECTOR USING IT, IDENTIFICATION INSPECTION DEVICE FOR DEFECT OR EXISTENCE/NONEXISTENCE OF CONDUCTOR, AND TORQUE SENSOR例文帳に追加

回路素子の定数及び定数差検出回路及びそれを用いた位置検出装置及び導体の欠陥或いは有無の識別検査装置及びトルクセンサ - 特許庁

A vehicle painted face inspection device is provided with an image pick-up device, and an image processing means for detecting automatically a fine defect generated on a vehicular painted face, based on a change in an image signal therefrom, and for preparing a two-dimensional defect position data projected with the fine defective position on a two-dimensional horizontal or vertical projection face.例文帳に追加

車両塗面検査装置は、撮像装置と、その画像信号の変化から車両塗面に生じている微小欠陥を自動的に検知して、この微小欠陥位置を水平もしくは垂直の二次元投影面に投影した二次元の欠陥位置データを作成する画像処理手段とを備える。 - 特許庁

The defect in the inspected image is detected locally in the defect detecting part 53, by comparing a picture element value included in a local area with a corresponding picture element value of the reference image, while moving two-dimensionally the local area of the inspected image after position-corrected from a corresponding position of the reference image.例文帳に追加

欠陥検出部５３では、位置補正後の被検査画像の局所領域を、参照画像の対応する位置から２次元的に移動しつつ局所領域に含まれる画素値と参照画像の対応する画素値とを比較することにより、被検査画像中の欠陥が局所的に検出される。 - 特許庁

The defect detection light is converged in a position where the its writing/reading order is after the RF signal during information recording/reproducing, and a defect is detected before actual information writing or reading.例文帳に追加

この欠陥検出光は、情報の記録又は再生時において、ＲＦ信号光よりも書き込み又は読み出しの順序が後である位置に集光しており、実際に情報の書き込み又は読み出しが行われる以前に欠陥が検出される。 - 特許庁

To provide a method for inspecting the defect in block of furnace body in a blast furnace with which the defect developed in this block can suitably be detected until setting a plurality of blocks of furnace body in the blast furnace pre-produced at a position except the blast furnace foundation, onto the blast furnace foundation.例文帳に追加

予め高炉基礎以外の場所において製造した高炉炉体の複数のブロックを高炉基礎上に設置するまでに、当該ブロックに生じた欠陥を好適に検知できる高炉炉体のブロックの欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

The data processing circuit 45 has: a memory for storing inputted control data; and a control section for selectively storing control data on a peripheral region including the position of defects in a memory, based on the defect data obtained by a defect inspection machine.例文帳に追加

データ処理回路４５は、入力された制御データを格納するためのメモリと、欠陥検査機で得られた欠陥データに基づき、欠陥の位置を含む周囲領域に関する制御データを選択的にメモリに格納させる制御部とを備えている。 - 特許庁

And each of the set positional relationships is used to position the defect output by the inspection equipment 1 and the design data, and a local pattern of the site at which the defect is positioned is extracted from the design data for every positional relationship (step S6).例文帳に追加

そして、設定された位置関係の夫々を用いて検査装置１が出力した欠陥位置と設計データとを位置合わせし、設計データから欠陥位置が位置合わせされた部位の局所パターンを位置関係毎に抽出する（ステップＳ６）。 - 特許庁

When tutor data used for the learning are generated, a defect image is displayed on the display of the host computer according to the size of a defect and an imaging position on the object to be inspected and an identification representation showing a category which is already imparted is added.例文帳に追加

学習に用いられる教師データの作成に際して、ホストコンピュータのディスプレイに欠陥の大きさや検査対象上の撮像位置に基づいて欠陥画像が配列表示され、既に付与されているカテゴリを示す識別表示が付加される。 - 特許庁

The defective region decision part 44 compares the pixel decided as a defect candidate region with a plurality of other images and decides it as a defective region when a position in an image in the defect candidate region matches any one of the plurality of other images.例文帳に追加

欠陥領域判定部４４は、欠陥候補領域と判定された画素を他の複数の画像と比較し、欠陥候補領域の画像中における位置が他の複数の画像と一致する場合には、これを欠陥領域として判定する。 - 特許庁

In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect.例文帳に追加

表面欠陥データ表示管理装置３において、危険率算出部３３は、外観検査装置１２やレビュー装置１０によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。 - 特許庁

To solve the problem wherein the access operation (track jump) of an optical pickup on an optical disk, when a light spot enters a defect position, is repeated with respect to the same position, or a servo is displaced and reproduction cannot be continued.例文帳に追加

光ディスクにおける光ピックアップのアクセス動作（トラックジャンプ）において、光スポットが傷位置へ突入すると、同じ位置へアクセス動作を繰り返したり、大きくサーボが外れて再生を継続できなくなる。 - 特許庁

In addition to an examining processing part 5 for pattern for examining the propriety by applying mask processing at the position of through hole or photo via/laser via, an examining processing part 6 for via is provided for recognizing a defect peculiar for the position of photo via/laser via.例文帳に追加

スルホールやフォトビア・レーザビアの位置にマスク処理を施して良否検査を行うパターン用検査処理部５に加えて，フォトビア・レーザビアの位置に特有な欠陥を認識するためのビア用検査処理部６を設けた。 - 特許庁

To provide a laser beam machining robot system which can prevent the generation of a defect of laser beam machining in a set position of the machining, caused by a laser light for machining running into an obstacle and not reaching the set position of the machining.例文帳に追加

加工用レーザー光が障害物に当たって加工設定位置に到達せず、加工設定位置にレーザー加工不良が生じることを防止することができるレーザー加工ロボットシステムを提供すること。 - 特許庁

A shadow generated by the foreign matter is detected based on the picked-up foreign matter detecting image, and a position of the foreign matter is calculated based on the position of the shadow to correct an image defect caused by the foreign matter in the picked-up image.例文帳に追加

撮像された異物検出用画像から異物により生じた影を検出し、その影の位置より撮像光路上の異物の位置を算出して、撮像画像の異物による像欠陥を補正する。 - 特許庁

A glass plate G is sucked and fixed to a table 2 after a defect is detected on the surface of the glass plate G by a detecting means 4, and the position of the defect D detected by the detecting means 4 and its surrounding area are polished by a polishing pad 34 having a smaller outer form size than that of the glass plate G, so that the defect D is removed without an entire polishing to be made.例文帳に追加

検出手段４によりガラス板Ｇ表面の欠陥を検出した後にガラス板Ｇをテーブル２へ吸着固定し、ガラス板Ｇの外形サイズよりも小さい外形サイズの研磨パッド３４により検出手段４により検出された欠陥Ｄの位置とその周囲を研磨することにより、全面研磨せずとも欠陥Ｄを除去する。 - 特許庁

To provide a method for discriminating a common defect among a plurality of substrates located at the same position accurately, at high speed and at low cost.例文帳に追加

複数枚の基板に渉って同じ位置に存在する基板間の共通欠陥を、精度よく高速で安価に判別できる共通欠陥判別方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a wrong detection of an end part position in a display area even in a flat display panel on which a line defect is generated in the vicinity of the end part in the display area.例文帳に追加

表示領域の端部近傍に線欠陥が生じている平面表示パネルであっても、表示領域の端部の位置を誤って検出してしまうことを防止する。 - 特許庁

To prevent a streak from entering between pixel arrays even if a defect, e.g. nonejection, occurs partially at liquid ejecting parts, and to make variation in the shooting position of liquid drops inconspicuous.例文帳に追加

一部の液体吐出部に不吐出等の欠陥が生じても、画素列間にスジが入ってしまうこと等を防止し、液滴の着弾位置のばらつきも目立たなくする。 - 特許庁

To manufacture a flexible substrate which is free of a galling defect and a shift in blanking position without using a film for reinforcement when the thin flexible substrate is blanked.例文帳に追加

薄いフレキシブル基板に打抜き加工を施す場合に、補強用フィルムを使用しなくても、カジリ不良や打抜き位置のずれのないフレキシブル基板の製造を実現する。 - 特許庁

To make the simplified assembly compatible with the reduction of the defect rate for a scanning optical device which can adjust the irradiation position and the inclination of the scanning line, and also to reduce its cost.例文帳に追加

照射位置調整、走査線傾き調整を行う走査光学装置において、組立工程の簡略化と不良率の低減を両立させ、コストダウンを図る。 - 特許庁

A mask blank is prepared (ST11), distribution of the position or size of defects existing in the thin film of the mask blank is inspected (ST12), and a defect map is made (ST13).例文帳に追加

マスクブランクスを準備し（ＳＴ１１）、マスクブランクスの薄膜に存在する欠陥の位置や大きさなどの分布を検査し（ＳＴ１２）、欠陥マップを作成する（ＳＴ１３）。 - 特許庁

To provide a method and device for monitoring of arc welding capable of monitoring displacement of an arc in position, and such a defect that base materials are melted and parted from each other by generating a clearance between them.例文帳に追加

アークの位置ずれ、母材間に隙間が生じて両者が接合せずに溶け別れる不良等をモニタリング可能としたアーク溶接モニタリング方法／装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of making high-precision position corrections of imaging data of a mask pattern in an easy method, and to provide a high-reliability pattern defect inspecting method.例文帳に追加

マスクパターンの撮像データに対して簡便な方法により、高精度の位置補正を行う方法を実現し、高信頼性のパターン欠陥検査方法を実現する。 - 特許庁

The size of an image or the number of pixels in re-detection is changed in accordance with the accuracy distribution of defect position information in an external inspection device without changing resolution.例文帳に追加

解像度を変更することなく、外部の記検査装置における前記欠陥位置情報の精度分布に応じて再検出の際の画像サイズまたは画素数を変更する。 - 特許庁

A control section 11 makes a defect detection section 9 detect defects of images recorded on a continuous sheet 14b on the basis of a sheet cutting position control section 12.例文帳に追加

制御部１１は、シート切断位置制御部１２に基づいて、連続シート１４ｂ上に画像記録された画像の欠陥を欠陥検出部９に検出させる。 - 特許庁

To realize quick return of a reproduction signal to normally reproduce the reproduction signal by changing a processing method depending on a kind and a position of scratch even if a disk has defect (scratch).例文帳に追加

欠陥(傷)のあるディスクであっても、傷の種類、位置により処理方法を変えることにより、再生信号を正常に再生するために復帰を早くすることができる。 - 特許庁

By irradiating an inspection surface A with each irradiation light LA1, LB1 from mutually different directions, each position on the domain showing a defect in each image is deviated slightly.例文帳に追加

照射光ＬＡ１，ＬＢ１が互いに異なる方向から被検査面Ａを照射することにより、各画像において欠陥を示す領域の位置がわずかにずれる。 - 特許庁

To accurately carry out correction so that the concentration of a pixel corresponding to the defect position of a detection element being provided at a radiation solid-detecting device does not become specific concentration being different from the periphery.例文帳に追加

放射線固体検出装置が備える検出素子の欠陥位置に対応する画素の濃度が周辺と異なる特異な濃度とならないように正確に補正する。 - 特許庁

To provide a flaw detection method and a device capable of specifying the position of a defect of a measuring object without dependence on the material of the measuring object.例文帳に追加

測定対象物の材質に依存することなく、前記測定対象物における欠陥の位置を特定することのできる探傷方法および装置を提供する。 - 特許庁

The primary defect position correction expression includes three terms of an offset component, an extension component and a rotation component of the observation coordinate system to the detection coordinate system.例文帳に追加

この１次の欠陥位置補正式は、検出座標系に対する観察座標系のオフセット成分、拡大成分、回転成分といった３つの項を有している。 - 特許庁

The optical information recording/reproducing device reproduces information, by using the predetermined area in the second layer corresponding to the position of the first layer of which a defect is registered, as the defective area.例文帳に追加

光情報記録再生は、第１の層の欠陥が登録された位置と対応する第２の層における所定の領域を、欠陥領域として情報を再生する。 - 特許庁

To provide a method for removing surely even a crystal defect formed on a position deep from the surface of an SiC layer deposited by an epitaxial growth method.例文帳に追加

エピタキシャル成長法により堆積させたＳｉＣ層の表面から深い位置に形成された結晶欠陥でも、確実に除去することができる方法を提供する。 - 特許庁

Improvement in the accuracy of the defect inspection can be attained, because the signal can be detected by irradiating the laser light 5a at each irradiation position, while controlling the effect of the ambient temperature.例文帳に追加

各照射位置に周囲温度の影響を抑えてレーザ光５ａを照射して信号を検出することができ、欠陥検査の精度向上が図られる。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus and its defective pixel correction method by which calculation of position information is simplified and increase of circuit scale of a defect correction system is suppressed.例文帳に追加

位置情報算出を単純化でき、また、欠陥補正系の回路規模の増大を抑えることが可能な撮像装置およびその欠陥画素補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide an X-cube having no such defect of interruption of layer systems at a joint position in conventional X-cubes and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

従来のＸ立方体では、継ぎ目箇所において層システム同士が中断していたが、このような欠点のないＸ立方体とその製造工程を提供する。 - 特許庁

The bonding position of a wire (301) to an electrode (113) provided on the upper surface of a semiconductor laminated structure is deviated from the upper side of the dislocation (crystal defect) concentrated area (X) of a substrate.例文帳に追加

半導体積層構造上面に設けた電極（１１３）へのワイヤー（３０１）のボンディング位置を、基板の転位（結晶欠陥）集中領域（Ｘ）の上方から外す。 - 特許庁

To securely separate paper from a photosensitive drum at a specified position without causing a separation defect nor a retransfer phenomenon and to prevent an unfixed image from being disordered when the paper is separated from a photosensitive drum.例文帳に追加

紙を感光ドラムから分離する際に、分離不良・再転写現象を起こすことなく所定の位置で確実に分離し、かつ未定着画像を乱さないようにする。 - 特許庁

The defect position and the area which is subject to stress are compared with each other and the defects are classified into classes based on the form and the result of a photoelasticity stress measurement.例文帳に追加

欠陥の位置および応力を受けた領域の位置を互いに比較し、欠陥をその形状および光弾性応力測定の結果に基づいてクラスに分類する。 - 特許庁

Even when new defect or the like are caused, since File Entry, that is, a position and size of image data are held at two places, even if one is lost, the image can be reproduced.例文帳に追加

新たに欠陥等が生じた場合でも、File Entry即ち画像データの位置とサイズが２箇所に保持されているため、一方が失われても画像の再生が可能となる。 - 特許庁

To allow a position of a detected micro-defect to be marked by an inspection device itself by robot scanning during scanning of a coating face.例文帳に追加

ロボット走査による検査装置自体で、検知された微小欠陥の位置をその塗面走査中にマーキングすることを可能にする塗面検査装置用マーキング方法を提供する。 - 特許庁