「defect position」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

When the defect 13 is detected, a marking means 14 puts a linear mark parallel to the transport direction 11a to sandwich a defect position from both sides in the width direction as marking.例文帳に追加

欠陥１３が検出されると、マーキング手段１４は、欠陥位置を、幅方向の両側から挟むように、搬送方向１１ａに平行な線状のマーク１５を、マーキングとして施す。 - 特許庁

Thus, it is possible to seek again a target position by avoiding a servo data defect area, and to avoid the repeated occurrence of the seek error caused by the servo data defect area.例文帳に追加

これにより、サーボ・データ欠陥領域を避けてターゲット位置に再シークすることができ、サーボ・データ欠陥領域によりシーク・エラーが繰り返し発生することを避けることができる。 - 特許庁

To obtain an imaging device which can obtain single image data which prevents complete absence of brightness information by recovering brightness information at a position of a defect image element even if a defect image element is generated.例文帳に追加

欠陥画素が生じても、欠陥画素の位置での輝度情報を回復して、輝度情報が完全に欠損することを防いだ単一画像データを取得可能な撮像装置を得る。 - 特許庁

To provide an inspection system which can, even when there is a luminance point defect at an alignment mark part, detect the bright point defect and a position detection system included in the inspection system.例文帳に追加

アライメントマーク部分に輝点欠陥があった場合でも、当該輝点欠陥を検出することができる検査装置および検査装置が備える位置検出装置を提供する。 - 特許庁

To decrease overlookings of micro-defects due to the maladjustment of an image pick-up conditions in a method for minute inspection of a defect executed, after the position of the defect on an object to be inspected is measured beforehand.例文帳に追加

被検査対象物の欠陥位置が予め計測された後に欠陥の詳細検査を行う方法において、撮像条件の不具合による微小欠陥を見逃しを低減する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus for a display device capable of imaging display of the display device such as a liquid crystal panel and specifying an absolute position of a point defect precisely from an acquired imaged data.例文帳に追加

液晶パネル等の表示装置の表示を撮像し、得られた撮像データから点欠陥の絶対位置を正確に特定することが可能な欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Upon detecting the defect 13, a marking means 14 puts linear marks 15 parallel with a conveying direction 11a, so as to hold a defect position from both sides of a cross direction.例文帳に追加

欠陥１３が検出されると、マーキング手段１４は、欠陥位置を、幅方向の両側から挟むように、搬送方向１１ａに平行な線状のマーク１５を、マーキングとして施す。 - 特許庁

The electric inspection process S12 includes a coordinate detection process S13 for detecting a position coordinate of the unit region including the defect, when the defect of the unit region is detected.例文帳に追加

電気検査工程Ｓ１２には、単位領域の欠陥が検出された場合に、欠陥を含む単位領域の位置座標を検出する座標検出工程Ｓ１３が含まれる。 - 特許庁

To provide an optical device defect inspection method and an optical device defect inspecting apparatus which is not affected by the difference in curvature or the position of an optical device, and which is high-speed and is low cost.例文帳に追加

曲率の違いや光学デバイスの位置に影響されない高速かつ安価な光学デバイス欠陥検査方法及び光学デバイス欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a device and a method for detecting a hole defect detecting accurately existence of a hole defect and the position if a hole defect exists, by preventing surely excessive detection of hole defects of an inspection object by a light receiving part.例文帳に追加

受光部による被検査物の穴欠陥の過剰検出を確実に防止して、穴欠陥の有無、及び穴欠陥があった場合のその位置の検出を精度良く行うことができる穴欠陥検出装置及び穴欠陥検出方法を得る。 - 特許庁

To provide a sample for observing a semiconductor wafer surface crystal defect, with which accurate position of the crystal defect in the semiconductor wafer surface is decided, when a surface defect is observed with laser beam, etc., and to provide a method for manufacturing the sample.例文帳に追加

表層欠陥をレーザ光等で観察する際、半導体ウェーハ表層にある結晶欠陥の正確な位置を決定できる半導体ウェーハ表層結晶欠陥観察用試料とこの試料の作製方法を提供するものである。 - 特許庁

When a defective part position read from defect information reaches a feed roller 74 position, the POF 17 is sent up to the cutter machine 62 and is cut off at the position just before the defective part.例文帳に追加

欠陥情報から読み出された欠陥部位の位置がフィードローラ７４の位置に到達すると、ＰＯＦ素線１７が切断機６２まで送られて欠陥部位の位置の直前で切断される。 - 特許庁

A position where a defect is generated in an image pickup sensor 101 is identified based on signal levels of the transferred charges D1-Dm.例文帳に追加

転送される電荷Ｄ１〜Ｄｍの信号レベルに基づいて、撮像センサ１０１の不良発生位置を特定する。 - 特許庁

In the analysis process 126, the defect position is specified three-dimensionally from such two pieces of mutually different planar information.例文帳に追加

解析工程１２６では，かかる相異なる２の平面的な情報から，欠陥位置が３次元的に特定される。 - 特許庁

To provide a solar battery inspection apparatus capable of identifying the position of a strip-shaped defect, inside a solar battery cell.例文帳に追加

太陽電池セル内の帯状の欠陥の位置を特定することが可能な太陽電池の検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pixel defect correction device which is capable of reducing the amount of position information on pixel defects recorded in a nonvolatile memory.例文帳に追加

不揮発性メモリに記録する画素欠陥位置情報量を削減できる画素欠陥補正装置を提供する。 - 特許庁

Similarly, the defect position is easily specified, by displaying an image obtained by received ultrasonic waves in at least two dimensions.例文帳に追加

受信超音波による画像を少なくとも２次元表示することで同様に欠陥位置特定が容易となる。 - 特許庁

A defect is detected which is generated in a wafer on which a pattern is formed, and positional relationships between a coordination system for indicating a defect position used by an inspection equipment 1 for outputting the position where the detected defect is generated and a coordination system used in the design data of the pattern are set in multiple ways (steps S3 and S4).例文帳に追加

パターンが形成されたウェハに発生した欠陥を検出し、検出した欠陥の発生位置を出力する検査装置１が使用する欠陥位置を指し示すための座標系と、パターンの設計データにおいて使用される座標系と、の間の位置関係を複数設定する（ステップＳ３、Ｓ４）。 - 特許庁

To provide a defect position detecting device for a buried pipe detecting a defect of the old buried pipe and capable of accurately detecting a defect position even when the pipe is bent without particularly digging a hole in an inspection of the crack or the like of the buried pipe in particular.例文帳に追加

本発明は古くなった埋設配管の欠陥を検出する埋設配管欠陥箇所検出装置に係り、特に埋設配管の亀裂等の検査において特に穴を掘る必要もなく、例え配管が曲がっていても正確に欠陥個所を知ることができる埋設配管の欠陥箇所検出装置を提供するものである。 - 特許庁

The method for managing the defect area comprises appropriately determining an alternate area in case of the occurrence of a defect without previous division of the area to a data area and a spare like heretofore, transferring the data to be recorded thereto and separately managing the information of the position alternated with the defect position information.例文帳に追加

そのために本発明の欠陥領域管理方法は、従来のように予めデータ領域とスペア領域とに分けておかずに、欠陥が発生したときに適宜交替領域を決めてそこに記録するデータを移すと共に、欠陥位置情報と交替した位置の情報を別途管理するようにした。 - 特許庁

In this method, based on position coordinate of the defect detected by defect detecting means, marking through ion beam, etc. is provided around the position coordinate, sample is observed with a transmission electron microscope to identify the defective area from relative positional relationship between the marking and the defect, reliably preparing sample which contains the target defective area.例文帳に追加

欠陥検出手段で検出した欠陥の位置座標を基準にして、その近傍にイオンビームなどによってマーキングし、試料を透過型電子顕微鏡で観察して、マーキングと欠陥との相対位置関係から、欠陥部を特定し、目的とする欠陥部を含む試料を確実に作製する。 - 特許庁

The electron microscope 5 for observing the defect detected by an optical defect inspection device is mounted with an optical microscope 6 for re-detecting the defect, and has a constitution where, when focusing of the optical microscope 6 is performed, a lighting position and a detecting position of the optical microscope 6 to a sample 1 are not changed.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡５において、欠陥を再検出する光学式顕微鏡６を搭載し、この光学式顕微鏡６の焦点合わせを行う時に、試料１に対して光学式顕微鏡６の照明位置と検出位置を変化させない構成とする。 - 特許庁

The defect evaluation means 6 includes a mold correction evaluating section 63 that deems the defect as a mold correction spot, on the basis of defect information including a defect position at the previous time, wherein the mold correction spot information regarding the mold correction spot evaluated thereby is registered in a mold correction spot information storing section 83.例文帳に追加

欠陥評価手段６には、前回での欠陥位置を含む欠陥情報に基づいて当該欠陥を型修正箇所とみなす型修正評価部６３と、これによって評価された型修正箇所に関する型修正箇所情報が型修正箇所情報格納部８３に登録される。 - 特許庁

In this method, based on position coordinates of the defect detected by defect detecting means, marking is made in the vicinity of the defect by using an ion beam, etc., sample is monitored with transmission electron microscope to specify the defective section from relative positional relationship between the marking and the defect, and then sample including the target defective section will surely be prepared.例文帳に追加

欠陥検出手段で検出した欠陥の位置座標を基準にして、その近傍にイオンビームなどによってマーキングし、試料を透過型電子顕微鏡で観察して、マーキングと欠陥との相対位置関係から、欠陥部を特定し、目的とする欠陥部を含む試料を確実に作製する。 - 特許庁

This defect processing method of a magnetic disk drive is a suitable method when the position of a defect is known in advance on a disk and comprises a stage for assigning a data zone to a track including the defect (step S1006) and a stage for processing the data zone as a defect (step S1008).例文帳に追加

本発明にかかる磁気ディスク装置のディフェクト処理方法は，ディスク上で欠陥の位置が事前に分っている場合に適した方法であって，欠陥を含むトラックに対してデータゾーンを割当てる段階（ステップＳ１００６）と，データゾーンをディフェクトとして処理する段階（ステップＳ１００８）とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a film carrier tape for mounting electronic component in which a defect can precisely be marked on a target position on a mounting unit without fail and a recognition defect due to dislocation of a defect mark can be reduced at the time of mounting IC, and to provide a defect marking method of the film carrier tape for mounting electronic component.例文帳に追加

実装ユニット上の目標位置に精度よく、間違いなく不良マーキングを行うことができ、ＩＣ実装時などにおいて、不良マークの位置ずれによる認識不良が低減可能な電子部品実装用フィルムキャリアテープ、および電子部品実装用フィルムキャリアテープの不良マーキング方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of discriminating an appearance defect with which, a plating cell in which an appearance defect occurs, can be promptly specified by discriminating such an appearance defect from an actual current waveform during electroplating, in place of the specification of a troubled position ( a plating cell where a defect occurred) with a determination based on experiential rules, and trial and error.例文帳に追加

経験則、試行錯誤による判断に伴う不具合箇所（不良発生めっきセル）の特定に替えて、電気めっきの際の実際の電流波形から、外観不良を判別することにより、かかる外観不良が発生しているめっきセルを迅速に特定することができる外観不良判別方法を提供する。 - 特許庁

Depending on a detected position state at inspection, the position coordinates of a detected defect or contamination is corrected based on the central coordinates of the workpiece.例文帳に追加

そして、検出された被検査時の位置状態に応じて、検出された異物や欠陥の位置座標を、被検査物の中心座標を基に補正するように構成した。 - 特許庁

There is registered a position corresponding to an error defect position of the recording layer being reproduced of the recording layer arranged at a lower layer of the recording layer being reproduced.例文帳に追加

また、データ再生中の記録層に対して下層側に配置された記録層の、データ再生中の記録層の誤り欠陥位置に対応する位置の欠陥登録を行う。 - 特許庁

The wiring board is manufactured through a wiring part forming stage, an optical inspection stage of detecting a defective wiring part where a defect occurs, and a defect correcting stage of correcting the defect of the defective wiring and in the defect correcting stage, a defect correction procedure previously stored in a database is read out selectively corresponding to the position relation between the defect and a finite number of regions constituting a wiring.例文帳に追加

配線基板の製造を、配線部形成工程と、欠陥が生じた欠陥配線部を検出する光学検査工程と、欠陥配線部の欠陥の修正を行う欠陥修正工程とによって行い、欠陥修正工程において、予めデータベースに蓄積された欠陥修正手順を、欠陥と、配線部を構成する有限数の領域との位置関係に対応して選択的に読み出して前記修正を行う。 - 特許庁

To easily confirm a repair result in illumination inspection of a final stage by finding a defect to be repaired by using coordinate data representing a defect position calculated from image defect inspection and electric operation confirming inspection carried out before a repair stage.例文帳に追加

リペア工程前に行われる画像欠陥検査及び電気的動作確認検査から算出される欠陥位置を示す座標データを用いてリペアすべき欠陥を求め、最終工程の点灯検査においてリペア結果の確認が容易にできるようにする。 - 特許庁

To provide a device and method for detecting defects of an object to be measured for specifying a defect generating factor by detecting a detailed position of an insulation defect generating part and determining the defect state inside an apparatus such as a miniaturized power module increasing in density.例文帳に追加

小型・高密度化するパワーモジュールのような機器内部の絶縁欠陥発生箇所の詳細な位置検出および欠陥状態の判別をすることで欠陥発生要因の特定を行うことのできる被測定物の欠陥検出装置と方法を提供する。 - 特許庁

Recording or reproducing operation is carried out by moving the beam spot of an optical pickup so as to avoid the specified position of the defect part.例文帳に追加

記録または再生動作は、該特定した欠陥部位置を回避するように光ピックアップのビームスポットを移動させて行う。 - 特許庁

By altering the position of the defect on the design data, the defective fraction can be reduced and the yield can be improved.例文帳に追加

また、欠陥の位置を設計データ上で変更させることにより、不良率を下げて歩留まりの向上を図ることができる。 - 特許庁

The edge of a semiconductor wafer is inspected using the imaging method to find the defect position and the form in this way.例文帳に追加

半導体ウェハのエッジをイメージング方法を用いて検査し、エッジ上の欠陥の位置および形状をこのようにして求める。 - 特許庁

To provide a means capable of promptly and easily identifying a defect position of a plurality of conductive patterns formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成された複数本の導電パターンの欠陥位置を迅速かつ簡易に特定できる手段を提供する。 - 特許庁

The control part 112 repeats the determination while narrowing the external form of the defect based on the determined position and the range.例文帳に追加

制御部１１２は、決定した位置と上記範囲とに基づいて欠陥の外形を狭めながら、上記の決定を繰り返す。 - 特許庁

To provide a video camera capable of recognizing the position of the defective pixel of a solid-state image pickup element and correcting a defect by an inexpensive circuit.例文帳に追加

固体撮像素子の欠陥画素の位置を認識し、安価な回路で補正を行なうことが可能なビデオカメラを提供する。 - 特許庁

To provide technology capable of carrying out photographing and processing for correcting a pixel defect by having only to change the position of a moving member.例文帳に追加

可動部材の位置を変えるだけで、撮影を行ったり、画素欠陥を補正する処理を行ったりすることができる。 - 特許庁

To provide a method for determining machining defects of a cast product, which method can effectively utilize a defect data showing the position of the defect obtained by a casting simulation, etc. in the case of manufacturing an actual cast product.例文帳に追加

鋳造シミュレーションなどにより得られた欠陥位置を示す欠陥データを実際の鋳造品の製造に対して有効利用できる鋳造品の加工不良判定方法の提供。 - 特許庁

By performing the friction stirring by changing the position of occurrence of the defect 91 to the environment of high stirring pressure, the sound welded part 90 with the defect 91 diminished can be consistently obtained (4).例文帳に追加

欠陥９１の発生位置を攪拌圧力の高い環境に変化させて摩擦攪拌を実施することで、欠陥９１が消滅した健全な接合部９０を安定して得ることができる（４）。 - 特許庁

The three-dimensional position of the defect in the stay vane and the size of the defect are calculated based on respective abutting positions in the stay vane of the ultrasonic probe, received echo information, and the measured three-dimensional shape.例文帳に追加

そして、超音波探触子のステーベンにおける各当接位置、エコー受信情報、及び測定した三次元形状に基づいてステーベンにおける欠陥の３次元位置と欠陥規模とを算出する。 - 特許庁

To provide a method of detecting a defect position of a semiconductor wafer, in which a defect such as chipping smaller than a notch and cracking in a wafer outer peripheral region off a pattern can be precisely detected.例文帳に追加

ノッチより小さい微細な欠けやパターンから外れたウエハ外周領域の割れなどの欠陥を精度よく検出することができる半導体ウエハの欠陥位置検出方法を提供する。 - 特許庁

A virtual movement distance is specified based upon the detected pixel defect position and a 1st pixel defect correction table is generated based upon the 1st image and the specified virtual movement distance.例文帳に追加

そして、上記検出された画素欠陥位置に基づき仮想の移動距離を特定し、上記第１の画像と上記特定された仮想の移動距離に基づき第１の画素欠陥補正テーブルを生成する。 - 特許庁

To provide a technology which discriminates a defect on an optical disk from disturbance applied to an optical disk device, detects only defects, and stably controls the position of a light spot when the optical spot passes through the defect.例文帳に追加

光ディスク上の欠陥と、光ディスク装置に加えられた外乱とを区別し欠陥のみを検出し、光スポットが欠陥通過時に安定な光スポットの位置制御が可能となる技術を提供する。 - 特許庁