| 例文 (677件) |
defect positionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 677件
To provide an IC handler capable of grasping an abrasion state between a guide pin and a guide hole, and previously preventing occurrence of an inspection defect caused by abrasion, concerning the IC handler for performing position adjustment when mounting an IC chip on an inspection socket by engaging the guide pin with the guide hole.例文帳に追加
ICチップを検査ソケットに装着する際の位置調整を、ガイドピンとガイド孔とを係合させることによって行うICハンドラにおいて、該ガイドピンと該ガイド孔との摩耗状態を把握することができ、摩耗による検査不良を未然に起こさないようにすることができるICハンドラを提供する。 - 特許庁
The presence of the outer layer defects which are needed to remove is judged on the basis of the repair standard which is beforehand determined about the outer layer defect data of the cast slab obtained by specifying the three-dimensional position and the size of the outer layer defects in the cast slab and the outer layer defects which are needed to remove are removed in a cast slab repairing stage.例文帳に追加
鋳片における表層欠陥の三次元位置および大きさを特定し、得られた鋳片表層欠陥データについて、予め定められた手入基準に基づき除去を必要とする表層欠陥の有無を判別し、除去を必要とする表層欠陥を鋳片手入工程で除去する。 - 特許庁
The film carrier tape for mounting electronic component 10 having a mounting unit where a wiring pattern 22 is formed on a substrate by etching and the final defect marking method of the film carrier tape for mounting electronic component are characterised in that the unit has a target mark 30 being a reference for positioning to perform final defect marking in the target position on the mounting unit by a marking means.例文帳に追加
基材上にエッチングにより配線パターン22を形成した実装ユニットを有する、電子部品実装用フィルムキャリアテープ10であって、前記実装ユニットは、前記エッチングにより前記基材上に形成したパターンとして、マーキング手段により前記実装ユニット上の目標位置に最終不良マーキングを行うための位置合わせの基準となるターゲットマーク30を有することを特徴とする電子部品実装用フィルムキャリアテープ、および電子部品実装用フィルムキャリアテープの最終不良マーキング方法。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus including a hybrid type developing device provided with a plurality of toner carriers, wherein a magnetic pole position of a magnet roller included in a developer carrier is adjusted to an appropriate position for each toner carrier with simple constitution, and a developing interval between an image carrier and each toner carrier is kept uniform, whereby an image defect is suppressed to form a clear high-quality image.例文帳に追加
複数のトナー担持体を設けたハイブリッド方式の現像装置を備えた画像形成装置において、簡単な構成により、現像剤担持体に内包された磁石ローラの磁極位置を、それぞれのトナー担持体に対して適正位置に調整することができ、また像担持体とそれぞれのトナー担持体の現像間隔を均一に保つことにより、画像不良を抑制し、鮮明で高品質な画像形成が可能となる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The liquid crystal display device includes: a liquid crystal panel 2; a backlight 6 irradiating the liquid crystal display panel 2 with light from the rear surface side thereof and constituted of an LED panel; a control part controlling luminance of each of LEDs 63 of the LED panel in a predetermined set value; and an input I/F part in which position information of a pixel 21a in which the bright spot defect is generated is input.例文帳に追加
液晶表示装置は、液晶パネル2と、液晶パネル2にその背面側から光を照射するLEDパネルで構成されたバックライト6と、LEDパネルの各LED63の輝度を予め定められた設定値とする制御部と、輝点不良が生じた画素21aの位置情報が入力される入力I/F部とを備える。 - 特許庁
To provide a printed matter inspecting apparatus which can accurately detect original printing defects such as duplicative printing, missing pages, blank characters or printing smudges not to be permitted as a printed matter by preventing printing position deviation of a degree permissible as the printed matter from being detected as the printing defect, and to provide a printed matter inspecting method.例文帳に追加
印刷物として許容される程度の印刷位置ズレを印刷不良として検出することを防止し、印刷物として許容されるべきでない印刷の重複、落丁、文字欠け、印刷汚れ等の本来の印刷不良を精度よく検出することができる印刷物検査装置、及び印刷物検査方法を提供する。 - 特許庁
In electron irradiation observation from a normal direction on the surface of a wafer WF using a first column 8 of a scanning electron microscope; when it is determined that a defect is caused by releasing, an edge of the wafer WF is moved to an imaging position of the second column 16 of the scanning electron microscope by an XYθ stage 24, and the edge of the wafer WF is observed obliquely.例文帳に追加
走査型電子顕微鏡の第一カラム8によるウェハWF表面の法線方向からの電子照射観察において、欠陥がはがれに起因すると判定される場合に、XYθステージ24によってウェハWFのエッジを走査型電子顕微鏡の第二カラム16の撮像位置に移動し、斜方からウェハWFのエッジを観察する。 - 特許庁
A position in the material roll before the optical films F11, F21 bonded to the optical display unit W are cut is specified based on the panel information corresponding to the optical display unit W of the optical display device determined by the inspection of an inspecting apparatus 30 that a defect exists, and the roll information coordinated to the panel information.例文帳に追加
検査装置30の検査により欠点があると判断された光学表示装置の光学表示ユニットWに対応するパネル情報と、当該パネル情報に対応付けられたロール情報とに基づいて、当該光学表示ユニットWに貼り合せられている光学フィルムF11,F21が切断される前のロール原反における位置を特定する。 - 特許庁
This signal processing means 2 detects, as an echo signal, a flaw detection signal having a height of a predetermined threshold or higher, among flaw detection signals output from the ultrasonic probe 1, and, determines the existence of the defect when continuously detecting the echo signal in the axial direction of the pipe P at a specific position of the circumferential direction of the pipe P.例文帳に追加
信号処理手段2は、超音波探触子1から出力される探傷信号の内、所定のしきい値以上の高さを有する探傷信号をエコー信号として検出し、該エコー信号を管Pの周方向の特定位置において管Pの軸方向に連続的に検出したときに、欠陥が存在すると判定する。 - 特許庁
By attaching an ultrasonic receiver which receives SH wave and an ultrasonic transmitter which sends SH wave through a coupling medium on an exposed surface of a concrete structure 11 of which the part is laid underground, and by analyzing the pattern of the SH wave the receiver receives, the position or size of a defect of the concrete structure 11 can be detected.例文帳に追加
地盤にその一部が埋設されたコンクリート構造物11の露出面にSH波を受信する超音波受信子とSH波を発信する超音波発信子とを接触媒質を介して密着させ、前記受信子で受信されるSH波のパターンを解析してコンクリート構造物11の欠陥の位置やサイズを検出する。 - 特許庁
The visual inspection method conducted in the inspection of the construction work comprises establishing plane coordinates on the surface or on the floor of the object to be inspected such as individual room or a section of the divided partition, and the position of a defect found in the inspection is specified by numerals according to the coordinates.例文帳に追加
建築工事の検査において実施する目視検査方法であって、検査の対象となる1室ごとに、または分割された1区画ごとにその床面に、あるいは検査の対象となる面ごとに平面座標を設定し、検査にて発見された不具合の位置を前記座標上の数値で特定することを特徴としている。 - 特許庁
To provide an inspection method and device for a semiconductor device which can discriminate a defect position in the semiconductor device, even if it is the case where voltage is applied to a non-electrode plane which does not form an electrode of the semiconductor device, by using infrared ray irradiated to non-electrode plane or infrared ray radiated from non-electrode plane.例文帳に追加
半導体装置の電極を形成していない非電極面に電圧を印加する場合であっても、非電極面へ照射される赤外線、又は非電極面から放射される赤外線を用いて、半導体装置の欠陥部位を容易に判別できる半導体装置の検査方法、及び半導体装置の検査装置を提供すること。 - 特許庁
When an engine is operating, a vehicle speed is zero, a transmission is set to a neutral position, and a clutch is engaged, a clutch disengagement defect detection means 425 instructs the clutch control means 421 to completely disengage the clutch, and the clutch control means 421 gives the target value of the maximum clutch stroke for disengaging the clutch to an actuator 35 for disengaging/engaging the clutch.例文帳に追加
エンジン稼動時かつ車速がゼロ、ニュートラル状態で、クラッチが接状態にあるときに、クラッチ切れ不良検出手段425は、クラッチ制御手段421に対してクラッチを完全に切断するよう指示し、クラッチ制御手段421は、クラッチを切断するための最大のクラッチストローク目標値をクラッチ断接用アクチュエータ35に与える。 - 特許庁
A magnetic inspection equipment 4 is composed of a magnetizer 5 for impressing a magnetic field to a running steel plate 1, magnetic sensors 6a, 6b arranged in a position opposed to the magnetizer 5 to sandwich the steel plate 1, and a signal processor 7 for detecting a defect 8 in the inside or surface of the steel plate 1 based on detection signals from the sensors 6a, 6b.例文帳に追加
磁気探傷装置4は、走行状態の鋼板1に磁界を印加する磁化器5と、鋼板1を挟んで磁化器5の対向位置に配設された磁気センサ6a、6bと、この磁気センサ6a、6bからの検出信号に基づいて鋼板1の内部または表面の欠陥8を検出する信号処理装置7とで構成されている。 - 特許庁
To provide a welding structure which prevents the generation of a welding defect even when a certain degree of deviation of a position where the welding is required with respect to a welding torch happens in the axial direction in a welding structure for welding the external peripheral part of an annular body abutting along a spherical surface or a conical surface in a circumferential direction with respect to the spherical surface or the conical surface.例文帳に追加
球面もしくは円錐面に沿って当接する環状体外周縁部を球面もしくは円錐面に対し円周方向に溶接するための溶接構造において、溶接トーチに対する溶接必要位置に軸方向に多少のずれが発生しても、溶接不良の発生を防止することができる溶接構造の提供。 - 特許庁
A single or a plurality of apertures are formed in the vicinities of solder balls of the integrated circuit device, a distance between the printed board and the integrated circuit device is measured by using a measuring means such as laser light from the opposite side of the side on which the integrated circuit device is packaged, and the contact defect position of the integrated circuit device is estimated by using the measured value.例文帳に追加
プリント基板のうち、集積回路デバイスのはんだボール近くに単数または複数の開口部を設け、プリント基板と集積回路デバイスとの距離を、集積回路デバイスが実装された側の反対側からレーザ光等の測定手段を用いて測定し、その値を用いて集積回路デバイスの接触不良箇所を推定する。 - 特許庁
To enable quick determination of the angle of refraction or the propagation velocity of an ultrasonic wave in the incidence of the ultrasonic wave, even if a specimen is acoustically anisotropic in an ultrasonic flaw detector and moreover, holding of the angle of refraction within a fixed range as required by eventually specifying the position of a defect in a short time.例文帳に追加
超音波探傷装置において、音響異方性のある被検体であっても超音波が入射するときの屈折角あるいは超音波の伝播速度を迅速に求めることを可能とし、その結果、短時間で欠陥の位置を特定でき、さらに、音響異方性のある被検体についても、必要に応じて屈折角を一定の範囲に抑えることを可能にする。 - 特許庁
The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加
描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び/又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁
In particular, data is managed using the information stored in a defect management area in order to maximally prevent occurrence of errors in reading or writing due to a change in a physical position of a real-recorded file which are caused by wrong calculation of the start logical sector numbers for each zone when other recording and/or reproducing apparatus is going to read or write data.例文帳に追加
特に、各ゾーンのための開始論理セクター番号が間違って計算された場合に実際記録されるファイルの物理的な位置が変わって、他の記録及び/または再生装置で読出しまたは書込みしようとする場合、ファイルの位置が間違って読出しエラーや書込みエラーが発生することを最大限防止するために欠陥管理エリアに貯蔵された情報を用いてデータを管理する。 - 特許庁
The central arithmetic processor 3 detects the position of the inspection object from the image data and adjusts the arrangement of respective fine areas so that the fine areas are arranged in the inspection object area, and then detects the density value of each fine area to decide whether there is a flaw or defect from the relative variation quantity of the density value of each fine area.例文帳に追加
中央演算処理装置3は、画像データより検査対象領域の位置を検出し、検査対象領域の検出位置に基づいて、複数の微少エリアが検査対象領域内に配置されるよう各微少エリアの配置を調整した後、各微少エリアの濃度値を検出し、各微少エリアの濃度値の相対的な変化量から傷及び欠陥の有無を判定する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus equipped with an intermediate transfer body, which can prevent an image defect such as back staining by surely cleaning an image remaining on the intermediate transfer body even though much developer adheres to the intermediate transfer body when timing that transfer material delays to reach a secondary transfer position results, and further whose productivity is restrained from lowering.例文帳に追加
中間転写体を備えた画像形成装置において、転写材が二次転写位置へ遅延するタイミングが生じた場合に、大量の現像剤が中間転写体に付着しても、中間転写体上の残留画像を確実にクリーニングし、裏汚れ等の画像欠陥を防止することができ、更に、生産性の低下を抑えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To enhance the reliability of automatic opening/closing of a platen by eliminating a defect such as a decrease in the precision of the automatic opening/closing of the platen, while satisfying the purpose of improving the easiness of the adjustment of a stop position of an FT lever; and to enhance the reliability of control for switching a printing speed and switching the setting of printing density by determining printing paper for use.例文帳に追加
本発明は、FTレバーの停止位置調整の容易性向上の目的を満足しつつ、プラテン自動開閉の精度低下といった欠点をなくし、プラテン自動開閉の信頼性向上を図り、印刷速度の切り替えおよび使用印字用紙を判断し印字濃度の設定切り替えを実施する制御の信頼性向上を達成することを課題とする。 - 特許庁
The control means transmits the failure information through the base station to the server in particular when the mobile station is reactivated or position registration processing is performed, and when the server is not accessed due to a connection defect with the base station, stores the failure information until another base station is connected and transmits the failure information through another base station to the server after the communication with another base station is restored.例文帳に追加
制御手段は特に、移動局の再起動時、あるいは位置登録処理に際し、不具合情報を基地局経由でサーバに送信し、基地局との接続不良により前記サーバにアクセスできない場合には他の基地局と接続できるまで不具合情報を記憶し他の基地局との通信復旧後に不具合情報を他の基地局経由でサーバに送信する。 - 特許庁
To provide an inspection method allowing the measurement of a position of a defect of an inspection object in the thickness direction of inspection object in a method of inspecting an optical display unit by emitting light from one direction of the optical display unit provided with an optical film, imaging a transmission optical image of the light in another direction, and detecting a bright spot from an image obtained by the imaging.例文帳に追加
その目的は、光学フィルムが設けられた光学表示ユニットの一方面から光を照射し、その他方面で当該光の透過光像を撮像し、当該撮像した画像から輝点を検出する、光学表示ユニットの検査方法において、検査対象物の欠点の、検査対象物の厚み方向の位置を測定可能とした検査方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a microscope objective lens with a socket type frame for position correction which is applicable by being combined with various cover glasses and/or various liquid immersion liquid and/or at various working temperature, which can be moved in an axial direction, which can be used instead of a compression spring used for the microscope objective lens and other objective lens and further which can remove a defect of the spring.例文帳に追加
様々なカバーガラスおよび/または様々な液浸液と組み合わせて、および/または様々な作業温度において適用可能な軸方向に移動でき、顕微鏡対物レンズおよびその他の対物レンズに使用される圧縮バネの代わりになり、しかもバネの欠点を取り除くことができる位置修正用ソケット型フレームの付いた顕微鏡対物レンズ。 - 特許庁
Defects imaged in the respective selected inspection images are correlated, and processing is carried out to compose one two-dimensional composition image 100 from the respective selected inspection images, based on defect position information input as information indicating positions of the defects imaged in the respective selected inspection images, when receiving an instruction to select at least two out of the two or more of inspection images, and the composition image 100 is displayed.例文帳に追加
また、そのうち少なくとも2枚を選択する指示が受け付けられると、選択された各検査画像に写っている欠陥の位置を示す情報として入力される欠陥位置情報に基づいて、選択された各検査画像に写っている欠陥同士を関連付けて、選択された各検査画像から1枚の2次元合成画像100を合成する処理が行われ、合成画像100が表示される。 - 特許庁
The FM demodulation is stably performed without causing bit slip even when the wobble signal is deformed due to the defect of the medium, etc., by determining a synchronization state from the continuously detected number of edges of the wobble signals existing by every bit of digital information and operating the wobble demodulation device so as to lock an output position of a window for detecting the edges when the wobble signals are determined as a synchronized lock state.例文帳に追加
ディジタル情報の1ビット毎に存在するウォブル信号のエッジの連続検出数から同期状態を判定し、同期ロック状態と判定した時にはエッジを検出するウィンドウの出力位置をロックするように動作することにより、媒体のディフェクト等によりウォブル信号が変形した場合でもビットスリップを起こすことなく安定してFM復調を行うことが可能となる。 - 特許庁
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