「defect position」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To detect a defect position in which a detection of an image formed based on a detecting content of secondary particles to be radiated by irradiating the image with a charged beam is difficult.例文帳に追加

荷電ビームの照射により放出される２次粒子の検出量をもとに形成する画像からは検出が困難であった欠陥箇所を検出する。 - 特許庁

This system is constructed for extracting feature value from a position, in which occurrence of an electric property defect due to influence of a board layout is expected, in inputted board layout information.例文帳に追加

本発明では、入力された基板レイアウト情報の基板レイアウトの影響による電気特性不良の発生が予測される位置から特徴量を抽出する。 - 特許庁

An initial defect correction means 202 corrects digital image information by using initial defective pixel position information previously known at the time of shipment from a plant or the like.例文帳に追加

初期欠陥補正手段２０２は、工場出荷時等で予め分かっている初期欠陥画素位置情報を用いて、ディジタル画像情報を補正（修正）する。 - 特許庁

With only one movable optical element, a target position in which the overall image defect is minimized can be directly calculated (25) and adjusted (26) there from.例文帳に追加

可動光学部材が１つだけのときは、そこから直接的に、全体的結像収差が最低に抑えられる目標位置を算出し(25)、設定することができる(26)。 - 特許庁

The defect inspection apparatus 1 includes a coordinate table setting part 6 for setting a coordinate table 6a, which indicate the relation between the irradiating position of a laser light 5a and the order of irradiation.例文帳に追加

欠陥検査装置１は、レーザ光５ａの照射位置とその照射順序との関係を示す座標テーブル６ａを設定する座標テーブル設定部６を有する。 - 特許庁

When it is the record to the prescribed position related to the last address, a defect control table, exclusive information for the system, and lead out are all shifted forward by the prescribed length.例文帳に追加

最終アドレスに関連した所定の位置への記録の場合であれば、欠陥管理テーブル、システム専用の情報およびリードアウトごと所定の長さだけ手前にずらす。 - 特許庁

To specify a soiled position when an image defect is caused by toner or the like in an image forming device equipped with plural image forming parts.例文帳に追加

複数の画像形成部を備えた画像形成装置において、トナー等が原因で画像欠陥が生じた場合、その汚れの位置を特定することを課題とする。 - 特許庁

To rapidly and accurately evaluate the XYZ coordinate position and shape of a defect existing in a transparent material, such as lens material composed of metal fluoride single crystal.例文帳に追加

金属フッ化物単結晶からなるレンズ硝材などの透明材料中に存在する欠陥のＸＹＺ座標位置及びその形状を迅速にかつ正確に評価する。 - 特許庁

A defect detecting apparatus 13a is installed in the position of a bridle roll 13a to suppress the fluttering of the band steel, lift-off fluctuation by the deformation of the strip and the contact with a sensor of the band steel.例文帳に追加

欠陥検出装置１３ａは、板ばたつき、板変形によるリフトオフ変動やセンサへの鋼帯の接触を抑えるため、ブライドルロール１３ａ位置に設置される。 - 特許庁

A correction part 30 is installed at a position where a defect included in either region obtained, by dividing a substrate 2 into two equal parts with a straight line in the Y-axis direction can be corrected.例文帳に追加

修正部３０は、基板２をＹ軸方向の直線で２等分した片方の領域に含まれる欠陥を修正することができる位置に設置される。 - 特許庁

That is, it is unnecessary that the edge 9a of the object to be welded 9 is scanned with the laser beam, and hence a weld defect due to the deviation or the fluctuation of a scanning position does not take place.例文帳に追加

すなわち、レーザ光を溶接対象物９の縁９ａに沿って走査させる必要がないため、走査位置のズレやブレによる溶接ミスが生じない。 - 特許庁

To provide an inexpensive and high-resolution surface defect inspecting apparatus and its method for making a line sensor accurately track a location and a position fluctuation in an inspecting object.例文帳に追加

本発明は、被検査物の位置や姿勢変動にラインセンサを精度よく追従し、低コストで高解像度化が容易な表面欠陥検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

A change in electrification current for each plating cell is measured by a plating rectifier and from the waveform change of the electrification current, and the position where a plating appearance defect occurs is specified.例文帳に追加

各めっきセル毎の通電電流の変化を、めっき整流器により測定し、該通電電流の波形変化により、めっき外観不良の発生箇所を特定する。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus flexibly adaptable to a diversified small-quantity production and easily forming a smooth and defect-free pattern on a desired position.例文帳に追加

少量多品種生産に柔軟に対応でき、かつ滑らかで欠陥のないパターンを所望位置に形成し易いパターン形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this device equipped with an illumination spot illuminance distribution data table for storing the illuminance distribution in the illumination spot, the coordinate position and the particle size calculation of the foreign matter or the defect are performed based on detection light intensity data from the foreign matter or the defect and the illumination spot illuminance distribution data table.例文帳に追加

照明スポット内の照度分布を格納する照明スポット照度分布データテーブルを備え、異物・欠陥からの検出光強度データと、この照明スポット照度分布データテーブルに基づいて異物・欠陥の座標位置および粒径算出を行う。 - 特許庁

An analysis processing part 23 of an analyzing device 12 performs analysis processing for specifying a processor that has caused the defect based on the placement position information on the processed body in each processor 13 and defect information detected by the inspecting device 14.例文帳に追加

そして、解析装置１２における解析処理部２３が、各処理装置１３における被処理体の載置位置情報と、検査装置１４によって検出された欠陥情報とに基づいて、欠陥を生じさせた処理装置を特定する解析処理を行う。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspection device capable of detecting a defect with high inspection accuracy even when a pattern is formed with a transparent film on an object under inspection and the film thickness of the transparent film is varied according to the position on the object under inspection.例文帳に追加

被検査物体上に透明薄膜でパターンが形成されていて、その透明薄膜の膜厚が被検査物体上の位置によって変化している場合においても、高い検査精度で欠陥を検出できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To surely mark a defect position so as to encircle a defect of pressing flaw, scratch, etc., generated in rolling and to easily identify presence/absence and the defective positions of a steel plate in visual inspection.例文帳に追加

圧延時に生じた押し疵や擦り疵等の欠陥を囲むように欠陥位置を示すマーキングを鋼板表面に確実に施すことができ、この結果、客先での鋼板の目視検査時において、鋼板に存在する欠陥の有無および位置を容易に認識することができる。 - 特許庁

The control part 401 discriminates a scanning finished domain from a scanning unfinished domain, based on the defect inspection result data, displays the result on a monitor 402, discriminates a defect detection position in the scanning finished domain, and displays the result on the monitor.例文帳に追加

制御部４０１は、欠陥検査結果データに基づいて、走査終了領域及び走査未終了領域を識別して、モニタ４０２上に表示させるとともに、走査終了領域中の欠陥検出位置を識別して、モニタ上に表示させる。 - 特許庁

By comparing an integral value by each prescribed block of a shade area with a reference value, a defect of the shade area is detected when there exists a block whose integral value is the reference value or over so as to set a photometric frame of a light receiving area on the basis of the position of the block whose defect is detected.例文帳に追加

遮光領域の所定ブロック毎の積分値と基準値を比較し、積分値が基準値以上のブロックがあった時に遮光領域の異常を検出し、異常が検出されたブロックの位置に基づいて受光領域の測光枠を設定する。 - 特許庁

The valve 9 thus does not pass through the R position when the D range is switched to the P range and when the N range is switched to the P range, as a result, the defect caused by R range achievement due to the stop of the valve 9 at the R position can be prevented.例文帳に追加

よってＤ→Ｐレンジ切り替え時や、Ｎ→Ｐレンジへの切り替え時に、弁９がＲ位置を経由しないこととなり、弁９がＲ位置に止まってＲレンジが達成される故障が発生するのを防止することができる。 - 特許庁

Thus, a portion that could not be video-recorded due to a data defect caused during time-shift playback can be acquired until starting playback and the acquired substitute data is allocated to the defective position, thereby performing playback at the defective position.例文帳に追加

これにより、タイムシフト再生中にデータ欠損が生じて録画できなかった部分を、その再生開始までに取得することができ、取得した代替データを欠損位置に割り当てることで欠損位置での再生が可能となる。 - 特許庁

Then, a defect determining part determines that a pixel is defective when a difference between the value of the pixel signal in the center position and the values of the pixel signals excluding that in the center position is greater than or equal to the threshold value (S28), and the pixel signal in question is corrected (S29).例文帳に追加

そして中央の位置の画素信号の値と、中央の位置を除く画素信号の値とが、閾値以上差がある場合に欠陥画素であると欠陥判定部で判定し（Ｓ２８）、該当する画素信号を補正する（Ｓ２９）。 - 特許庁

Defect information for each cluster consisting of continuous 4ECC blocks is stored in an area from BPO to BP9209 in the first half out of area from first byte position BPO to 18420th byte position BP18419.例文帳に追加

１番目のバイト位置ＢＰ０から１８４２０番目のバイト位置ＢＰ１８４１９までのうち、前半分のＢＰ０からＢＰ９２０９までのエリアには、連続する４ＥＣＣブロックからなるクラスタ毎の欠陥情報が格納される。 - 特許庁

A threshold set when the internal defect of the bandlike body S is detected is set to be varied along a plate thickness direction of the bandlike body S, and a threshold in a surface layer position in the plate thickness direction is thereby made small compared with the center position in the plate thickness direction.例文帳に追加

帯状体Ｓの内部欠陥を検出する際に設定するしきい値を、帯状体Ｓの板厚方向において変化するように設定して板厚中心位置に比べ板厚表層位置でのしきい値を小さくする。 - 特許庁

Thus, a position deviation of the electronic component and printed solder is not generated, the mounting defect to be generated at the time of reflow due to the position deviation is prevented, and mounting work of the electronic component is highly efficiently performed.例文帳に追加

これにより電子部品と印刷された半田との位置ずれが発生せず、この位置ずれに起因してリフロー時に発生する実装不良を防止するとともに、電子部品の実装作業を高い効率で行うことができる。 - 特許庁

A divided zone in the circumferential direction of an optical disk is associated with a rotation control pulse generated corresponding to the rotation of a spindle motor for the rotation of the optical disk to specify the position of a defect part on the recording surface of the optical disk based on the rotation control pulse and to discriminate whether to avoid the position of the defect part in recording or reproducing.例文帳に追加

光ディスク回転用のスピンドルモータの回転に対応して発生する回転制御パルスに、光ディスクの周方向の分割ゾーンを対応付け、該回転制御パルスに基づいて該光ディスクの記録面上の欠陥部位置を特定するとともに、記録または再生時に該欠陥部位置を回避するか否かを判別する。 - 特許庁

Even if a standard pixel 12 itself which is a standard for position calculation of each pixel 11 on the display panel has a defect, the center position 13A of a peripheral pixel 13 in the periphery of the standard pixel 12 is detected, and the center position 12A of the standard pixels 12 can be calculated based on the center position 13A of the peripheral pixel 13.例文帳に追加

表示用パネルにおける各画素１１の位置算出の基準となる基準画素１２そのものに欠陥があったとしても、基準画素１２周辺の周辺画素１３における中心位置１３Ａを検出し、この周辺画素１３の中心位置１３Ａに基づいて基準画素１２の中心位置１２Ａを算出することができる。 - 特許庁

A coordinate difference information for each of defect inspection devices 41 and 42 is stored beforehand in an image observation SEM storage device 45, and the difference information is used to calibrate a defect position coordinate outputted from the devices 41 and 42 for a coordinate value as a coordinate value for the image observation SEM.例文帳に追加

像観察ＳＥＭの記憶装置４５に、予め欠陥検査装置４１，４２毎の座標誤差情報を記憶しておき、その誤差情報を用いて欠陥検出装置４１，４２から出力された欠陥位置座標を像観察ＳＥＭ用の座標値に校正する。 - 特許庁

To provide a defective pixel detection method and an image processing apparatus, which can accurately detect a position, in which image correction is required, to accurately perform image correction even in the case where normal pixels adjacent to a line defect generate abnormal output signals due to an influence of the line defect.例文帳に追加

線欠陥の影響により、隣接する正常な画素が異常な出力信号を発生する場合でも、画像補正が必要な箇所を正確に検出し、正確に画像補正することができる欠陥画素検出方法および画像処理装置を提供する。 - 特許庁

When the integrated circuit chip on the semiconductor wafer is inspected after the exposure and any pattern defect is found out; the operating information by each pulse in cross-reference with the information of the lot number of the semiconductor wafer whose defect is found out, and the information of the integrated circuit chip position is acquired from the stored information items.例文帳に追加

露光後に半導体ウェーハ上の集積回路チップを検査し、パターン不良が発見された場合は、記憶した情報の中から不良が発見された半導体ウェーハのロット番号の情報及び集積回路チップ位置の情報に対応するパルス毎の動作情報を取得する。 - 特許庁

In a method for writing, a position of a first data sector on a disk where write operation fails is located, the first data sector and a plurality of other data sectors near the first data sector are identified as a grown defect, and the locations of the first data sector and the plurality of other data sectors are stored in a grown defect list.例文帳に追加

書き込み方法は、書き込み動作が失敗したディスク上の第１データセクタの位置を見つけ、第１データセクタと第１データセクタ近傍にある複数の他のデータセクタを後発欠陥として特定し、第１データセクタと複数の他のデータセクタの位置を欠陥リストに格納する。 - 特許庁

To provide a multi-color thermal recording material which can detect the coating defect of the upper layer thermal coloring layer in a thermal coloring layer made of two layers in the multi-color thermal recording material, and to provide the manufacturing process of the multi-color thermal recording material which excludes a coating defect position.例文帳に追加

多色感熱記録体において、２層からなる感熱発色層中の上層の感熱発色層の塗工欠陥検出を可能した多色感熱記録体および塗工欠陥箇所を排除する多色感熱記録体の製造方法に関するものである。 - 特許庁

When a defect 3 such as a lattice defect or the like in a material 2 to be measured is detected and evaluated by utilizing position annihilation for generating γ-rays from a positron as it annihilates, X-rays are radiated toward the material 2, and a pulse positron group is generated in the material 2.例文帳に追加

消滅する際のポジトロンがγ線を生じさせる陽電子消滅を利用して被測定物２内における格子欠陥などの欠陥３を検出し評価する際、Ｘ線を被測定物２に照射して被測定物２内にてパルスポジトロン群を発生させる。 - 特許庁

The determination is carried out by discriminating an existence of a defect in the measurement position in accordance with whether or not the intensity of the P polarized light component is within the reference intensity range and whether or not the intensity of the S polarized light component is within the reference intensity range and discriminating the type when there is a defect.例文帳に追加

この判定は、Ｐ偏光成分の強度が基準強度範囲外であるか否かとＳ偏光成分の強度が基準強度範囲外であるか否かとに応じて、測定位置での欠陥の有無を判別し且つ欠陥がある場合にはその種類を判別することでなされる。 - 特許庁

Defect position data is acquired from a plurality of kinds of examination devices such as a bus line resistance device or an electric characteristic examination device 4 and a defect examination device 3 for appearance examination and is collated in a collation part 9 to generate data obtained by narrowing down the correction objects more.例文帳に追加

バスライン抵抗装置もしくは電気的特性検査装置４、および外観検査による欠陥検査装置３など、複数種類の検査装置から欠陥位置データを取得して、照合部９にて照合することによって、修正対象をより絞り込んだデータを作成する。 - 特許庁

This plate glass is sorted to make, as a defective, the plate glass having the maximum dimension of 30 μm or more of internal defect, and having the maximum depth or maximum height exceeding 0.1 μm with respect to a translucent face in a translucent partial area corresponding to a position of the internal defect, and to make the other plate glasses as nondefectives.例文帳に追加

内部欠陥の最大寸法が３０μｍ以上であり、かつ、内部欠陥の位置に対応する透光面一部領域の透光面に対する最大深さ又は最大高さが０.１μｍを超える板ガラスを不良品とし、それ以外の板ガラスを良品として選別する。 - 特許庁

Radiation transmitted through a subject is radiated on the imaging panel 11, which is developed as a second image data and written in the image memory part 20, and the image data of the position indicated in the defect information memorized in the defect information memory part 26 is corrected to acquire the preferable radiation image.例文帳に追加

被写体を透過した放射線を撮像パネル１１に照射して作成した第２の画像データを画像メモリ部２０に書き込み、欠陥情報メモリ部２６に記憶されている欠陥情報で示された位置の画像データを補正して良好な放射線画像を得る。 - 特許庁

Redundancy definition data for realizing a redundancy function of a memory device including arrangement of spare cells in a memory device and position information of a defect relieving range in which defect is relived by the spare cells is preparing by using a programming language A including item names, operation equation, and a repeating instruction.例文帳に追加

メモリデバイスのリダンダンシ機能を実現するための、メモリデバイス内のスペアセルの配置と、このスペアセルによって救済される不良救済範囲の位置情報とを含むリダンダンシ定義データを、項目名、演算式および繰返し命令を含むプログラミング言語Ａを用いて作成する。 - 特許庁

Next, a low magnification defect image (7) of the same low magnification at the defect position of the target chip is acquired (steps 118 and 119).例文帳に追加

欠陥を含む対象チップの近傍のチップでのこの欠陥の位置に対応する欠陥対応位置で、この電子ビームを用いて低倍率の低倍参照画像(６）を取得し(ステップ１１６，１１７）、次いで、対象チップの欠陥位置で同じ低倍率の低倍欠陥画像（７）を取得する(ステップ１１８，１１９）。 - 特許庁

In the imaging apparatus (camera apparatus) employing the imaging element 13 of a CCD type or a CMOS type, a defect detection circuit 24 detects a defect by using a luminance level of the imaging element 13 when a lens 11 is in an out of focus state, a system controller 26 stores an address of the detected defective pixel and the defect is corrected at the address position.例文帳に追加

ＣＣＤ型やＣＭＯＳ型などの撮像素子１３を用いてなる撮像装置（カメラ装置）において、レンズ１１が非合焦状態にあるときの撮像素子１３の輝度レベルを用いて欠陥検出回路２４で欠陥検出を行い、その検出した欠陥画素のアドレスをシステムコントローラ２６内に保持し、そのアドレス位置で欠陥補正を行うようにする。 - 特許庁

When conducting the marking, the rotary actuator 180 rotates the marker 183 to advance the marker 183 to a position opposed to the defect portion and the elevation mechanism 182 make the marker 183 go down to a position where the marker 183 abuts on the substrate 90.例文帳に追加

マーキングを行う場合には、ロータリーアクチュエータ１８０がマーカ１８３を回動させることにより、マーカ１８３を欠陥箇所に対向する位置に進出させ、昇降機構１８２がマーカ１８３を基板９０に当接する位置に降下させる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for detecting a defective substrate which treat a wafer as a failure substrate only when the wafer has a defect whose size is too large to ignore at the clamping position of the wafer.例文帳に追加

ウエハのクランプ位置に無視し得ない大きさの欠損が存在する場合にのみ、不良基板として扱う欠損基板の検出方法及び検出装置を提供すること。 - 特許庁

A device body 4 detects displacement of the workpiece W from image data on the alignment marks W1 and W2, and makes a necessary correction to data on a position where a defect has been found.例文帳に追加

装置本体４は、アライメントマークＷ１，Ｗ２の画像データからワークＷの位置ずれを検出し、欠陥の発見された位置のデータに対して必要な補正を加える。 - 特許庁

To provide a guide material for medical applications to guide an operation apparatus to a drilling target position when the drilling operation is done for a defect part of a human body as a surgical target.例文帳に追加

手術目的部たる人体部位の欠損部に対して穿孔作業を行う際に作業装置を穿孔目標位置まで案内する医療用ガイド部材を提供する。 - 特許庁