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「diffusion treatment」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索
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diffusion treatmentの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 530



例文

By applying a light diffusion treatment on the side face of the light guide fiber 3, the light is irregularly reflected at the light diffusion treatment part 6 and the light is emitted outside from the side face of opposite side and irradiated.例文帳に追加

ライトガイドファイバー3の側面を光拡散加工することにより、当該光拡散加工部6で光が乱反射し、反対側の側面から光が外へ放出して照射される。 - 特許庁

An n-type diffusion layer forming composition 11 is applied to a silicon substrate 10 and is subjected to heat diffusion treatment, whereby a solar cell element including an n-type diffusion layer 12 is produced.例文帳に追加

シリコン基板10にこのn型拡散層形成組成物11を塗布し熱拡散処理を施すことで、n型拡散層12を有する太陽電池素子が製造される。 - 特許庁

To provide a substrate for forming electron source restraining Na diffusion by forming a coated layer on the substrate for restraining the Na diffusion since the electron emitting characteristics are adversely affected by the Na diffusion arising from the heat treatment at the time of forming of electron emitting elements by means of a Na-contained substrate.例文帳に追加

Naを含有する基板を用いて、電子放出素子を形成した場合、熱処理によってNaが拡散し、その電子放出特性に悪影響を及ぼす。 - 特許庁

Subsequently, a diffusion prevention film 21 (iron plating film), which prevents the diffusion to a brazing material 16, is formed on the antioxidation film 20 by performing plating treatment.例文帳に追加

続いて、めっき処理により、酸化防止膜20上に、ろう材16への拡散を防止する拡散防止膜21(鉄めっき膜)を形成する。 - 特許庁

例文

The semiconductor substrate, on which the interlayer insulating film and hydrogen diffusion preventing film are formed, is subjected to the heat treatment.例文帳に追加

層間絶縁膜及び水素拡散防止膜が形成された半導体基板を熱処理する。 - 特許庁


例文

By cooling the (SiO2/Ta2O5)n layer 210, the mutual diffusion of Ta2O5 and SiO2 is prevented, and crystallizing heat treatment is enabled.例文帳に追加

(SiO_2 /Ta_2O_5)^n 層210の冷却でTa_2O_5 とSiO_2の相互拡散が防止され、結晶化熱処理が可能になる。 - 特許庁

The heat treatment is carried out, preferably, in a diffusion time of 3 to 24 hours.例文帳に追加

好ましくは、3時間以上24時間以下の拡散時間で熱処理することを特徴とする。 - 特許庁

By conducting a heat treatment thereafter, arsenic is diffused from the silica glass 26 to form a plate diffusion layer 5.例文帳に追加

その後、熱処理することでシリカガラス26から砒素を拡散しプレート拡散層5を形成する。 - 特許庁

Thus, it is possible to prevent the reduction of the oxygen diffusion barrier layer 25 at the time of the heat treatment step.例文帳に追加

これにより、熱処理工程時の酸素拡散バリア層25の還元を防止することができる。 - 特許庁

例文

SOLID SOLUTION DIFFUSION METHOD OF CARBON INTO PURE PLATINUM, SURFACE TREATMENT METHOD OF PURE PLATINUM, AND ORNAMENT例文帳に追加

純白金への炭素の固溶拡散方法、純白金の表面処理方法および宝飾品 - 特許庁

例文

To provide a substrate treatment apparatus by which the back diffusion of contaminants to its chamber can be prevented even if the chamber is open.例文帳に追加

室開放時であっても室への汚染物質の逆拡散を防止できるようにする。 - 特許庁

To provide an apparatus for inspecting sterilization treatment for examining the degree of the sterilization treatment having the limitation of diffusion adjustable according to the request for the specific sterilization treatment.例文帳に追加

特定の滅菌処理の要求に従って調節することができる拡散制限を有する、滅菌処理の程度を調べるための滅菌処理検査装置を提供する。 - 特許庁

The steel subjected to the carbonitriding treatment is subjected to heating diffusion treatment at 780 to 900°C in a nitrogen-free atmosphere.例文帳に追加

浸炭窒化処理された鋼材が窒素を含まない雰囲気下にて780℃以上900℃以下の温度で加熱拡散処理される。 - 特許庁

The bearing steel subjected to the carbonitriding treatment is subjected to diffusion treatment at a temperature of 780-900°C in an atmosphere not containing nitrogen.例文帳に追加

浸炭窒化処理された軸受鋼が窒素を含まない雰囲気下にて780℃以上900℃以下の温度で加熱拡散処理される。 - 特許庁

Consequently the internal state of a diffusion furnace 10 at the time of temperature measurement is similar to the internal state of the diffusion furnace 10 at the time of thermal treatment with a semiconductor wafer 14.例文帳に追加

このため、温度測定時の拡散炉10の内部状態は、半導体ウェハ14の熱処理時の拡散炉10の内部状態と近くなる。 - 特許庁

When it turns into an oxide of copper, since the diffusion of copper into an interlayer insulating film becomes slow, there is no diffusion in the treatment of the subsequent processes.例文帳に追加

銅酸化物になると、銅の層間絶縁膜への拡散が遅くなり、後の工程の処理等により層間絶縁膜中へ拡散することはなくなる。 - 特許庁

The first gas diffusion layers 13, 15 are formed by laminating respective layers of the first gas diffusion layers 13a to 13c, and 15a to 15c without adhesion treatment on respective layers.例文帳に追加

第1ガス拡散層13,15は、それぞれ第1ガス拡散層13a〜13c,15a〜15cの各層を接着処理せずに積層して形成されている。 - 特許庁

METHOD FOR SUPPRESSING DIFFUSION OF ALDEHYDES FROM WOODY BUILDING MATERIAL AND WOODY BUILDING MATERIAL TO WHICH DIFFUSION SUPPRESSING TREATMENT OF ALDEHYDES IS APPLIED BY THE METHOD例文帳に追加

木質建材からのアルデヒド類の放散を抑止する方法、およびこの方法によりアルデヒド類の放散の抑止処理が施された木質建材 - 特許庁

To provide a horizontal diffusion furnace capable of manufacturing a diffusion wafer with high in-plane uniformity of a depth of a diffusion layer within a wafer surface including a center part and an outer peripheral part without complicating the horizontal diffusion furnace, and to provide a heat treatment method of a semiconductor wafer.例文帳に追加

横型拡散炉が煩雑化することなく、中心部と外周部を含むウェーハ面内の拡散層深さの面内均一性が高い拡散ウェーハを製造することができる横型拡散炉、半導体ウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises a process for forming a source/drain diffusion layer on a semiconductor substrate, a process for performing the hydrogenation treatment of a substrate surface including the source/drain diffusion layer, and a process for performing the dehydrogenation treatment of the substrate surface that has been subjected to hydrogenation treatment.例文帳に追加

半導体基板上にソース・ドレイン拡散層を形成する工程と、ソース・ドレイン拡散層を含む基板表面を水素化処理する工程と、前記水素化処理された基板表面を脱水素処理する工程とを有する。 - 特許庁

The plating device for a plating line has a constitution where a treatment tank 18 to be stored with a treatment liquid having gas emissive properties is coated with casing 25 capable of preventing the diffusion of gas.例文帳に追加

ガス発散性の処理液を貯留する処理槽18が、ガスの拡散を防止可能なケーシング25によって覆われる構成とした。 - 特許庁

Then p-type deep expansion diffusion areas 15a and 15b are formed by activating heat-treatment.例文帳に追加

その後、活性化熱処理により、p型の深部膨張形拡散領域15a,15bを形成する。 - 特許庁

In a heat treatment chamber 65, a thermal diffusion plate 73 and a heating plate 74 are arranged in this sequence.例文帳に追加

熱処理室65内には、熱拡散板73と加熱プレート74とがこの順で配設されている。 - 特許庁

A gas supply source 211 for supplying treatment gas to the diffusion furnace 200 is installed in the lower floor 320.例文帳に追加

下方床320には、拡散炉200に処理ガスを供給するガス供給源211が設置される。 - 特許庁

An Ni layer 11 is formed on the surface of an Ni based superalloy 10, and, after that, diffusion treatment is performed thereto.例文帳に追加

Ni基超合金10の表面にNi層11を形成した後、拡散処理を行う。 - 特許庁

In the place of exile, he received kind treatment from the Matsumae clan and is said to have contributed to diffusion of the culture of Kyoto in Matsumae. 例文帳に追加

配所では松前藩の厚遇を得て、松前に京文化が伝える契機を作ったとされる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Afterward, the board is subjected to heat treatment to activate each source area and drain area (diffusion area) 1A, 1B.例文帳に追加

その後、前記各ソース・ドレイン領域(拡散層)1A,1Bを活性化するための加熱処理を施す。 - 特許庁

It is estimated that the intrusion and diffusion properties of the element at the time of the surface treatment such as nitridation treatment can be improved by carrying out the prescribed strong processing as described above before conducting the surface treatment such as nitridation treatment.例文帳に追加

つまり、窒化処理等の表面処理工程の前に所定の強加工を行うことで、窒化処理等の表面処理時の元素侵入および拡散の特性を向上させることができるものと推定される。 - 特許庁

In this producing method, a base metal steel sheet containing <4 wt.% Si is subjected to heating treatment, siliconizing treatment, diffusion soaking treatment and cooling treatment in succession in an atmosphere satisfying the following inequality, and the siliconizing treatment is carried out in a siliconizing treatment furnace in which the concentration of iron chloride is controlled to10 mg/cm3 in terms of the volume of the furnace.例文帳に追加

Si:4wt%未満の母材鋼板に対して、下式を満足する雰囲気にて加熱処理、浸珪処理、拡散均熱処理及び冷却処理を順次行い、さらに、浸珪処理する浸珪処理炉内での塩化鉄存在量が炉容積に対して10mg/cm^3以下とする製造方法である。 - 特許庁

The gas-liquid contact treatment between the alkaline wastewater and the boiler exhaust gas in the treatment tank 20 is performed by a combination of a self-suction type exhaust gas diffusion device 30 and a wastewater agitation device 40 arranged in the vicinity of the diffusion device.例文帳に追加

処理槽20内でのアルカリ排水とボイラー排ガスとの気液接触処理を、自吸式排ガス散気装置30と当該散気装置の近傍に配置された排水攪拌装置40との組合せにより行う。 - 特許庁

The paste for the diffusion layer is coated with a doctor blade on a carbon material for gas diffusion dipped and evaporated (S15), and is then put under heat treatment to make up the gas diffusion layer 1 for the fuel cell electrode.例文帳に追加

含浸させた後水分を蒸発させた(S15)ガス拡散層用カーボン基材に、拡散層塗布用ペーストをドクターブレードで塗布し加熱処理を行って、燃料電池電極用ガス拡散層1を作製した。 - 特許庁

Since the diffusion factor of arsenic (As) is small when compared with that of phosphorus (P), impurity diffusion (profile diffusion) by heat treatment in the manufacturing process is suppressed significantly when compared with a phosphorus-doped substrate by prior art.例文帳に追加

これによって、砒素(As)の拡散係数がリン(P)に比べて小さいことから、従来手法によるリンドープ基板に比べて製造工程における熱処理による不純物拡散(プロファイル拡散)を大幅に抑制する。 - 特許庁

To provide a low-temperature steam cooker which carries out uniform treatment of a number of processing objects, attempting generation of low-temperature steam and homogeneous diffusion in the steaming treatment chamber.例文帳に追加

低温蒸気の生成とその蒸し処理室内の均質拡散を図って、多数の処理対象物を均等処理する低温蒸し器を提供する。 - 特許庁

After the primary bending (S23) and before the secondary bending (S24), heat treatment (S24) for performing diffusion treatment of the brazed part is carried out to the joint part.例文帳に追加

一次曲げ加工(S23)後で、二次曲げ加工(S24)前には、接合部品に対して、ろう付部の拡散処理を行う熱処理(S24)を実行する。 - 特許庁

To provide an exhaust gas treatment device and an exhaust gas treatment method capable of suppressing the re-diffusion of mercury dissolved in an absorbing liquid of a lime-gypsum method.例文帳に追加

石灰石膏法の吸収液中に溶解した水銀の再放散を抑制することができる排ガス処理装置及び排ガス処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment device and a treatment method for a to-be-treated object capable of suppressing the diffusion of gas from liquid without sealing the liquid.例文帳に追加

液体を密閉することなく液体からの気体の気散を抑制することが可能な被処理物の処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat treatment method and a heat treatment apparatus which can prevent the occurrence of a process damage, while suppressing diffusion of an implanted impurity.例文帳に追加

注入された不純物の拡散を抑制しつつもプロセスダメージの発生を防止することができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a waste water treatment device capable of treating raw water without diluting, unnecessary to exchange a diffusion pipe and using only a small quantity of diluting water after the treatment.例文帳に追加

原水を希釈せずに処理でき、散気管の交換が必要でなく、処理後の希釈水もわずかで済む廃水浄化装置を提供する。 - 特許庁

The wastewater disposal apparatus is equipped with the treatment tank 20 for decomposing organic components in wastewater by microorganisms, the air diffusion pipe 21 arranged in the vicinity of the central part of the bottom of the treatment tank 20 and the biological carriers 2 arranged on both sides of the air diffusion pipe 21, and a flow distribution plate 22 is arranged just above the air diffusion pipe 21.例文帳に追加

排水中の有機物成分を微生物により分解処理する処理槽20と、処理槽20内の底部中央付近に配置された散気管21と、散気管21の両側に配置された生物担体23とを備え、散気管21の真上に整流板22を配置した。 - 特許庁

The interlattice atoms, which may cause the crystal defect, can be diffused by the above mentioned RTA treatment, but the diffusion of the impurity diffusion layer are not diffused.例文帳に追加

このRTA処理は、結晶欠陥の原因となる格子間原子を拡散させるが、不純物拡散層の不純物は拡散させないように設定されている。 - 特許庁

Further, the metal diffusion preventing/etching stopper layer 6 prevents a metal material embedded as the ground layer 5 from undergoing diffusion by heat treatment.例文帳に追加

さらに、金属拡散防止兼エッチングストッパ層6の存在によって、下地層5として埋め込まれた金属材料が、熱処理などにより拡散するのを防止できる。 - 特許庁

After implanting impurity ions for forming the N type diffusion region 25, the N type diffusion region 25 is diffused in a γ-shape under a gate electrode 22 by heat treatment.例文帳に追加

そして、N型の拡散層25を形成する不純物をイオン注入した後、熱処理により、N型の拡散層25をゲート電極22下方で、γ形状に拡散する。 - 特許庁

Plasma of a treatment gas containing oxygen and Ar oxidizes the p-type diffusion region 103 and the n-type diffusion region 105 at different oxidation rates.例文帳に追加

酸素およびArを含有する処理ガスのプラズマにより、p型拡散領域103とn型拡散領域105とを、それぞれ異なる酸化レートで酸化処理する。 - 特許庁

APPARATUS FOR SUPPLYING LARGE AMOUNT OF CITY WATER CLEANED BY USING CORAL AND DIFFUSION TYPE CORAL TREATMENT MEANS FOR CITY WATER例文帳に追加

珊瑚利用の浄化・珊瑚処理水道水大量供給装置と水道水の拡散型珊瑚処理手段 - 特許庁

For the peeled surface protective film 25, a material for preventing mutual diffusion between the film and the piezoelectric thin film 10 in the following heat treatment is used.例文帳に追加

剥離面保護膜25は、次の熱処理で圧電薄膜10との相互拡散を防ぐ材料を用いる。 - 特許庁

To provide a wastewater treatment method which controls diffusion into atmosphere of N_2O gas generated in biotreatment of N_2 containing wastewater.例文帳に追加

窒素含有排水の生物処理時に発生するN_2Oガスが大気中へ拡散することを抑制すること。 - 特許庁

A carbon-potential in the temperature-dropping chamber at the time of performing the diffusion-treatment is lower than the carbon potential in the carburizing chamber.例文帳に追加

拡散処理が行われる際の降温室のカーボンポテンシャルは、浸炭室のカーボンポテンシャルよりも低くした。 - 特許庁

The apparatus may further include a fiber optic cable that terminates in a diffusion tip which is longer than the treatment window.例文帳に追加

装置はさらに、拡散チップ内で終了する光ファイバケーブルを含み得、拡散チップは処置ウィンドウよりも長い。 - 特許庁

This sewage treatment apparatus S1 increases the flow speed of a cross flow water stream even if an air diffusion amount is not increased.例文帳に追加

この下水処理装置S1は、散気量を増加させなくとも、クロスフロー水流の流速を増加させる。 - 特許庁

例文

The discharge electrode is a metal electrode 1 on a surface portion of which a diffusion-hardened layer of metal 11 is formed by a penetron treatment.例文帳に追加

金属電極1の表面部に、ペネトロン処理による金属の拡散硬化層11が形成されてなる。 - 特許庁




  
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