例文 (530件) |
diffusion treatmentの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 530件
To inhibit a ceramics member from being contaminated by diffusion of boron from a graphite member of a high-temperature furnace during high-temperature heat treatment while suppressing effects on an environment by a simple method and simple equipment.例文帳に追加
簡単な方法及び設備により環境への影響を抑えながら、高温熱処理時に高温炉の黒鉛部材からのボロンの拡散によってセラミックス部材が汚染されることを抑制する。 - 特許庁
To provide a composting treatment unit which can be added to existing composting production facilities and which can prevent diffusion of odor to the outside in the stage of organic material unloading.例文帳に追加
既存の堆肥化生産施設に附設することが可能で、しかも、有機系物質の荷降ろしの段階で外部への臭気の発散を防止することが可能な堆肥化処理施設を提供する。 - 特許庁
To eliminate the need for heat treatment over a long time in the impurity diffusion process while protecting a tunnel insulation film against damage due to implantation of impurity ions using a gate electrode as a mask.例文帳に追加
ゲート電極をマスクとした不純物イオンの注入によるトンネル絶縁膜への損傷を防止しながら、不純物拡散工程における長時間にわたる熱処理を不要にできるようにする。 - 特許庁
To speedily, stably and inexpensively carry out carburization treatment, in a continuous gas carburization furnace for carburizing materials to be treated while leading them into at least a heat chamber, a carburization chamber and a diffusion chamber sequentially in the order.例文帳に追加
処理材を少なくとも加熱室、浸炭室、拡散室の順に導いて浸炭処理を行う連続式ガス浸炭炉において、高速で安定した浸炭処理が安価に行えるようする。 - 特許庁
A thermal treatment is carried out before a conductive adhesive agent is printed but after the pad 50 is formed, by which a thermal diffusion is carried out between the wiring part 12 and the pad 50 to improve them in connectability.例文帳に追加
また、パッド部50形成後であって導電性接着剤印刷前に、加熱処理を行い、配線部12とパッド部50との間で熱拡散を行わせ、両者の接合性を向上させる。 - 特許庁
At that time, the diffusion of metallic components from the upper face of the bearing cover 4a at the time of executing heat treatment can be reduced, and the generation of the metallic contamination of a wafer W being a substrate to be treated can be suppressed.例文帳に追加
このとき、熱処理実行時におけるベアリングカバー4a上面からの金属成分の拡散が低減されるので、被処理基板であるウェハWに対する金属汚染の発生が抑制される。 - 特許庁
A light diffusing member is arranged at the light emitting side of an LED wherein the member consists of a transmittable material to light of the LED and light diffusion treatment is applied to peripheral edge portions at a region in which the light of the LED passes.例文帳に追加
LEDの光放出側に、LEDの光に対して透過性の材料からなり、LEDの光が通過する領域における周縁部分に光拡散処理を施した光拡散部材を配置する。 - 特許庁
The surface of an austenitic stainless steel blade section 2b with luster and flexibility or a cutting tool formed by combining the blade section 2b and a handle 3b is hardened and polished by a specific carbon diffusion treatment.例文帳に追加
光沢、柔軟性のあるオーステナイト系ステンレス鋼の刃部2b、または刃部2bとハンドル3bを一体で形成した切断用具に炭素固有拡散処理により表面を硬化させ、表面研磨した。 - 特許庁
In a heat treatment process after the storage node 151 is formed, diffusion of N-type impurities in the storage node 151 is restrained by oxygen in the layer 151a containing oxygen, and junction leakage is prevented.例文帳に追加
ストレージノード151の形成後の熱処理工程で、ストレージノード151中のN型不純物の拡散が酸素含有層151a中の酸素により抑制され、ジャンクションリークが防止される。 - 特許庁
Then the vibrating plate 40, diffusion prevention layer 41, lower electrode 42 and piezoelectric layer 43 are heated to a predetermined temperature higher than the fusion point of the metal layer 48 to perform a heat treatment on the piezoelectric layer 43.例文帳に追加
その後、振動板40、拡散防止層41、下部電極42及び圧電層43を金属層48の融点よりも高い所定温度に加熱して、圧電層43に対して熱処理を施す。 - 特許庁
Consequently, the quantity of a P-type dopant can be made uniform around the opening 4 of the electrode 3 and the diffusion of an external base layer covering the peripheral section of the emitter layer through heat treatment becomes uniform.例文帳に追加
この構成により、P型ドーパント量を引き出し電極3の開口部4を中心に同量にすることができ、熱処理によるエミッタ層周辺部を覆う外部ベース層の拡散が均一になる。 - 特許庁
The method for manufacturing the light diffusion plate for the backlight device includes a process for forming a sheet by extrusion-molding a propylene resin and a process for applying an annealing treatment to the sheet.例文帳に追加
本発明のバックライト装置用光拡散板の製造方法はプロピレン樹脂を押出成形してシートを形成する工程と、このシートにアニール処理を行なう工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a dielectric element, capable of effectively suppressing the diffusion of oxygen to an area positioned below a lower electrode at heat treatment for sintering an oxide-based dielectric film.例文帳に追加
酸化物系誘電体膜を焼結するための熱処理時に、下部電極よりも下方に位置する領域への酸素の拡散を有効に抑制することが可能な誘電体素子を提供する。 - 特許庁
In the temperature range of 480°C-560°C, thermal diffusion of zinc is carried out by a closed tube method or an open tube method so that heat treatment may be executed in the nitrogen, inert gas atmosphere or in vacuum at the temperature 400°C-420°C for 10 minutes-30 minutes.例文帳に追加
480℃〜560℃の温度範囲で閉管法又は開管法で亜鉛を熱拡散し、窒素、不活性ガス雰囲気または真空中で400℃〜420℃、10分〜30分の熱処理をすること。 - 特許庁
After forming a channel diffusion layer 11 self-alignedly with respect to the field relaxation oxide film 17 (e), an anti-oxidation film 53 is formed and then heat treatment is conducted to form a field oxide film 7 (f).例文帳に追加
電界緩和用酸化膜17に対して自己整合的にチャネル拡散層11を形成した後(e)、耐酸化膜53を形成し、熱処理を施してフィールド酸化膜7を形成する(f)。 - 特許庁
The heat treatment is continuously conducted in a non-oxidative atmosphere with an oxygen concentration of 50 ppm or lower capable of lowering the melting point of the soldering alloy material; the treatment is conducted in a chamber which is equipped with a preheating section, a pre-bonding section, and a diffusion section and has a preset heating program.例文帳に追加
とくに、予加熱部、仮接合部及び拡散部を有し、加熱プログラムが設定され、しかもロウ材合金箔の融点低下を生じさせることのできる酸素濃度50ppm以下の非酸化性雰囲気下のチャンバー内で、連続して熱処理を行い、接合体を製造する方法である。 - 特許庁
To solve the problem that waste water containing a suspension or the like backs into the interior of an air diffuser at the time of a pressure drop in an airpipe, causing the air diffuser, particularly, an air diffusion nozzle to be blocked to deteriorate an efficiency in operation of water treatment equipment in the air diffuser of the water treatment equipment.例文帳に追加
水処理装置の散気装置において、送気管内の圧力低下時に、散気装置内に懸濁物等を含む汚水が逆流し、これが原因で散気装置特に散気ノヅルが閉塞し、水処理装置の運転効率が低下する問題を解決することを目的としている。 - 特許庁
At heat treatment, in a reaction in the interface of the core material and the coating layer 2 when Cu is included in the coating layer 2, a diffusion reaction is loosened compared to a reaction between a coating layer 2 consisting of a pure metal and the copper core material 1, so that sufficient adhesion is obtained even when the heat treatment temperature is raised.例文帳に追加
被覆層2にCuを含んでいると、熱処理時、芯材と被覆層2の界面における反応は、純金属からなる被覆層2と銅芯材1との間の反応に比べて拡散反応が緩やかとなって熱処理温度を上げても十分な密着性を得る。 - 特許庁
Prior to joining between a titanium material 1 of a base metal and an aluminum material 2, surface defatting and a blast treatment is done on a joining face of a titanium material side, a thermal spray film layer 3 of aluminum base is formed thereon, further subjected to a fusion diffusion treatment with TIG welding.例文帳に追加
母材となるチタン系材料1とアルミニウム系材料2との接合に先立って、チタン系材料1側の接合面1aに表面脱脂とブラスト処理を施した上、アルミニウム系の溶射皮膜層3を形成するとともに、TIG溶接法にて溶融拡散処理を施す。 - 特許庁
A plurality of multivalued image data corresponding to a plurality of nozzle groups are generated based on multivalued image data corresponding to a predetermined region, and then gradation reducing treatment (e.g. different error diffusion treatment) different for each of a plurality of the generated multivalued image data is carried out.例文帳に追加
所定領域に対応した多値の画像データに基づいて、複数のノズル群に対応した複数の多値の画像データを生成し、こうして生成された複数の多値の画像データに対してそれぞれ異なる低階調化処理(例えば、異なる誤差拡散処理)を行う。 - 特許庁
In addition, the occurrence of leakage currents in the MIM capacitor after heat treatment is reduced by suppressing the diffusion of the oxygen contained in the Ta_2O_5 film 7 into the Ta film 5 by heat treatment after the capacitor is formed by interposing an Al_2O_3 film 6 between the Ta film 5 and Ta_2O_5 film 7.例文帳に追加
また、Ta膜5とTa_2O_5膜7の間にAl_2O_3膜6を挿入することにより、MIMキャパシタ形成後の熱処理によるTa_2O_5膜7中の酸素がTa膜5中へ拡散するのを抑制し、熱処理後のMIMキャパシタのリーク電流を低減することができる。 - 特許庁
A low-temperature long-time heat treatment which is the first heat treatment for activating the impurity implanted into gate electrodes 20, 21 is performed so that boron diffusion occurs along crystal grain boundaries though boron is scarcely diffused into polysilicon crystal grains.例文帳に追加
ゲート電極20,21に注入された不純物の活性化のための第1の熱処理として、ポリシリコンの各結晶粒内へのボロンの拡散はほとんど生じることがなく、かつ、結晶粒界におけるボロンの拡散が生じるような低温長時間の熱処理を行なう。 - 特許庁
The semiconductor device is formed on a semiconductor substrate; and comprises the semiconductor substrate, an impurity diffusion layer formed on one main surface of the semiconductor substrate, an insulating film formed on the impurity diffusion layer, and a silicon nitride film which is formed on the insulating film and in which the amount of positive charges is changed by a given heat treatment to control impurity concentration near the surface of the impurity diffusion layer.例文帳に追加
半導体基板上に形成される半導体素子であって、半導体基板と、半導体基板の一主面に形成される不純物拡散層と、不純物拡散層上に形成される絶縁膜と、絶縁膜上に形成され所定の熱処理により正電荷の量が変動して不純物拡散層の表面近傍の不純物濃度を制御するシリコン窒化膜と、を備えることを特徴とする半導体素子。 - 特許庁
The steel component in which steel members are subjected to liquid phase diffusion joining is obtained by subjecting the face to be joined in either steel member or the faces to be joined in both the steel members to carburizing treatment, and thereafter directly joining the faces to be joined in both the steel members by liquid phase diffusion joining.例文帳に追加
鋼部材を液相拡散接合した鋼部品であって、片方の鋼部材の被接合面または両方の鋼部材の被接合面に浸炭処理を施した後、両鋼部材の被接合面を、直接、液相拡散接合で接合したことを特徴とする液相拡散接合鋼部品。 - 特許庁
Before the formation of the gate electrode 7, impurities are added to at least a part of the source region 9 and the drain region 10 by using ion implantation from an inner wall of the trench portion 3, and thereafter heat treatment is performed for diffusion and activation to form a diffusion region from the surface of the trench portion 3 down to a bottom portion thereof.例文帳に追加
ソース領域9とドレイン領域10の少なくとも一部では、ゲート電極7の形成前にトレンチ部3の内壁からイオン注入を用いて不純物添加をおこなった後、拡散および活性化の熱処理を施すことによって、トレンチ部3の表面から底部にかけて深く形成させることを可能とする。 - 特許庁
Thereafter, titanium silicide layers 9a, 9b, and 9c are respectively formed on the surfaces of the gate electrode 3 and P^+ type diffusion layers 6a and 6b by partially silicifying the titanium layer 8 which is in contact with the gate electrode 3 and diffusion layers 6a and 6b by performing heat treatment as shown in Fig (b).例文帳に追加
その後、図3(b)に示すように熱処理を行うことにより、ゲート電極8及びP+型拡散層6a,6bと接触したチタン層8が部分的にシリサイド化され、ゲート電極3上の表面にチタンシリサイド層9a、P+型拡散層6a,6bの表面にそれぞれチタンシリサイド層9b,9cが形成される。 - 特許庁
In this method, the diffusion length of minority carriers is measured for the silicon wafer subjected to surface treatment in at least two kinds of time constants by a surface optical voltage method, and it is determined whether the silicon wafer surface has been stabilized according to whether at least any one of ratios of the measured diffusion lengths has reached a target value.例文帳に追加
表面処理を施したシリコンウェーハについて、表面光電圧法により少数キャリアの拡散長を少なくとも2種類のタイムコンスタントにおいて測定し、測定した拡散長の比の少なくとも1つが目標値に達したか否かで、前記シリコンウェーハ表面が安定化したか否かを判定する。 - 特許庁
The resin-coated Ni-plated steel sheet excellent in corrosion resistance is obtained by forming an oxide film formed by forming an Ni plating layer on the surface layer of an Ni-plated steel sheet composed of an Fe-Ni diffusion layer or an Fe-Ni diffusion layer by means of an anode electrolysis treatment, and applying a resin thereon.例文帳に追加
本発明の要旨とするところは、Fe−Ni拡散層、またはFe−Ni拡散層とNiメッキ層からなるNiメッキ鋼板の表層に、前記Niメッキ鋼板をアノード電解処理することにより形成した酸化膜を有し、更に樹脂を被覆してなる耐食性に優れた樹脂被覆Niメッキ鋼板である。 - 特許庁
A spreading transparent diffusion film 20 is disposed between a cover protector 18 and a light-receiving element 10 in a light-receiving section that receives pilot light transmitted from a communicating party, or the cover protector is comprised of a member with a transparent diffusion property, further or spreading treatment is applied onto a surface of the cover protector.例文帳に追加
通信相手から送信されるパイロット光を受光する受光部の保護カバー18と受光素子10の間に拡散性の透過拡散膜20を配するか、あるいは保護カバーを透過拡散性を有する部材で構成するか、さらにあるいは保護カバーの表面に拡散性の処理を施すようにした。 - 特許庁
The cutter roller is characterized in that a main body of the cuter roller is composed of separate parts where a cutter part made from a cemented carbide special steel product and a support part made from a general steel product, and the cutter part and the support part are assembled and pressurized while a diffusion-insert material being interpose between bonded surface and diffusion heat treatment junctioned.例文帳に追加
カッターロール本体を、超硬特殊鋼材で構成されるカッター部と一般鋼材で構成される支持部とに分けて部品構成し、前記カッター部及び前記支持部との間の接合面に拡散インサート材を介在させて組立て加圧し拡散熱処理接合して成ることを特徴とするカッターロール。 - 特許庁
A manufacturing method comprises the steps of forming a diffusion region 16 of rare earth element ions, having a predetermined distribution in a substrate 11, and keeping rare earth element ions in a state of predetermined distribution and making the diffusion region 16 of rare earth element ions move, in the depthwise direction of the substrate 11 through heat treatment.例文帳に追加
基板11中に所定の分布を有する希土類元素イオンの拡散領域16を形成する工程と、熱処理によって希土類元素イオンの分布状態を所定の分布状態に保持して基板11の深さ方向に希土類元素イオンの拡散領域16を移動させる工程とを備えた製造方法である。 - 特許庁
Further, the method for producing a resin-coated Ni-plated steel sheet having excellent corrosion resistance is characterized in that the oxide film is formed by forming the Ni-plated steel sheet on the surface layer of the Ni-plated steel sheet composed of the Fe-Ni diffusion layer or the Fe-Ni diffusion layer and the Ni plating layer by means of the anode electrolysis treatment.例文帳に追加
また、Fe−Ni拡散層、またはFe−Ni拡散層とNiメッキ層からなるNiメッキ鋼板の表層に、前記Niメッキ鋼板をアノード電解処理することにより酸化膜を形成し、更に樹脂を被覆することを特徴とする耐食性に優れた樹脂被覆Niメッキ鋼板の製造方法である。 - 特許庁
The gas diffusion layer is composed by forming a water repellent layer 120 on a gas diffusion substrate 110, containing carbon particles 121 coated with a water repellent material in the water repellent layer, and continuously passing carbon particles 122 subjected to hydrophilic treatment through in the thickness direction in at least one part of the water repellent layer.例文帳に追加
ガス拡散基材上110に撥水層120が形成された構成を有し、前記撥水層は撥水剤にコーティングされてなるカーボン粒子121を含み、さらに前記撥水層の少なくとも一部に親水処理されたカーボン粒子122が連続して厚さ方向に向かって貫通したガス拡散層となっている。 - 特許庁
To provide a PDP glass substrate made proof against heat shrinkage and yellowing in heat treatment by forming a highly diffusion-preventive thin film on a high-distortion-point glass by an on-line CVD method.例文帳に追加
高歪点ガラス上に、オンラインCVD法で高い拡散防止能力を有する薄膜を形成することにより、熱処理における熱収縮および黄変が防止されたPDP用ガラス基板を提供する。 - 特許庁
Furthermore, a method for manufacturing an n^+-layer 11 and a p^+-layer 13 by applying both-side diffusion treatment to an n^--type wafer can be adopted and the production cost of a semiconductor device can be easily reduced.例文帳に追加
さらに、N^−型ウェーハに対して両面拡散処理を行ってN^+層11及びP^+層13を形成する製造方法の採用も可能になるので、半導体装置の製造コストの低減化も容易になる。 - 特許庁
To enable high-speed coating without causing unevenness in conditions in corona discharge treatment and coating trouble in methods for making a silver halide photographic sensitive material and a planographic printing plate applying a silver complex salt diffusion transfer process.例文帳に追加
ハロゲン化銀写真感光材料及び銀錯塩拡散転写法を応用した平版印刷版の製造方法において、コロナ放電処理条件ムラ及び塗布故障を生じさせずに高速塗布を可能にする。 - 特許庁
When the semiconductor wafer W is heat-treated, the semiconductor wader W is made to come into contact with the thermal diffusion plate 73 in a heating state and thus preheated, and pressure inside a heat treatment chamber 65 is reduced.例文帳に追加
半導体ウエハーWに対して熱処理を行う際には、半導体ウエハーWが加熱状態にある熱拡散板73と接触することにより予備加熱されるとともに、熱処理室65内が減圧される。 - 特許庁
Then, an impregnation optimization treatment in which a constituent material of the seal portion 16 can be impregnated more at the outside region than at the power generation region is applied on at least one of the pair of the gas diffusion layers.例文帳に追加
そして、一対のガス拡散層の少なくとも一方には、発電領域に比べて外側領域の方が、シール部16の構成材料がより多く含浸可能となる含浸適正化処理が施されている。 - 特許庁
In the light guide plate 2 to be used for the edge light type backlight system, a base region A with a specified width extending from the end face 21 on the incident side in a base reflection plane 22 is formed into a diffusion plane by abrasive blasting treatment or the like.例文帳に追加
エッジライト式のバックライトシステムに用いる導光板2では、その底面反射面22における、入光側の端面21から所定幅の底面領域Aが、ブラスト処理等によって拡散面とされている。 - 特許庁
To provide a coloring composition capable of forming a colored film suppressed with the elution of a coloring agent on an alkali development, staining-in of the coloring agent, thermal diffusion (color transfer) of the coloring agent by heat treatment, and residues of development.例文帳に追加
アルカリ現像時の着色剤の溶出、着色剤の染み込み、加熱処理による着色剤の熱拡散(色移り)、及び現像残渣が抑制された着色膜を形成できる着色組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an organic material treatment apparatus in which inconvenience such as the diffusion of malodor components accumulated in a treating vessel to the surroundings when a cap is opened during the stoppage of the operation of the apparatus is prevented and which is suitable for indoor use.例文帳に追加
装置の運転停止中に処理槽内に蓄積する臭気成分が蓋体を開けたときに辺りに散乱する等の不具合を防ぐことができ、室内使用に適した有機物処理装置を提供する。 - 特許庁
Here, the water repellency is given to the gaseous diffusion water-repellent layers 10 and 12 by the silica water repellent agent 34, so it is unnecessary to use a fluorocarbon resin water repellent agent which requires a high temperature heat treatment and is disadvantageous in manufacturing costs.例文帳に追加
このとき、ガス拡散撥水層10,12にはシリカ撥水剤34によって撥水性が与えられることから、高温の熱処理が必要で製造コストも不利な弗素樹脂系撥水剤を用いる必要がない。 - 特許庁
The variation of a PN junction capacity caused by a thermal variation in the semiconductor wafer resulting from heat treatment in the diffusion furnace is corrected by making each area of the semiconductor region wherein the impurity is deposited different.例文帳に追加
上記拡散炉での熱処理による上記半導体ウェハの熱バラツキによるPN接合容量のバラツキは、上記不純物がデポジションされら半導体領域の面積を異なせることにより補正する。 - 特許庁
To provide a wastewater purification system which prevents diffusion of odors in wastewater disposal of excreta of domestic animals etc. by making use of the characteristics of a rainwater storage system, and effectively performs the wastewater treatment with a low load.例文帳に追加
家畜等の糞尿の排水処理において、雨水貯留システムの特徴を活かし、臭気の拡散を防止し、さらにこれらの排水処理を効果的にかつ負荷の少ない排水浄化システムを提供すること。 - 特許庁
To realize an illuminated defect repair using an ion beam device in which the deterioration in the quality in the periphery of a repair region due to a Ga ion diffusion in cleaning after post treatment of a halo component by a laser beam repair machine does not occur.例文帳に追加
レーザー修正機によるハロー成分のポストトリートメント後の洗浄時にGaイオン拡散に起因する修正領域周辺の品質劣化の起こらないイオンビーム装置を用いた白欠陥修正を実現する。 - 特許庁
Thus, for example, at the time of heat treatment in a manufacturing step of the photocathodes 1A, 1B, diffusion of alkali metal contained in the photoelectron emitting layer 300 to the support substrates 100A, 100B side is suppressed.例文帳に追加
これにより、例えば光電陰極1A,1Bの製造工程における熱処理時に、光電子放出層300に含まれるアルカリ金属の支持基板100A,100B側への拡散が抑制される。 - 特許庁
A diffusion barrier layer which interposes between the lower conducting layer and the upper conducting layer is thermally treated in an inert atmosphere prior to selective oxidation heat treatment, and turned into high melting point metal siliconitride.例文帳に追加
下側導電層と上側導電層との間の介在する拡散障壁層を、選択酸化熱処理に先立って不活性雰囲気中で熱処理することにより、高融点金属珪窒化物に変換する。 - 特許庁
To prevent a part becoming CMOSFET from being exposed to excessive heat in a heat treatment for emitter diffusion in a manufacturing method of a semiconductor device where a bipolar transistor and CMOSFET are formed on one substrate.例文帳に追加
バイポーラトランジスタとCMOSFETを一つの基板上に形成する半導体装置の製造方法において、CMOSFETとなる部分をエミッタ拡散のための熱処理によって過剰な熱に晒さないようにする。 - 特許庁
In the control, during forcible regeneration of PM accumulated on the DPF 225, PM layer restore treatment for mainly shifting a combustion form to diffusion combustion is executed in order to enlarge a particle diameter of the PM.例文帳に追加
当該制御においては、DPF225に堆積したPMの強制再生時に、PMを大粒径化するための、主として燃焼形態を拡散燃焼に移行させるPM層修復処理が実行される。 - 特許庁
To provide a wastewater treatment apparatus which acquires the degree of the progress of contaminant removal at a specific position in a reaction tank, and controls the oxygen supply amount at the specific position by an individual air diffusion means based on the degree of the progress.例文帳に追加
反応槽の特定位置での汚染物質の除去の進行度を把握し、その進行度から個別の散気手段にて特定位置での酸素供給量を調節する排水処理装置を提供する。 - 特許庁
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