「diffusion treatment」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for photocatalytically make the surface of a metallic base material hydrophilic without damaging its mechanical properties such as peeling and without deteriorating its photocatalytic function caused by the diffusion of components from the base material in heat treatment.例文帳に追加

基材が金属である場合に、剥離等の機械的強度を損なうことなく、熱処理時に基材からの成分の拡散による光触媒的な機能が劣化することなく、光触媒的に表面を親水性にする方法を提供する。 - 特許庁

As a result, the destabilization of the activated sludge treatment by settlement of sludge and the degradation in oxygen transfer efficiency are prevented, and the suppression of the variation in the air quantity in the diffusers and the fluctuation in the air pressure thereof, the removal of the deposits in diffusion apertures, etc., are made possible.例文帳に追加

これにより、汚泥の沈降による活性汚泥処理の不安定化や酸素移動効率の低下の防止、散気装置における風量のばらつきや空気圧の変動の抑制、散気孔の付着物の除去などが可能となる。 - 特許庁

According to this configuration, it is possible to prevent disconnections of the lower electrode 23 and the upper electrode 25 and a diffusion of atoms constituting the capacitive insulating film 24, which are caused at the time of a heat treatment for crystallization of the dielectrics to the capacitive insulating film 24.例文帳に追加

この構成により、容量絶縁膜２４に対する誘電体の結晶化のための熱処理時に発生する下部電極２３及び上部電極２５の断線と、容量絶縁膜２４を構成する原子の拡散とを防止することができる。 - 特許庁

As the capacitor is equipped with the oxygen diffusion prevention film, which consists of a silicon nitride film 30 and an alumina film 31, between the lower electrode 28a and the dielectric film 32, it can prevent oxygen from diffusing to the lower electrode 28a during heat treatment.例文帳に追加

上記キャパシタによれば、下部電極28aと誘電膜32との間にシリコン窒化膜30とアルミナ膜31の二重の膜で構成された酸素拡散防止膜を備えているので、熱処理の際に、酸素が下部電極28aに拡散するのを防止することができる。 - 特許庁

To provide a high dielectric capacitor which can eliminate its weak point by preventing the penetration of hydrogen ions when succeeding heat treatment is performed by forming diffusion preventing film on the side section of a storage electrode and the upper part of a plate electrode and a method of manufacturing the capacitor.例文帳に追加

ストレージ電極の側部及びプレート電極の上部に拡散防止膜を形成して後続熱処理時の水素イオンの侵透を防止することにより、前記短所を解消できる高誘電体キャパシタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a temperature rise of the frame by preventing the diffusion of radiant heat through providing surface treatment such as plating for the heating member and the intermediate frame even if they are materials having the same coefficient of thermal expansion and by obtaining the stroke having a temperature difference.例文帳に追加

本発明は、加熱部材と中間フレームに熱膨張率が同じ材料でもメッキ等の表面処理によって放射熱拡散を防ぎ、温度差をつけてストロークを得るようにし、フレームの温度上昇を防止することを目的とする。 - 特許庁

The P-type impurity regions 9 are diffused by a thermal treatment carried out in an after process, an element isolating P-type impurity region 9a obtained by diffusion is diffused up to a point just under the side wall oxide film 7 at most, so that a channel is hardly narrowed.例文帳に追加

このＰ型不純物領域９は、後工程の熱処理により拡散するが、得られた素子分離用Ｐ型不純物領域９ａは高々サイドウォール酸化膜７の直下まで拡散するにすぎず、チャネル幅が狭くなるようなことはない。 - 特許庁

Next, the diffusion layer base material 70 is put under a heating treatment (step S230) to be foamed, and is transformed into a metal porous body made of foamed metal, and at the same time, the metal porous body is jointed with the flow channel wall members 60.例文帳に追加

次に、拡散層基材７０に対して加熱処理を施し（ステップＳ２３０）、拡散層基材７０を発泡させて、発泡金属からなる金属多孔体に変成させるとともに、金属多孔体と流路壁部材６０とを接合する。 - 特許庁

To provide a water treatment apparatus constituted so as to sharply reduce the amount of air by intermittently diffusing air from an air diffusion pipe to reduce a maintenance control cost and capable of forming a turbulent flow in raw water (water to be treated) to effectively wash a membrane separator.例文帳に追加

散気管から間欠的に散気することにより、空気量を大幅に削減して維持管理費を削減すると共に、原水（被処理水）に乱流を発生させて膜分離器を効果的に洗浄することができる水処理装置を得る。 - 特許庁

Since the gettering layer 12 contacting the epitaxial film 11 and formed of a carbon diffusion layer is formed, a heavy metal pollution substance in the epitaxial film 11 can be effectively gettered to the gettering layer 12 in, for instance, heat treatment in a device formation process.例文帳に追加

エピタキシャル膜１１に接して炭素拡散層からなるゲッタリング層１２を形成するので、例えばデバイス形成工程での熱処理時、エピタキシャル膜１１内の重金属汚染物質を効果的にゲッタリング層１２にゲッタリングすることができる。 - 特許庁

To provide a wastewater treatment method in a polyester production process capable of chemically treating acetaldehyde to convert the same to other compound to reduce the content of acetaldehyde in wastewater and capable of preventing the diffusion of acetaldehyde to the atmosphere.例文帳に追加

アセトアルデヒドを化学処理して他の化合物に変換して排水中のアセトアルデヒド含有量を低減させることができると共にアセトアルデヒドの大気への蒸散を防止することができるポリエステル製造工程における排水処理方法の提供。 - 特許庁

After that, a corrugated plate and a flat plate which constitute the honeycomb matrix and the broadened plate of the intermediated cylinder 8 are mutually diffusion joined and the intermediate cylinder 8 and the outer cylinder 2 are brazed by carrying out a heat treatment to complete the metal-made catalyst carrier 1.例文帳に追加

このあと真空中で熱処理することにより、ハニカムマトリクスを構成する波板、平板および中間筒の幅広板の相互間は拡散接合され、中間筒と外筒間はロウ付けされて金属製触媒担体１が完成する。 - 特許庁

To provide a technique for diassembling and treating an incinerator having dioxins deposited, in particular, the incinerator for urban refuse so that diffusion of dioxins to the air is prevented as much as possible without preliminary washing treatment when it is diassembled and treated.例文帳に追加

ダイオキシン類が付着してしまった焼却炉、特に都市ゴミの焼却炉を解体・処理する際に、予備洗浄処理を必要とせずに、ダイオキシン類の大気中への拡散を可及的に阻止しながら、解体・処理する技術を開発する。 - 特許庁

An air diffusion device includes a pipe part formed with a gas flow passage thereinside, and extending from a first position to a second position not overlapping the first position when viewing a state that the pipe part is incorporated in a wastewater treatment apparatus downward from above.例文帳に追加

散気装置は、ガス流路を内部に形成するパイプ部であって、排水処理装置に組み込まれた状態を上方から下方に向かって見た場合に、第１の位置から、第１の位置とは重ならない第２の位置まで延びる部分であるパイプ部を備える。 - 特許庁

In this way, the mist generated associated with the discharge of the treatment liquid of the head 101S is diffused chiefly into a recessed space formed between the heads 101Bk and 101C on both sides of it so that the diffusion is prevented from reaching the ink discharge opening surfaces of the heads on both sides.例文帳に追加

これにより、ヘッド１０１Ｓの処理液吐出に伴って発生するミストは、主にその両側のヘッド１０１Ｂｋおよび１０１Ｃとの間で形成される凹状の空間に拡散し、両側のヘッドのインク吐出口面まで及ぶことはほとんどない。 - 特許庁

To solve the problem that when a finer dielectric memory is manufactured, the aspect ratio in the structure for leading out the electric potential of an upper electrode to a diffusion layer becomes large, so that the coverage of the upper electrode is deteriorated and the upper electrode is disconnected upon the heat treatment for crystallizing the dielectric.例文帳に追加

誘電体メモリの微細化が進むと、上部電極の電位を拡散層へ引き出す構造におけるアスペクト比が大きくなるため、上部電極のカバレッジが悪化し、誘電体を結晶化させる熱処理時に上部電極が断線してしまう。 - 特許庁

To provide a method for producing an Ni-Ti based shape memory alloy by continuously producing an Ni-Ti laminated metallic strip with a desired shape in industrially, sufficiently practicable technical ranges, i.e., at ordinary temperature and low rolling ratio and performing heating diffusion treatment.例文帳に追加

工業的に十分実用可能な技術の範囲で、即ち、常温において低い圧延率で所望の形状をもったNi-Ti積層金属帯を連続生産し、加熱拡散処理を施してNi-Ti系の形状記憶合金を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor growth device for improving copper wiring surface treatment before forming a copper diffusion prevention insulating film by a mixed gas soak of a silane and ammonia, and also to provide a method for manufacturing a semiconductor device having copper wiring where a surface state is excellent with less resistance.例文帳に追加

シランとアンモニアの混合ガスソークによる銅拡散防止絶縁膜形成前の銅配線表面処理を改善できる気相成長装置、および表面状態がよく、抵抗が低い銅配線を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a planographic printing plate of a silver complex diffusion and transfer method having excellent printing resistance, especially excellent joining properties of aluminum and silver, free from image skipping due to the peeling of a silver image and free from image deterioration (having high cleaner resistance) even by sweeping and wiping treatment using an acid cleaner liquid and the like.例文帳に追加

耐刷、特にアルミニウムと銀との接合性に優れ、銀画像の剥離による画像の飛びが無く、また酸性クリーナー液等による払い拭き処理によっても画像劣化の無い（クリーナー耐性が高い）銀錯塩拡散転写法の平版印刷版を提供する。 - 特許庁

A Co2Si film 11 is formed on the surfaces of an N (P)-type gate silicon layer 5 (6) and an N (P)-type diffusion layer 8 (9) through high-temperature sputtering the Co2Si film 11 is turned into a CoSi film 12, and furthermore the CoSi film 12 is turned into a CoSi2 film 13 by a thermal treatment.例文帳に追加

そして、高温スパッタリングでＮ（Ｐ）型ゲートシリコン層５（６）、Ｎ（Ｐ）型拡散層８（９）表面にＣｏ_2 Ｓｉ膜を成膜し、熱処理でＣｏ_2 Ｓｉ膜１１をＣｏＳｉ膜１２に更にＣｏＳｉ膜１２をＣｏＳｉ_2 膜１３に変換する。 - 特許庁

By performing the production in such a manner that Al and Si are stuck to the surface of a base material steel sheet, working strains are applied thereto by cold working, and then, diffusion heat treatment is performed, the soft magnetic steel sheet in which the accumulation degree of the {222} face to the steel sheet face of αFe crystals is increased can be formed.例文帳に追加

母材鋼板の表面にＡｌやＳｉを付着させ、冷間で加工歪を付与してから拡散熱処理を行って製造することにより、αＦｅ結晶の鋼板面に対する｛２２２｝面集積度を高めた軟磁性鋼板を形成できる。 - 特許庁

Thereby, the fine particle of the base metal surface can be controlled freely by a series of heat-treatment, a dispersion efficiency of an intermediate produced on working is excellent and a diffusion path of a reducing agent can be provided continuously, whereby an excellent long life property can be obtained.例文帳に追加

これにより、一連の熱処理を通じて基地金属表面の微細組織を自在に制御できて、動作時に生成される中間生成物質の分散効果に優れ、還元剤の拡散経路を持続的に提供できて優れた長寿な特性を得られる。 - 特許庁

To remove remaining amorphous or polycrystalline silicon through a process, in which amorphous or polysilicon is deposited on a silicon semiconductor substrate, and the amorphous or polysilicon is solid-phase down selectively only on an impurity diffusion region to a single crystal layer, without treatment at a high temperature, through etching.例文帳に追加

シリコン半導体基板にアモルファス又はポリシリコンを堆積後高温処理を伴わずに選択的にこれを不純物拡散領域上のみ単結晶層に固相成長させる工程を経て残留したアモルファスや多結晶のシリコンをエッチング除去する。 - 特許庁

To provide a translucent positive electrode for a compound semiconductor light-emitting device that does not need alloying heat treatment under electron radiation, high temperature annealing or oxygen atmosphere, and has proper translucency and low contact resistance, being superior in diffusion of electric current.例文帳に追加

電子線照射や高温アニールまたは酸素雰囲気下での合金化熱処理等を必要とせず、かつ良好な透光性と低接触抵抗を有する電流拡散性に優れた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子用正極を提供すること。 - 特許庁

To provide a thermal ring closure for microwave curing that is capable of enabling the curing temperature to become a low temperature range of less than 250°C and in which the membrane properties of the resulting cured membrane has no difference from the physical properties of the cured membrane obtained from the high temperature treatment using a thermal diffusion furnace.例文帳に追加

マイクロ波照射による硬化温度を２５０℃未満に低温度化することが可能で、得られる硬化膜の膜特性が熱拡散炉を用いた高温処理で得られる硬化膜の物性と差がないマイクロ波硬化用熱閉環硬化型樹脂を提供する。 - 特許庁

The batch type waste water treatment device is provided with a reaction tank 4 having a group of microorganisms containing an organic substance assimilable yeast; an adjustment tank 2 adjusting the change of waste water; a diffusion means 5 for aerating the inside of the reaction tank 4; and a discharge means 9 for discharging a supernatant to the outside of the reaction tank 4.例文帳に追加

有機物資化性酵母を含む微生物群を有する反応槽４と、廃水の投入を調整する調整槽２と、反応槽４内を曝気する散気手段５と、上澄みを反応槽４外に排出する排出手段９とを備える。 - 特許庁

The facility for producing the Ni-plated thin steel sheet where an Ni-electric plating apparatus for applying the Ni-plating on the thin steel sheet is directly connected with a continuous annealing furnace for applying a diffusion treatment to the Ni-plated steel sheet, is characterized in that the continuous annealing furnace is a horizontal type annealing furnace.例文帳に追加

薄鋼板にNiメッキを施すNi電気メッキ装置と、Niメッキの拡散処理を行う連続焼鈍炉とを直結したNiメッキ薄鋼板の製造設備であって、該連続焼鈍炉が横形焼鈍炉であることを特徴とするNiメッキ薄鋼板の製造設備。 - 特許庁

The titanium material 1, which has the thermal spray film layer after the fusion diffusion treatment as a joining face, and the aluminum material 2 are butted, both are joined with using TIG welding using an aluminum filler material or brazing joing using brazing filler metal.例文帳に追加

溶融拡散処理後の溶射皮膜層３を接合面としてチタン系材料１とアルミニウム系材料２とを突き合わせて、アルミニウム系溶加材を用いたＴＩＧ溶接もしくはアルミニウム系ろう材を用いたろう付け接合法により両者を接合する。 - 特許庁

After pulverizing and mixing particles by adding mechanical energy to a mixture of electrode reaction catalyst particles and catalyst carrier particles as starting materials, solution of proton conductive polymers is added, and further, mixing/diffusion treatment is carried out.例文帳に追加

出発原料となる電極反応触媒粒子、触媒担体粒子の混合物に機械的エネルギーを加えることで粒子の粉砕および混合をした後、プロトン伝導性高分子の溶液を添加し、さらに混合・分散処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To form a high-concentration impurity diffusion region, and to provide measures against dishing in CMP treatment without adding any photolithography processes with a configuration, where transistors having gate insulation films with different film thicknesses are provided and a guard ring is provided around an element formation region.例文帳に追加

膜厚の異なるゲート絶縁膜のトランジスタを備えると共に素子形成領域の周囲にガードリングを設ける構成で、フォトリソグラフィ工程を追加することなく、高濃度の不純物拡散領域の形成とＣＭＰ処理のディッシング対策を行えるようにする。 - 特許庁

At this time, the OH group on the glass surface of the optical fiber 11 is substituted with a halogen element, and therefore the occurrence of defects by the generation and diffusion of the OH group during the heat treatment is lessened and the degradation in the mechanical strength of the optical fiber is suppressed.例文帳に追加

このとき、光ファイバ１１のガラス表面上のＯＨ基がハロゲン元素に置換されるので、加熱処理時にＯＨ基が発生及び拡散されることによる欠陥の発生を低減して、光ファイバの機械的強度の低下を抑制することができる。 - 特許庁

Therefore, when the impurity region 132 is subjected to heat treatment process after ion implantation, the occurrence of potential decline in the readout gate section 140 is suppressed, and the blooming of the section 140 can be prevented so that the thermal diffusion in the impurity region 132 does not effect the gate section 140.例文帳に追加

したがって、Ｎ^- 型不純物領域１３２をイオン注入して熱工程にかける際に、熱拡散の影響が読み出しゲート部１４０に及ばないようにし、読み出しゲート部１４０のポテンシャル低下を抑制し、この部分のブルーミングを防止する。 - 特許庁

By performing high-temperature heat treatment of about 1,100°C or above, an n-type impurity solid phase diffusion region 11 is formed by diffusing Si, and the window region 12 is selectively formed in the active layer 4 of the vicinity region of a planned part 14 for forming a laser end surface.例文帳に追加

約１１００℃以上の高温熱処理を実施してｎ型不純物固相拡散領域１１をＳｉの拡散により形成し、レーザ端面形成予定部１４近傍領域の活性層４内に選択的に窓領域１２を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a power MOSFET which is capable of forming a body layer without performing a thermal diffusion treatment carried out at a high temperature for a long time, and preventing impurities contained in a gate electrode from diffusing into a semiconductor substrate through a gate insulating film.例文帳に追加

高温、長時間の熱拡散処理を行わずにボディ層を形成することができ、ゲート電極中に含まれる不純物がゲート絶縁膜を通して半導体基板中に拡散することを防止できるパワーＭＯＳＦＥＴの製造方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method for a gas diffusion electrode, a sheet of gas diffusion electrode having a reaction layer whose main components are silver or silver alloy particulates and particulates of polytetrafluoroethylene, is pressed by a press jig having continuous irregularity at a normal temperature and at a pressure of 10 kg/cm2 or more, then is subjected to a heat treatment without being pressurized at a temperature not less than the melting point of polyetrafluoroethylene.例文帳に追加

銀微粒子又は銀合金微粒子とボリテトラフルオロエチレン微粒子を主要構成成分とする反応層を有するガス拡散電極シートを、連続的な凹凸を有するプレスジグを用いて常温で１０ｋｇ／ｃｍ^2 以上の圧力でプレスし、その後圧力をかけないでポリテトラフルオロエチレンの融点以上の温度で圧力をかけずに熱処理することを特徴とするガス拡散電極の製造方法。 - 特許庁

The capacitor is manufactured by forming a contact hole filled with a doped polysilicon layer and then a diffusion-blocking film, forming a silicate glass film having a concave hole for the capacitor into the top of the contact hole, forming the RU lower electrode in the concave hole, and continuously executing an NH3-plasma treatment and an N2O-plasma treatment to form a BST dielectric film upper electrode.例文帳に追加

本発明のキャパシタはドープポリシリコン層、オミック層及び拡散防止膜が、順次的に埋め込められたコンタクトホールを形成し、コンタクトホールの上部にキャパシタ用コンケーブホールを持つシリゲートガラス膜を形成し、キャパシタ用コンケーブホール内にRU下部電極を形成した後、NH_3-プラズマ処理及びN_2Ｏ-プラズマ処理を連続的に実施し、BST誘電体膜上部電極を形成してなる。 - 特許庁

In a method for making a planographic printing plate in which a planographic printing material having physical developing nuclei between an aluminum support and a silver halide emulsion layer and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is exposed and then at least development, washing and finishing treatment are carried out, a finishing solution containing bromine ions or iodine ions is used in the finishing treatment.例文帳に追加

アルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷材料を露光後、少なくとも現像処理、水洗処理及び仕上げ処理を行う製版方法において、前記仕上げ処理に臭素イオンあるいはヨウ素イオンを含有する仕上げ液を用いることを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

To provide a surface treatment device for a work which can rotate a barrel with a work charged therein at a variable speed, automatically change the position of presence, eliminate variance in surface treatment of a work, prevent the work from overlapping or sticking, realizing excellent introduction and diffusion of an external solution, and suppress reduction in concentration in a relatively simple work with economic and easy maintenance.例文帳に追加

ワ−クが投入されるバレルを変速回転させるとともに、自動的に存在位置を変化させ、ワ−クの表面処理のバラ付きをなくし、ワ−クの重なりや貼り付きも防止し、外部液の導入拡散も良好として濃度減少を抑えることができることとし、しかも比較的簡易な構造で済み、経済的で保守管理も容易となるワ−クの表面処理装置とする。 - 特許庁

By the heating, a piezoelectric film 12 is efficiently heated in a short time with far-infrared rays and a metal substrate 11 is heated with near-infrared rays to suppress heat release from the piezoelectric film 12 through the metal substrate 11, whereby the piezoelectric film 12 is allowed to attain to a temperature adequate for annealing treatment in a short time and satisfactory annealing treatment can be carried out while suppressing diffusion.例文帳に追加

これにより、遠赤外線によって圧電膜１２を短時間で効率よく加熱するとともに、近赤外線によって金属基板１１を加熱して圧電膜１２からの金属基板１１を介した放熱を抑制することで、圧電膜１２を短時間でアニール処理に充分な温度まで至らしめ、拡散を抑制しつつ充分なアニール処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide a treatment method which enables the production of a solidifying material slurry for containment into ground by recovering bottom mud or contaminated soil, and mixing contaminant-containing slurry with a solidifying material, a purifying agent and the like, and performs containment treatment by kneading the solidifying material slurry deeply into the ground on land, or in sea by using a deep layer mixer, and insolubilizing it so as to prevent diffusion.例文帳に追加

底泥、或いは汚染土壌を回収して、汚染物質を含む泥水スラリーを、固化材および浄化剤等と混合して「地盤中への封じ込め用固化材スラリー」を製造し、且つ、深層混合処理装置を使用して陸上の地盤中、又は水底地盤中へ深く練り込んで、拡散を防止できるように不溶化し、封じ込め処理する処理工法を提供する。 - 特許庁

The biomass treatment system comprises a methane fermentation tank for methane fermentation of biomass, a methane fermentation gas recovery device for recovering methane fermentation gas generated by the methane fermentation, a diffusion dialyzer or electrodialyzer for separating methane fermentation products generated by the methane fermentation into diffuse liquid and dialyzate, a nitritification tank for nitritification of the diffuse liquid, and an anamox treatment tank for anamox treatment of the liquid subjected to the nitritification.例文帳に追加

本発明のバイオマス処理システムは、バイオマスをメタン発酵させるためのメタン発酵槽；該メタン発酵により生じたメタン発酵ガスを回収するためのメタン発酵ガス回収装置；該メタン発酵により生じたメタン発酵処理物を拡散液と透析液とに分離するための拡散透析装置または電気透析装置；該拡散液を亜硝酸化するための亜硝酸化槽；および、該亜硝酸化処理液をアナモックス処理するためのアナモックス処理槽；を備える。 - 特許庁

Consequently, many gas particles such as oxygen radicals can be entered into the fine gap for plasma treatment by increasing a gas diffusion coefficient at the time of plasma discharge, and a good surface improvement can be efficiently performed even in the deep part of the fine gap.例文帳に追加

これにより、プラズマ放電時においてガスの拡散係数を増大させて酸素ラジカルなどのガス粒子をプラズマ処理対象の微小隙間内に多数進入させることができ、微少隙間の奥部においても良好な表面改質を効率よく行うことが出来る。 - 特許庁

To provide a light emitting element having an element substrate bonded to an emission layer part through a contact metal layer and a reflection metal layer in which the emission layer part is insusceptible to diffusion of components from the contact metal layer even if the contact metal layer is subjected to heat treatment for alloying.例文帳に追加

コンタクト金属層及び反射用の金属層を介して素子基板を発光層部に結合した発光素子において、コンタクト金属層の合金化熱処理を行っても、該コンタクト金属層からの成分拡散の影響が発光層部に及びにくい発光素子を提供する。 - 特許庁

In the float glass working treatment for manufacturing a flat glass substrate, whose quality is improved, the dispersion in thickness of the thin flat glass substrate to be formed is minimized by providing flags in the molten metal in thermal diffusion areas on both faces of a glass sheet during formation.例文帳に追加

品質向上された平板ガラス基板製造のためのフロートガラス加工処理において、形成中のガラスシートの両面上の熱拡散領域中の溶融金属中にフラグを設けて形成される薄平板ガラス基板における厚さ変動を最小減に抑える。 - 特許庁

To provide an aerator which biologically treats a water to be treated such as organic wastes and the like and to provide a method for defoaming scum generated in the aerator which is capable of suitably defoaming scum generated by diffusion in the aerator such as a biological treatment tank, a solubilization tank and the like.例文帳に追加

有機性廃水等の被処理水を生物学的に処理する曝気槽と、その曝気槽において発生する泡を消泡する方法に関し、生物処理槽や可溶化槽等の曝気槽において散気により発生した泡を好適に消泡させることを課題とする。 - 特許庁