「erosion rate」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To prevent the etching rate or the deposition rate from decreasing in etching or plasma CVD by suppressing electric field erosion at the channel portion of a heat exchanging mechanism.例文帳に追加

熱交換機構の流路部分の電界腐食を抑え、エッチングやプラズマＣＶＤにおいてエッチングレートやデポレートが低下するのを防ぐ。 - 特許庁

To obtain an aqueous dispersion for chemical machine polishing useful for polishing copper, having a high polishing rate, capable of decreasing an erosion rate in overpolishing.例文帳に追加

研磨速度が高く、オーバーポリッシュ時のエロージョン速度を小さくすることができる銅の研磨に用いる化学機械研磨用水系分散体を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing composition for polishing a tungsten film and an insulation film at a high selective rate while scarcely causing erosion.例文帳に追加

タングステン膜と絶縁体膜とを高い選択比で研磨でき、かつエロージョンの少ない研磨用組成物の提供。 - 特許庁

The scan film deposition is carried out while the gas flow rate of the first gas with a low sputtering rate is always increased, and the gas flow rate of the second gas with a high sputtering rate is always reduced correspondingly to the secular change of the target shape caused by the erosion of the target 5, thus a film thickness change is prevented.例文帳に追加

ターゲット５のエロージョンに起因するターゲット形状の経時変化に対応させて、スパッタレートの小さい第１のガスのガス流量を常に増加させ、スパッタレートの大きい第２のガスのガス流量を常に減少させながらスキャン成膜を行うことで、膜厚変化を防ぐ。 - 特許庁

To provide a polishing liquid which can achieve a high polishing rate for metal, a low etching rate and a reduced polishing friction, to adapt for producing a semiconductor device having a metal interconnection of a reduced dishing and erosion with a high productivity.例文帳に追加

生産性が高く金属配線のディッシングとエロージョンが小さい半導体デバイスを得るために、金属の研磨速度が大で、エッチング速度が小で、かつ研磨摩擦が小さい研磨液を提供する。 - 特許庁

To provide a crucible for melting rare earth alloy capable of elongat ing the life with little erosion even when the rare earth alloy is melted therein, and a yield rate of the alloy can be improved.例文帳に追加

希土類合金を溶融しても溶損が少なく寿命が長く、合金の歩留まりを向上できる希土類合金溶解用のるつぼを提供する。 - 特許庁

To improve response of a nozzle needle and prevent cavitation erosion by making volume of a valve chamber 13 small without causing insufficient flow rate.例文帳に追加

流量不足を生じることなく、バルブ室１３の容積を小さくして、ノズルニードルの応答性を向上でき、キャビテーションエロージョンの発生を防止すること。 - 特許庁

To provide a polishing solution for metal which has a rapid CMP rate, and is capable of fabricating LSIs with little occurrence of corrosion, scratch, thinning, dishing, erosion and the like.例文帳に追加

迅速なCMP速度を有し、かつコロージョンやスクラッチ、シニング、ディッシング、エロージョンなどの発生が少ない、LSIの作製を可能とする金属用研磨液を提供すること。 - 特許庁

An implant includes at least two degradation zones, each of which has a degradation rate, wherein the first degradation zone 34 degrades by surface erosion and the second degradation zone 32 degrades by bulk erosion.例文帳に追加

少なくとも２つの分解ゾーンを備える移植物であって、各分解ゾーンが分解速度を有し、該少なくとも２つの分解ゾーンは、表面腐食により分解する第一の分解ゾーン３４、および内部腐食により分解する第二の分解ゾーン３２を備える、移植物。 - 特許庁

To obtain a polymer having an erosion rate in seawater and improved flexibility, suitable for binders of antifouling marine coating materials.例文帳に追加

船舶用防汚塗料のバインダーとして使用するのに好適な海水浸食速度を有し且つ改善された柔軟性を有する重合体の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide polishing solution for metal exhibiting a high CMP rate and capable of fabricating an LSI while suppressing occurrence of corrosion, scratch, thinning, dishing, erosion, and the like.例文帳に追加

迅速なＣＭＰ速度を有し、かつコロージョンやスクラッチ、シニング、ディッシング、エロージョンなどの発生が少ない、ＬＳＩの作製を可能とする金属用研磨液を提供すること。 - 特許庁

In a folding process of the roof weir A, V notches are not generated, a consecutively accurate flow rate can be adjusted, and a riverbed and a face of slope not need to reinforced against erosion.例文帳に追加

起伏堰Ａの倒伏過程においてＶノッチが発生せず、連続した正確な流量調整ができ、侵食に備えて河床や法面を補強しておく必要もない。 - 特許庁

The agent is released at a zero-order or an approximately linear rate because the release rate of the agent will entirely be governed by erosion from exposed core surfaces; the surface area of which does not change substantially during the release process.例文帳に追加

この剤形では薬剤の放出速度は露出されたコア表面からの侵食によって完全に支配され、その表面積は放出過程中実質的に変化しないので、薬剤は０次オーダーまたはほぼ線状の速度で放出される。 - 特許庁

To provide a metal polishing method for discovering a high CMP rate, and for realizing high flattening, dishing amount reduction, and erosion amount reduction, and for executing high reliable metallic film embedding pattern formation.例文帳に追加

高いＣＭＰ速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal polishing method for discovering a high CMP rate, and for realizing high flattening, dishing amount reduction, and erosion amount reduction, and for realizing highly reliable metallic film embedding pattern formation.例文帳に追加

高いＣＭＰ速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal polishing which enables the formation of the buried pattern of a highly reliable metallic film by revealing high CMP rate, and enabling the high flattening, the reduction of the quantity of dishing, and the reduction of the quantity of erosion.例文帳に追加

高いＣＭＰ速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fuel injection valve capable of precise injection control by reducing generation of intense heat and the occurrence of erosion, by moderating a pressure drop rate of fuel discharged from a back pressure control chamber.例文帳に追加

背圧制御室から排出される燃料の圧力降下割合を緩やかにし、高熱の発生及びエロージョンの発生を低減させて、緻密な噴射制御を行うことができる燃料噴射弁を提供する。 - 特許庁

A method for measuring erosion is provided with first to third electrodes with the same material as that of a metal device in fluid that flows in the metal device, the change in an electrochemical current noise and an electrochemical potential noise when the flow rate of the fluid is changed is measured, and the amount of reduced thickness due to erosion by operation processing is calculated.例文帳に追加

金属装置内を流れる流体中に金属装置と同じ材質を有する第１〜第３電極を設け、流体の流速を変化させた場合の電気化学的電流ノイズと電気化学的電位ノイズの変化をそれぞれ測定し、演算処理によってエロージョンによる減肉量を算出するエロージョンの測定方法。 - 特許庁

To perform flow rate operation uninfluenced by a change of material characteristics, a cross sectional characteristic, and rigidity of a flow tube generated by erosion, corrosion and coating or the like of the flow tube caused by a material flowing through the flow tube during operation.例文帳に追加

作動中に流管を通って流れている材料による流管の侵食、腐蝕及び被覆等によって起こる流管の材料特性、断面特性及び剛性の変化に影響されない流量演算を行う。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus which uses a high-frequency power source or a direct-current power source superimposed by the high-frequency power, and has an improved use efficiency for a target material by promoting erosion in the peripheral part of the target without decreasing a film-deposition rate.例文帳に追加

高周波あるいは高周波と直流が重畳された電源を用いたスパッタリングにおいて成膜レートを低下させることなく、ターゲット外周端部の侵食を促進しターゲット材料利用効率を向上させる。 - 特許庁

To provide a heat exchanger tube for an open rack vaporizer that has high durability to erosion-corrosion deterioration which is a problem particularly in a flow of a high flow-rate, while maintaining its sacrificial anticorrosion property, in order to improve the durability of an ORV panel harp.例文帳に追加

ＯＲＶ伝熱管パネルの耐久性向上に関わり、犠牲防食性を維持しつつ、特に高流速下で問題になるエロージョン・コロージョン損傷に対して耐久性の高いオープンラック式気化器用伝熱管を提供する。 - 特許庁

To produce an etching solution for nickel or a nickel alloy in which the etching rate of the nickel or a nickel alloy is high, also, the erosion of the other metals such as copper and a copper alloy in particular is extremely small, and moreover, side etching is hardly occurred.例文帳に追加

ニッケルまたはニッケル合金のエッチング速度が速く、かつそれら以外の金属、特に銅や銅合金の浸食がきわめて少なく、更にサイドエッチングがほとんど生じないニッケルまたはニッケル合金のエッチング液を提供すること。 - 特許庁

This constituent of inhibitor is applied to chemico-mechanical polishing; and while a high polishing removal rate of a metallization layer is being maintained, it has the property of suppressing metal etching, so that polishing failures, such as overpolishing and erosion, can be reduced.例文帳に追加

該抑制剤の構成物は化学機械研磨において応用し、金属層の高研磨除去率を維持すると同時に、金属エッチングの抑制の特性を兼ね備え、研磨過剰及び侵食等の研磨欠陥を減らすことができる。 - 特許庁

The thermally sprayed film with slurry-erosion resistance 2a to 2c including a ceramic and a metal, which has been bonded to the surface of a substrate 1 with thermal spraying, has the hard particles of the ceramic on the surface of the film at the area rate of 25-50%.例文帳に追加

基材１の表面に溶射により接合された、セラミックス及び金属を含む耐スラリーエロージョン溶射被膜２ａないし２ｃにおいて、前記被膜の表面に、セラミックスの硬質粒子が面積率で２５％ないし５０％存在する。 - 特許庁

To provide a stopper adjusting the flow rate of a molten metal exhausted from a vessel such as a laddle and further performing the blowing-in of gas upon casting, which suppresses the erosion of a mandrel and can be used even for casting on a large scale for a long time.例文帳に追加

鋳造時に取鍋等の容器から排出する溶融金属の流量を調整すると共にガスの吹き込みを行うストッパであって、芯金の溶損が抑止され、長時間にわたる大規模な鋳造にも使用可能なストッパを提供する。 - 特許庁

After eliminating the erosion (surface step A) formed on the first insulating film 11 by performing a second CMP at a polishing rate of the first insulating film 11 higher than the polishing rate of the plugs 14, a second insulating film is deposited on the first insulating film 11.例文帳に追加

第１の絶縁膜１１に対して、第１の絶縁膜１１に対する研磨レートがプラグ１４に対する研磨レートよりも大きい研磨レートで第２回目のＣＭＰを行なって、第１の絶縁膜１１に形成されているエロジョン（表面段差Ａ）を解消しておいてから、該第１の絶縁膜１１の上に第２の絶縁膜を堆積する。 - 特許庁

To provide a slurry for chemical and mechanical polishing, capable of achieving both of a high polishing rate and low erosion and so capable of forming high-performance wiring at a low cost, and to provide a method for producing semiconductor devices using CMP(Chemical Mechanical Polishing) utilizing the slurry.例文帳に追加

高研磨速度及び低エロージョンの両方が実現でき、その結果、低コストで高性能な配線を形成することができる化学的機械的研磨用スラリ及びこのスラリを使用したＣＭＰを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The erosion rate and resistance to cracking of the copolymer, when used as a binder in the marine antifoulant paint, is controlled by adjusting the ratios of the individual monomers and the amount of the crosslinking agent in the copolymer.例文帳に追加

結合剤として船舶用防汚ペイントに使用したときに、本発明の共重合体の浸蝕速度及び割れに対する抵抗性は、本発明の共重合体中のそれぞれの単量体の比及び架橋剤の量を調節することによって制御される。 - 特許庁

An impeller provided with a hub and several blades circumferentially attached around the hub at a distance, has the thermally sprayed film with the slurry-erosion resistance deposited on at least one part of the surface of the impeller, wherein the film has the hard particles of the ceramic on the surface at the area rate of 25-50%.例文帳に追加

ハブと、ハブの周りに円周方向に隔てて取り付けられた複数の翼とを備た羽根車において、羽根車の表面の少なくとも一部に耐スラリーエロージョン溶射被膜が溶着され、該被膜の表面に、セラミックスの硬質粒子が面積率で２５％ないし５０％存在する。 - 特許庁

To provide a ceramic-based composite material having a protective layer which is hardly damaged by cracking, separation, erosion, scattering, reacting, etc., in a high-temperature gas flowing at a high flow rate, does not lose its protective layer during long-term use and is therefore usable in the high-temperature gas for a long time.例文帳に追加

流速が早く高温のガス中において、クラック発生、剥離、エロージョン、飛散、反応等により損傷を受けにくく、長時間の使用において保護層が消滅せず、これにより高温ガス中で長時間使用可能な保護層を有するセラミックス基複合材料を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing liquid for metal which exhibits a high CMP rate without scratching a polished surface after unfreezing and allows to highly flatten, to reduce dishing and erosion and to form the reliable embedded pattern of a metal film, and also to provide a method of preparation of the same and a method of polishing using the same.例文帳に追加

凍結解凍後も研磨面に傷を発生させずに高いＣＭＰ速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液、その調製方法及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tubular reactor capable of preventing redundancy of the reactor from being invited, pressure loss from being increased and erosion from being caused and an oxidation treatment apparatus for to-be-treated organic liquid using the same by enabling easy temperature control at an inlet side of the reactor and keeping flow rate within a preferred range in a whole area of the reactor.例文帳に追加

反応器入口側の温度制御が容易であり、かつ、反応器全域で流速を好ましい範囲に保つことで、反応器の冗長化、圧力損失の増大及びエロージョンの発生を防止できる管型反応器及びこれを用いた有機性被処理液の酸化処理装置の提供を目的とするものである。 - 特許庁

To polish an extra metal film or an extra barrier film formed on the surface of a substrate while maintaining a polishing rate and its uniformity in the substrate surface, and preventing the occurrence of dishing or erosion even in a semiconductor device having a very fine wiring structure of 65 nm or later generation.例文帳に追加

たとえ６５ｎｍ乃至それ以降のより微細な配線構造を有する半導体デバイスであっても、基板の表面に形成した余剰な金属膜やバリア膜を、研磨速度及びその基板表面内での均一性を維持し、かつディッシングやエロージョンの発生を抑制しつつ研磨できるようにする。 - 特許庁

To provide a gate valve which can finely control a flow rate by improving the flow property corresponding to valve opening and has a function to avoid a bad influence such as breaking erosion caused by cavitation, which is feared when the gate valve is a little opened, from exerting a valve housing and the pipe connected to the side downstream of the valve housing.例文帳に追加

弁開動作に対応する流量特性を向上させることで細かい流量調整が期待できるとともに、小さい弁開時に懸念されるキャビテーション壊食などの悪影響が弁箱および弁箱の下流側に接続されている配管などにおよぶのを回避する機能を備えた仕切弁を提供する。 - 特許庁

The radiation sensitive composition contains (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator, and the erosion rate of the section shape of a pattern formed from the radiation sensitive composition is ≤ 30% or the radiation sensitive composition contains the components (A)-(D) and (E) a chain transfer agent.例文帳に追加

カラー液晶表示装置用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感放射線性組成物であって、該感放射線性組成物から形成されたパターンの断面形状の浸食率が３０％以下であることを特徴とするか、または前記（Ａ）〜（Ｄ）および（Ｅ）連鎖移動剤を含有することを特徴とする。 - 特許庁