「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a lead-acid battery capable of improving lead-acid battery performance without aging after filling a substrate with positive electrode active material-like paste because an aging process and a formation process need significantly long time as compared with filling of the paste-like active material or a battery assembly process.例文帳に追加

熟成工程と化成工程はペースト状活物質の充填や電池組立工程に比べ著しく長い時間を必要とするため、正極活物質状ペーストを基板に充填後、熟成を行わず蓄電池性能を向上させる鉛蓄電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

To accurately manage service life and speed up a process of reading data in a nonvolatile memory and a process of writing data therein, even in a process cartridge having component parts for carrying out image formation and the nonvolatile memory for storing specific information which correspond to addresses.例文帳に追加

画像形成を実行する構成要素と、アドレスに対応して所定の情報を記憶する不揮発性メモリを備えたプロセスカートリッジであって、寿命を精度良く管理できる上、不揮発性メモリ内のデータの読み出し処理や書き込み処理を高速化できるものを提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing circuit board includes: a substrate formation process S1 for burning green sheet to form a ceramic substrate; a catalyst patterning process S2 for drawing and forming a catalyst pattern from a liquid body containing plating catalyst; and a plating process S3 for plating the catalyst pattern.例文帳に追加

グリーンシートを焼成してセラミック基板を形成する基板形成工程Ｓ１と、めっき触媒を含有する液状体で触媒パターンを描画形成する触媒パターニング工程Ｓ２と、前記触媒パターンにめっきを施すめっき工程Ｓ３と、を有する回路基板の製造法。 - 特許庁

In the prior art, the formation of extrusions and indentations were produced chemically. As such the process required post-process treatments and required multiple additional steps. In this process of fabrication, no post-processing is required and the use of specific gas phase etching medium produces better results. 例文帳に追加

従来は、化学的処理を施すことによって凹凸を形成していたので、後処理が必要であり、製造工程が多かったが、この製造方法によると、後処理が不要になるとともに、特定の成分からなるガス状エッチング媒体を使用しているため良好なエッチング効果が得られる。 - 特許庁

The painting process, the transfer process, and the heating process are carried out in an atmosphere of gases supplied by a gas supplying means in which carbon dioxide gas, oxygen gas, or air is filled, that prevents the formation of barium carbonate by the inclusion of CO_2 in the painted film, and restrains the leakage current.例文帳に追加

前記塗布工程、搬送工程及び加熱工程を二酸化炭素ガス、酸素ガスまたは空気が充填されているガス供給手段から供給されるガス雰囲気にて行うことでＣＯ2が塗布膜に取り込まれて炭酸バリウムが生成することが防がれ、リーク電流を抑えることができる。 - 特許庁

If there is a heating process using gases such as nitrogen in the middle of formation of the multilayer dielectric film SI (for example, a thermal nitriding process for suppressing an incubation time) in the manufacture of the non-volatile semiconductor memory device, the heating process is performed after a nitrogen stop film (41: not shown in the figure) for protecting the peripheral transistor is formed.例文帳に追加

この製造において、積層誘電体膜ＳＩの形成途中に窒素を含むガスを用いた加熱工程（例えばインキュベーション時間抑制のための熱窒化処理）がある場合に、周辺トランジスタを保護する窒素阻止膜（４１：不図示）を形成し、当該加熱工程を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which lowering of impurity concentration in a channel region caused by a sacrificial oxidation process or a gate oxide formation process is suppressed and thereby impurity concentration in the channel region can be controlled easily and a desired Vt can be obtained, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

犠牲酸化工程やゲート酸化形成工程に起因するチャネル領域の不純物濃度の低下を抑制し、それによってチャネル領域の不純物濃度の制御が容易で且つ所望のＶｔを得ることが可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of improving the surface roughness of an upper section in a floating gate electrode by performing nitriding process after forming a floating gate and capable of simplifying the nitriding process and a dielectric film formation process in situ.例文帳に追加

フローティングゲートを形成した後、窒化工程を行ってフローティングゲート電極上部の表面荒さを改善することができ、窒化工程と誘電体膜形成工程をインサイチュで行って工程を単純化することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a sealing substrate and a process for manufacturing an organic EL panel which, in the case where an organic EL panel is manufactured by multiple panel formation, suppresses a deviation between a formation position of an organic EL element formed on a first substrate and formation positions of individual housing parts formed on a sealing substrate, and can improve the yield of an organic EL panel.例文帳に追加

多面取りによって有機ＥＬパネルを製造する場合において、第一の基板に形成される有機ＥＬ素子の形成位置と封止用基板に形成される各収納部の形成位置とにズレが生じることを抑制し、有機ＥＬパネル歩留まりを向上させることが可能な封止用基板の製造方法及び有機ＥＬパネルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

For a process simulator 510 to support the design of a semiconductor by simulating the production process of a semiconductor device based on prescribed production process conditions, this process simulator has an arithmetic means 512 for simulating the process for forming the structure of the semiconductor device self-matchingly in the production process and an input means 511 for inputting information, after the formation of a section formed self-matchingly in the structure of the semiconductor device.例文帳に追加

プロセスシミュレーター５１０は、所定の製造プロセス条件に基づいて半導体素子の製造工程をシミュレーションして半導体の設計を支援するものであって、製造工程のうち自己整合的に前記半導体素子の構造を形成する工程についてシミュレーションする演算手段５１２と、半導体素子の構造のうち、自己整合的に形成される部分の形成後の情報を入力する入力手段５１１とを有する。 - 特許庁

The manufacturing method further includes: an aperture formation process for forming an aperture 36 in an area facing the terminal portion of the second substrate base material 32 before the lamination process; and an inspection process for inspecting lighting by supplying an inspection signal to each terminal portion exposed through the aperture 36 on the laminated substrate base material 34 before the division process.例文帳に追加

さらに、貼り合わせ工程の前に、第２基板母材３２における端子部に対向する領域に、予め開口部３６を形成する開口部形成工程と、分断工程の前に、貼合せ基板母材３４において開口部３６を介して露出している各端子部に、検査信号を供給して点灯検査を行う検査工程とを備える。 - 特許庁

The common operation apparatus is provided with a specific operation means generating image reconstruction data specific to the different types of image diagnostic apparatuses respectively, and a common operation means for executing posttreatment of an image formation and analysis process from the image reconstruction data, an image display control process, an image archive process, and an image network communication process (software).例文帳に追加

共用操作装置は、異種の医用画像診断装置のそれぞれに特有な画像再構成データを生成する特有操作処理手段と、画像再構成データから画像形成、解析処理、画像表示制御処理、画像アーカイブ処理及び画像ネットワーク通信処理(ソフトウェア）の後処理である共通操作処理手段とを備える。 - 特許庁

The fuel tank is manufactured by the manufacturing method including the fireproof layer formation process, which comprises a container manufacturing process of manufacturing the synthetic resin container, a surface treatment process of carrying out a surface treatment on the outer surface of the container, and a coating process of applying a fireproofing coating material containing the low-temperature expansive graphite to the container already subjected to the surface treatment.例文帳に追加

該燃料タンクは、合成樹脂製の容器体を製造する容器体製造工程、前記容器体の外面を表面処理する表面処理工程、及び表面処理後の前記容器体に低温膨張性黒鉛を含む耐火塗料を塗布する塗装工程とを備えた耐火層を有する製造方法により製造する。 - 特許庁

This method for manufacturing electronic parts for a high frequency a process for performing pattern formation of a plated resist 2 on the surface of a ceramic element assemble or a ceramic element assembly 1 for a dielectric resonator, a process for forming an electroless plating film 5, a process for forming an electroplating film 6 and a process for peeling the plated resist 2.例文帳に追加

本発明に係る高周波用電子部品の製造方法は、セラミック素体または誘電体共振器用セラミック素体１の表面上にめっきレジスト２をパターン形成する工程と、無電解めっき膜５を形成する工程と、電解めっき膜６を形成する工程と、めっきレジスト２を剥離する工程とを有していることを特徴とする。 - 特許庁

As a barrier rib formation process to form the barrier rib 110 on a rear substrate of the PDP, a first process to form a barrier rib forming material layer 120, a second process to pattern the barrier rib forming material layer 120, and a third process to form the barrier rib 110 by calcining the patterned barrier rib forming material layer 120 are implemented.例文帳に追加

ＰＤＰの背面基板１０３に隔壁１１０を形成する隔壁形成工程として、隔壁形成材料層１２０を形成する第１工程と、隔壁形成材料層１２０をパターニングする第２工程と、パターニングされた隔壁形成材料層１２０を焼成して隔壁１１０を形成する第３工程と、を実施する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display panel with excellent manufacturing efficiency in which the number of barrier rib formation process is practically small, capable of forming the barrier rib with high dimensional accuracy, and to provide a transcription film for a barrier rib formation used for the above.例文帳に追加

隔壁形成における工程数が実質的に少なくて製造効率に優れ、寸法精度の高い隔壁を形成することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法およびこれに用いられる隔壁形成用転写フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide an electrostatic attraction device capable of securing the soaking property of a glass substrate, even in a high-temperature process in electron source formation though in large-sized constitution capable of attracting a large-sized glass substrate for the electron source formation using a single body.例文帳に追加

電子源形成用の、大型のガラス基板を単体で吸着可能な大型の構成でありながら、電子源形成における高温プロセス時においてもガラス基板の均熱性を確保することのできる静電吸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a hole formation method which achieves high process reproductivity and allows fine holes to be formed efficiently at low cost, and to provide a multilayer interconnection, a semiconductor device, a display element, an image display device, and a system that form via holes by using the hole formation method.例文帳に追加

プロセス再現性が高く、微細なホールを効率よく低コストで形成することができるホール形成方法、並びに、該ホール形成方法を用いてビアホールを形成した多層配線、半導体装置、表示素子、画像表示装置、及びシステムの提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor device for forming a thin lower electrode film while controlling breakdown of the lower electrode during formation of HSG and peeling of HSG with the wet process after formation of HSG, and also to provide a manufacturing method of the same semiconductor device.例文帳に追加

ＨＳＧ形成時の下部電極の破れや、ＨＳＧ形成後のウェット処理によるＨＳＧの剥がれを抑制しつつ、下部電極の膜厚を薄くすることが可能な半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, when the method of forming silicon-carbide oxide film is applied to sacrificial oxidation, the formation of an element isolation film, and the formation of a gate oxide film in a semiconductor element manufacturing process, a high-quality semiconductor element can be manufactured efficiently.例文帳に追加

さらに、本発明の酸化膜製造方法を半導体素子の製造工程において、犠牲酸化、素子間分離膜の形成、ゲート酸化膜の形成に適用することにより、良質の半導体素子を効率的に製造することができる。 - 特許庁

In the inspection process, whenever formation of each elongated hole 7a-7d is finished, or when the formation of the circuit pattern is finished, it is inspected whether the resultant processed portion of the punched hole 4 in each of the elongated holes 7a-7d is perforated or not.例文帳に追加

検査工程では、各長孔７ａ〜７ｄの形成が終了する毎に、または回路図柄の形成が終了したときに、長孔７ａ〜７ｄにおける打ち抜き孔４の最終加工箇所が穿孔されているか否かを検出する。 - 特許庁

To process a large sized substrate to be processed by using smaller components in an anodic formation device and an anodic formation method for processing the substrate to be processed by using the substrate as an anode and electrochemically processing the substrate by irradiating it with light.例文帳に追加

被処理基板を陽極にしかつこれに光の照射を行って電気化学的に処理を行う陽極化成装置および陽極化成方法において、より小型の構成要素により大型被処理基板を処理できるようにすること。 - 特許庁

In order to recover crystallinity of a semiconductor film after a doping process, activate impurity elements, and reduce contact resistances after the formation of a wiring, a laser beam is irradiated from the backside of the substrate after the formation of a wiring.例文帳に追加

本発明は、ドーピング処理後の半導体膜の結晶性の回復、不純物元素の活性化および配線形成後のコンタクト抵抗の低減を行なうために、配線形成後に基板の裏面側からレーザ光を照射することを特徴とする。 - 特許庁

To simplify a production process and to reduce a production cost in a solid-state imaging device by commonizing the formation of the diffusion layer of an charge transfer unit and the formation of the diffusion layer of a transistor composing an output unit in the periphery.例文帳に追加

固体撮像装置において、電荷転送部の拡散層の形成と、その周辺の出力部を構成するトランジスタの拡散層の形成とを共通化し、これにより製造工程を簡略化するとともに製造コストを削減する。 - 特許庁

To enable formation of a semi-permanent irregular pattern having clear or soft touch by a relatively inexpensive and simple process and formation of the irregular pattern with characters and marks having togetherness with the substrate of the textile by fusing a shape memory sheet onto the back surface.例文帳に追加

比較的安価で単純なプロセスによって、鮮明またはソフトな感触の凹凸柄を半永久的に形成でき、裏面に形状記憶シートを融着することで凹凸柄は繊維系製品である生地との一体感がある文字やマークとなる。 - 特許庁

The conductive circuit formation method is a sputtering method where metal atoms sputtered from a target 2 provided in a cathode electrode 1 are deposited on the surface of a substrate 3, relating to the conductive circuit formation method having a process for forming a conductive film 4 to form a circuit on the substrate 3.例文帳に追加

カソード電極１に設けたターゲット２からスパッタさせた金属原子を基板３の表面に堆積させるスパッタリング法で、基板３に回路形成用の導体膜４を形成する工程を有する導電性回路形成方法に関する。 - 特許庁

To provide a method for preventing the formation of scale in a paper-pulp manufacturing process to prevent the scale-forming of an inorganic compound salt in a process water independent of metallic ions and paper-making chemicals in the water by treating the water with ultrasonic wave.例文帳に追加

水中に存在する金属イオンや製紙用薬剤の影響を受けない、超音波処理によって、工程水中の無機化合物塩のスケール化を防止する紙パルプ製造工程でのスケール防止方法を提供する。 - 特許庁

To set diameters of a suction liquid passage and a delivery liquid passage causing formation of gas in a delivery process and stay of gas in its moving process larger than diameters of gas bubbles, and to facilitate movement of the gas bubbles from the stay position.例文帳に追加

吐出工程でのガスの発生とその移動過程より滞留する要因である吸入液通路および吐出液通路の口径をガス泡の口径より大きくし、さらに、滞留位置からガス泡を移動させ易くする。 - 特許庁

A trim margin model formation and holding means 103 forms a trim margin model showing a relation between a trim margin design value and occurrence of trim failure based on a trimming process capability from performance plate width data collected from each production process.例文帳に追加

トリム代モデル作成保持手段１０３は、各製造工程より収集した実績板幅データから、トリム工程能力に基づいて、トリム代設計値とトリム異常発生との関係を表すトリム代モデルを作成する。 - 特許庁

The forming method for a conductive film comprises a film coating formation process of forming a coated film by applying the conductive composition on the base material, and a heat treatment process of obtaining the conductive film by heat-treating the obtained coated film.例文帳に追加

上記導電性組成物を基材上に塗布して塗膜を形成する塗膜形成工程と、得られた塗膜を熱処理して導電性被膜を得る熱処理工程と、を具備することにより、導電性被膜が得られる。 - 特許庁

In map image formation such that images to be measured are taken from different viewing points to carry out an image matching process, a template image set as a reference image is evaluated to vary the magnitude of a template for the matching process.例文帳に追加

異なる視点から計測対象画像を撮り込んで画像間のマッチング処理を行なう距離画像生成において、基準画像に設定したテンプレート画像を評価してマッチング処理用のテンプレートの大きさを変更する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a film-forming process for forming a film 13 of silicon dioxide on the surface 11 of a die 1 having an irregular pattern 12, and a mold releasing agent formation process for applying a silane coupling agent to the surface of the film 13 of silicon dioxide.例文帳に追加

凹凸パターン１２を有する金型１の表面１１に二酸化ケイ素の膜１３を形成する成膜工程と、前記二酸化ケイ素の膜１３の表面にシランカップリング剤を塗布する離型剤形成工程とを含む。 - 特許庁

To integrate, as components, vertical wiring and rewiring subjected to structure formation as an additional process of a double-sided electrode package DFP and a wafer level chip size package WLCSP, and to further simplify a manufacturing process and to reduce its cost.例文帳に追加

両面電極パッケージDFPやウエハレベルチップサイズパッケージWLCSPの追加工程として構造形成される垂直配線や再配線を部品として集約させ、かつ、その際に、製造工程をより簡素化してコスト低減を実現する。 - 特許庁

The formation method of an insulating film has: a process for forming a fluorocarbon film on a substrate; and a process for bringing the surface into contact with processed gas including oxidizing gas, such as oxygen, ozone, carbon monoxide, carbon dioxide, and nitrous oxide.例文帳に追加

基板上にフルオロカーボン膜を形成する工程、および、その表面と、酸素、オゾン、一酸化炭素、二酸化炭素および亜酸化窒素などの酸化性ガスを含む処理ガス、とを接触させる工程を有する絶縁膜の形成方法。 - 特許庁

To provide an electronic apparatus and its manufacturing method capable of improving a yield of the electronic apparatus by preventing damage to a semiconductor chip in a packaging work process including a sealing resin formation process.例文帳に追加

本発明は、封止樹脂形成工程を含むパッケージング加工プロセスにおける半導体チップの破損を防止して、電子装置の歩留まりを向上させることのできる電子装置及びその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The formation method of an insulating film has: a process for forming a fluorocarbon film on a substrate; and a process for bringing the surface into contact with the plasm of mixed gas made of water and inert gas, such as He, Ne, Ar, and Xe.例文帳に追加

基板上にフルオロカーボン膜を形成する工程、ならびに、その表面と、水およびＨｅ、Ｎｅ、ＡｒまたはＸｅなどの不活性ガスからなる混合ガスのプラズマとを接触させる工程を有する絶縁膜の形成方法。 - 特許庁

The process for forming the color filter layer includes a process for sticking a dry film for the third color filter on the transparent substrate while pressing in a first direction 70 after formation of a first color filter 56 and a second color filter 58.例文帳に追加

カラーフィルタ層を形成する工程は、第１カラーフィルタ５６および第２カラーフィルタ５８を形成した後に、透明基板上に第３カラーフィルタ用ドライフィルムを第１方向７０に向かって押圧しながら貼り合わせる工程を含む。 - 特許庁

In the precoat film forming process, a low-temperature precoat film 71 is formed at a temperature of the susceptor 2 lower than the temperature upon the Ti film forming process and, thereafter, a high-temperature precoat film 72 is formed at the temperature upon the Ti film formation.例文帳に追加

プリコート膜形成工程においては、サセプタ２の温度をＴｉ膜成膜工程の際の温度よりも低い温度で低温プリコート膜７１を成膜した後、Ｔｉ膜成膜の際の温度で高温プリコート膜７２を形成する。 - 特許庁

To provide a process cartridge capable of precisely holding the electrophotographic photoreceptor, being made possible to prevent deflection of an electrophotographic photoreceptor at the time of an image formation, and an electrophotographic image forming device capable of attaching and detaching the above process cartridge.例文帳に追加

画像形成時の電子写真感光体の振れを抑制できて、該電子写真感光体を精度良く保持することのできるプロセスカートリッジ、及び、前記プロセスカートリッジを着脱可能な電子写真画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

Formation of phosphor film 34 on the inner face of a glass tube 22 is carried out applying a coating process for coating suspension 36 containing phosphor on an inner face of the glass tube 22 and a drying process for drying the coated suspension 36.例文帳に追加

ガラス管２２の内面への蛍光体膜３４の形成は、蛍光体を含んだ懸濁液３６をガラス管２２の内面に塗布する塗布工程と、塗布された懸濁液３６を乾燥する乾燥工程とを経て行われる。 - 特許庁

To provide a magnetic separation process for use in a coagulating sedimentation method, which enables high settling velocity of flocs through formation of magnetic flocs by using a magnetic powder as a seed agent and easy recovery/reutilization of the seed agent, and also to provide a magnetic separator for the magnetic separation process.例文帳に追加

本発明は、凝集沈殿法において、シード剤として磁性粉を使用して磁性フロックを生成することにより沈降速度を速くし、さらにシード剤の回収再利用を容易にする方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To realize a liquid discharging device which efficiently carries out a forming process and a reading process of a pattern for correction to correct a dot formation position deviation in a main scanning direction, to realize a pattern reading method, and to realize a liquid discharging system.例文帳に追加

主走査方向のドット形成位置のズレを補正するための補正用パターンの形成処理及び読み取り処理を効率的に行う液体吐出装置、パターン読み取り方法、及び、液体吐出システムを実現することにある。 - 特許庁

To provide a target material used in an AIP (arc ion plating) process and an MS (magnetron sputtering) process, in which mechanical strength is improved, and further, the formation of droplets is suppressed, and which is suitable for forming a film having high quality.例文帳に追加

本願発明は、ＡＩＰ法、ＭＳ法で用いるターゲット材であって、機械的強度が改善されるとともに、ドロップレットの生成が抑制され、品質の高い皮膜を形成するのために好適なターゲット材を提供することである。 - 特許庁

To reduce damage that may be caused in a process for forming a via hole or a groove for buried wiring and enhance the throughput of a cleaning process carried out after the formation of the via hole or the groove for buried wiring with respect to a forming method for a buried conductor.例文帳に追加

埋込導電体の形成方法に関し、ビアホールや埋込配線用溝の形成工程におけるダメージを低減するとともに、ビアホールや埋込配線用溝の形成後の清浄化工程のスループットを向上する。 - 特許庁

After that, the inputted image forming job is analyzed (S4), the process speed suitable for the image forming job is determined (6), and the actual image formation is carried out (S9) by driving an image forming unit at the determined process speed.例文帳に追加

その後、その入力した画像形成ジョブを解析して（Ｓ４）、その画像形成ジョブに適したプロセス速度を決定し（Ｓ６）、その決定したプロセス速度で画像形成ユニットを駆動して、実際の画像形成を行う（Ｓ９）。 - 特許庁