「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a capacitor layer forming material which is not deteriorated in dielectric layer in a working process at the formation of a capacitor circuit using the capacitor layer forming material, a manufacturing method or the like.例文帳に追加

キャパシタ層形成材を用いてキャパシタ回路を形成する際に、加工プロセスで誘電層の劣化の無いキャパシタ層形成材及び製造方法等を提供する。 - 特許庁

Except for the back-etch and the gas-sensitive layer formation, all other layers including the tungsten resistive heater 6, are made using a CMOS process employing tungsten metallization.例文帳に追加

当該エッチバック工程及びガス感受性層の形成工程を除いて、タングステンヒーター６を含む他のすべての層は、タングステン金属化を用いたＣＭＯＳプロセスが利用される。 - 特許庁

To provide a toner, developer, process cartridge and device for image formation to form an image of high quality without being influenced by the environment in the development of an electrostatic charge image.例文帳に追加

静電荷像現像において環境に左右されることなく高品質の画像を形成するトナー、現像剤、プロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method in which formation of a step in an element isolated region is suppressed and high reliability can be attained in a short process.例文帳に追加

素子分離領域での段差の形成を抑制して高い信頼性を短い工程で得ることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Also, the resistor is formed with the same process as that of the formation of the contact electrode layer of the HBT, and the resistor is prepared by realizing a high resistor of the contact electrode layer.例文帳に追加

また、抵抗体を、ＨＢＴのコンタクト電極層の成膜と同一工程で成膜すると共に、コンタクト電極層を高抵抗化処理して抵抗体を作製する。 - 特許庁

According to this production process, the formation of the by-product is restricted, when the number of alkyl groups is one, a para(p-) oriented alkyl benzenesulfonate is easily produced with high selectivity.例文帳に追加

この製造方法によれば、副生成物の生成が抑制され、アルキル基が一つの場合、パラ（ｐ−）配位のアルキルベンゼンスルホン化物を高い選択性で容易に製造できる。 - 特許庁

The p type diffusion layer formation composition is applied to a substrate and heat diffusion process is performed thereon to produce a p type diffusion layer and solar cells having the p type diffusion layer.例文帳に追加

このｐ型拡散層形成組成物を塗布し、熱拡散処理を施すことで、ｐ型拡散層、及びｐ型拡散層を有する太陽電池セルが製造される。 - 特許庁

The n type diffusion layer formation composition is applied to a substrate and heat diffusion process is performed thereon to produce an n type diffusion layer and solar cells having the n type diffusion layer.例文帳に追加

このｎ型拡散層形成組成物を塗布し熱拡散処理を施すことで、ｎ型拡散層、及びｎ型拡散層を有する太陽電池セルが製造される。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device that prevents the connection of a conductive plug provided on a pattern on which a polycide formation process is performed from becoming a high resistance.例文帳に追加

ポリサイド形成工程を経たパターン上に設けられる導電性プラグの接続部の高抵抗化を防止する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and device in which porosity formation is made compatible with contraction control in a flocculation process of a thin film-like polymer.例文帳に追加

本発明は、薄膜状のポリマーの凝固プロセスにおいて、多孔質化と収縮制御を両立させることができる製造方法および装置を提供することにある。 - 特許庁

In the one embodiment, it is possible to expose the surface of the diffusion barrier layer to an adhesion promoting agent before the foregoing formation process or during at least its part.例文帳に追加

一部の態様では、この形成工程の前か少なくともその一部分の最中に、拡散バリア層の表面を密着促進剤に暴露することができる。 - 特許庁

To provide the formation method of an interlayer insulation film, especially for shortening chemical mechanical polishing process time in the manufacturing method of a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子の製造方法に関し、特に化学的機械研磨工程時間を短縮させるための半導体素子の層間絶縁膜の形成方法に関するものである。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for cold-forged formation of a bevel gear, excellent in the productivity by which an intermediate annealing lubrication process can be saved.例文帳に追加

中間焼鈍潤滑工程が省略できる生産性に優れた傘歯車の冷間鍛造成形方法及び傘歯車の冷間鍛造成形装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which formation of a recess in the periphery of the surface of an isolation film buried in a semiconductor substrate is controlled.例文帳に追加

半導体基板に埋め込まれた素子分離膜の表面周辺部に、窪みが形成されることを抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of cracks in an insulating film which functions as an etching stopper without inhibiting the accomplishment of the purpose of a hydrogen annealing process which is executed after the formation of memory cells.例文帳に追加

メモリセル形成後に実行される水素アニール工程の目的達成を阻害することなく、エッチング・ストッパとして機能する絶縁膜におけるクラックの発生を防止する。 - 特許庁

To mainly provide a charge application body which enables pattern formation of a fine structure and a fine pattern molding in a semiconductor surface in a simple process.例文帳に追加

本発明は、半導体表面に簡易なプロセスで、微細な構造のパターン形成が可能な電荷付与体、および微細なパターン形成体を提供することを主目的とする。 - 特許庁

Thus, in an embedded wiring formation process S8, the side-wall deposit 118a prevents, together with a protective film 112, erosion of the low-k film 104.例文帳に追加

したがって，埋込配線形成工程Ｓ８において，側壁堆積物１１８ａは，保護膜１１２とともにＬｏｗＫ膜１０４の腐食を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a substrate for mounting a semiconductor, a semiconductor device, and a process for fabricating excellent in a gate break nature, preventing the occurrence of a void, and suitable for multi-array formation.例文帳に追加

ゲートブレーク性に優れ、ボイドの発生の防止、かつマルチアレイ化に適した半導体搭載用基板と半導体装置および製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ELECTROPHOTOGRAPHIC SENSITIVE BODY, ELECTROPHOTOGRAPHIC SENSITIVE BODY MANUFACTURED USING THE SAME, IMAGE FORMING APPARATUS USING THE SAME, IMAGE FORMATION METHOD AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

電子写真感光体の製造方法及びそれにより製造された電子写真感光体、それを用いた画像形成装置、画像形成方法並びにプロセスカートリッジ - 特許庁

To provide a photo-setting composition being excellent in heat resistance and low in the contractility during photo-setting, and a pattern formation process by light imprinting method using the composition.例文帳に追加

光硬化時の収縮度が低く耐熱性に優れた光硬化性組成物及び該組成物を用いる光インプリント法によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A substrate 2 is transferred to a film-forming chamber side by a delivery holder 60, is subjected to film formation by a sputtering process, and is again returned to a load lock chamber 30 side.例文帳に追加

受渡ホルダ６０によって、基板２が成膜処理室側に受け渡され、スパッタリングによる成膜処理が施された後、再びロードロック室３０側に戻される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that has less number of processes such as film formation and etching, can control each process easily, and reliably and electrically join members.例文帳に追加

成膜、エッチング等の工程数が少なく、各工程のコントロールが容易で、部材間の電気的接合が確実な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This process is applicable to the field of damascene structure and can be used for forming a variety of capacitor structures while decreasing the number of mask layers required for formation.例文帳に追加

さらに、このプロセスはダマシン適用分野で使用でき、形成に要するマスク層の数を削減しながら多種多様な容量構造を形成するために使用できる。 - 特許庁

The design allows CMOS circuitry formation to be accomplished in the latter half of the manufacturing process, minimizes the impact of heat treatment, and alleviates heat related restrictions in other treatments.例文帳に追加

製造の後半工程でＣＭＯＳ回路を形成し、熱処理の影響を最小限とし、また、他の処理において熱制限を緩和させることが可能となる。 - 特許庁

Moreover, a flat face 31 is made of the axial end face 26c of the segment base material 33 and the plane 28c made on the riser 28 by a flat face formation process.例文帳に追加

また、セグメント素材３３の軸方向端面２６ｃには平坦面形成工程によりライザ２８に形成される平面２８ｃとによる平坦面３１が形成されている。 - 特許庁

To provide a thin film transistor which can omit a barrier formation process and form a semiconductor solution at an intended location by a coating method to separate transistor elements.例文帳に追加

隔壁形成プロセスを省き、かつ、塗布法により半導体溶液を所望の場所に形成し、トランジスタ素子分離を行うことのできる薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

To shorten the time required from the occurrence of an interruption process to the completion by enhancing the work efficiency required when a monochrome image interruption occurs during multicolor image formation.例文帳に追加

複数色画像形成中の単色画像割込み時の作業効率を高めることにより、割込み処理発生から完了までの処理時間を短縮すること。 - 特許庁

To provide a barrier rib manufacturing method, capable of shortening the barrier rib manufacturing process for a barrier rib of a plasma display panel and forming barrier rib superior in the shape and provide a resin composition element for its formation.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのバリアリブ製造工程を短縮化でき、形状の優れたバリアリブを形成でき製造法及び形成用樹脂組成物エレメントを提供する。 - 特許庁

A contact layer 5 exposed between source/drain electrode wirings 7 is oxidized by anode formation process, forming an oxidized insulating film 9 comprising many holes in film-thickness direction.例文帳に追加

ソース・ドレイン電極配線７間に露出したコンタクト層５を陽極化成処理により酸化させ、膜厚方向に多数の孔を有する酸化絶縁膜９を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that improves productivity by improving electrical characteristics and mechanical strength of a semiconductor chip laminate and simplifying a formation process.例文帳に追加

半導体チップ積層体の電気的特性及び機械的強度を向上させ、形成工程を簡素化して生産性を向上させる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method with which it becomes possible to precisely and simply inspect the quality of a process for patterning a photosensitive resin film using a semiconductor lithography technique.例文帳に追加

半導体リソグラフィ技術を用いて感光性樹脂膜をパターニングする工程の良否を正確且つ簡易に検査することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An atmosphere temperature during heating in a dense layer D formation process is 80 to 100°C and is lower than a softening point temperature of resin to be a molding material of the pipe joint 20.例文帳に追加

また、緻密層Ｄ形成工程における加熱処理時の雰囲気温度は８０〜１００℃であり、パイプ継ぎ手２０の成型材質である樹脂の軟化点温度より低い。 - 特許庁

To provide a triarylamine polymer having excellent mobility characteristics, capable of being subjected to wet film formation, capable of being suited to a low-cost process, and useful for organic electronics.例文帳に追加

優れた移動度特性を有すると共に湿式成膜が可能で、低コストプロセスに適応できる有機エレクトロニクス用として有用なトリアリールアミン重合体を提供する。 - 特許庁

Similarly, an image formation device 1 selects any one image processing server as a process execution server from among a plurality of image processing servers of the final stage.例文帳に追加

画像形成装置１は、同様にして最終段の複数の画像処理サーバーの中から、いずれか１つの画像処理サーバーを処理実行サーバーとして選択する。 - 特許庁

The composition for the formation of an antireflection film can be used for the lithographic process in the manufacture of a semiconductor device containing a polymer compound having a carbon-carbon triple bond.例文帳に追加

炭素炭素三重結合を含有する高分子化合物を含む半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜形成組成物。 - 特許庁

To provide the copper metal wiring formation method of a semiconductor device that can reproduce copper deposition process, and at the same time, can obtain a copper thin film having superior film quality.例文帳に追加

銅蒸着工程の再現性を実現すると共に優れた膜質の銅薄膜を得ることが出来る半導体素子の銅金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for oxide dielectric layer formation by a sol-gel process is characterized by comprising the following steps (a) to (c).例文帳に追加

ゾル−ゲル法による酸化物誘電層の形成方法において、以下の（ａ）〜（ｃ）の工程を備えることを特徴とする酸化物誘電層の形成方法等を採用する。 - 特許庁

The dense layer D therefore can be formed without deforming a resin molded body 21 or partially melting the resin molded body 21 in the dense layer D formation process.例文帳に追加

したがって、緻密層Ｄ形成工程において樹脂成型体２１を変形させる、あるいは部分溶融させること無く緻密層Ｄを形成することができる。 - 特許庁

To provide a development apparatus where the formation of an image with a uniform density free from the generation of density spots and density reduction in the edge parts is made possible, to provide a process cartridge, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

端部に濃度斑や濃度低下の発生がない、均一な濃度の画像形成が可能となる現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To enable an electronic part to be mounted on a substrate with a sufficient strength only by means of a solder dip process, even if there is a burr caused during formation on the lead frame of the electronic part.例文帳に追加

電子部品のリードフレームに成形時のバリがあっても、単にはんだディップ処理により基板に十分な強度で取り付けることができるようにする。 - 特許庁

To suppress the abnormality of alignment layers and to stably obtain uniform and good alignment layers by shortening the production process and reducing the cost of projecting part formation.例文帳に追加

製造工程を短縮化するとともに、突設部形成のコストダウンを図り、配向膜の異常を抑制し、均一かつ良好な配向膜を安定して得るようにする。 - 特許庁

During conducting of this process, an application type film formation apparatus is used which is provided with a gas blow nozzle 7 having the function of blowing gas composed of the air or nitrogen against a specified region.例文帳に追加

この処理を行うに際して、所定の領域に気体吹き付ける機能を持ったエアー又は窒素からなる気体ブローノズル７を具備する塗布型成膜装置を用いる。 - 特許庁

To provide a process capable of avoiding the formation of soot in the production of a gas enriched of hydrogen and/or carbon monoxide by the partial oxidation of hydrocarbon raw materials.例文帳に追加

炭化水素供給原料の部分酸化によって水素および／または一酸化炭素の豊富なガスを製造する際に煤が生じるのを抑制する方法の提供。 - 特許庁

After this, in an electrode formation process, electrodes 4 and 5 are formed on surfaces of both sides in the thickness direction of the semiconductor wafer 2 on which the semiconductor impurities are diffused.例文帳に追加

この後、電極形成工程で、前記半導体不純物が拡散された半導体ウエハ２の厚み方向両側の表面に電極４，５をそれぞれ形成する。 - 特許庁

What should not be forgotten in a formation process of 'tsuwamono-no-ie' (house of soldiers) as the family line was that 'choka no soga' mobilized in the late tenth century without the presence of a military officer. 例文帳に追加

家系としての「兵の家」の形成過程で忘れてはならないのが、10世紀後半に現役武官ではないのに「朝家の爪牙」として動員されたことである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス