「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an appropriate etching rate with a titanium nitride layer which is a barrier metal in an etching process, related to a tungsten embedded wiring formation.例文帳に追加

タングステン埋込み配線形成におけるエッチング工程のバリアメタルである窒化チタン層とのエッチングレートの適正を図る。 - 特許庁

The manufacturing method comprises formation of a polyimide resin solution layer 12 on a support 11, and adhering thereon a metal foil 13.例文帳に追加

製造方法は、支持体１１上にポリイミド樹脂溶液層１２を形成し、その上に金属箔１３を接着する。 - 特許庁

An active substance layer 3 including particles 2 of an active substance with a high formation capability for a lithium compound is provided between the surfaces 1.例文帳に追加

前記面間に、リチウム化合物の形成能の高い活物質の粒子２を含む活物質層３を備えている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a wiring layer by which planarization can be easily conducted for further micro-fabrication and multiplayer formation.例文帳に追加

よりいっそうの微細化、多層化のための平坦化が容易に行える配線層の形成方法を提供する。 - 特許庁

FORMING METHOD OF TERMINAL SECTION OF ANTENNA OF NON-CONTACT COMMUNICATION MEDIUM, AND METALLIZED LAYER TRANSFER SHEET FOR ANTENNA FORMATION例文帳に追加

非接触通信媒体のアンテナの端子部の形成方法およびアンテナ形成用の金属蒸着層転写シート - 特許庁

Moreover, since the SOG process is made only in the formation process of the organic SOG layer 28, this manufacture can reduce the manufacture cost.例文帳に追加

また、ＳＯＧ工程を有機ＳＯＧ層２８形成工程のみにしているので、製造コストを下げることができる。 - 特許庁

The applying formation of the phosphor layer and gas discharge and enclosure can be done via a pair of capillary tubes 1b1 and 1c1.例文帳に追加

一対の細管１ｂ１、１ｃ１を経由して蛍光体層の塗布形成や排気、封入を行うことができる。 - 特許庁

A nitride film 3 is interposed between a layer insulation film 2 formed on an element formation region 1 and the pad film 4.例文帳に追加

素子形成領域１上に形成された層間絶縁膜２とパッド膜４との間に、窒化膜３を介在させる。 - 特許庁

Furthermore, a barrier metal layer 5, formed on the lower surface of the bit line 6, is etched selectively after formation of the bit line 6.例文帳に追加

さらに、ビット線６の形成後に、ビット線６の下面に形成されたバリアメタル層５を選択的にエッチングする。 - 特許庁

By exposing in the gas including a halogen fluoride in this state, the release layer is removed and the element formation substrate is peeled.例文帳に追加

この状態でフッ化ハロゲンを含むガス中に晒すことにより剥離層が除去され素子形成基板が剥離される。 - 特許庁

To provide a novel hydrazide chelate complex compound useful as a pigment for the formation of a recording layer of optical recording medium.例文帳に追加

光学記録媒体の記録層形成用色素として有用な新規ヒドラジドキレート錯体化合物を提供する。 - 特許庁

A gate insulating film and a gate electrode are formed on a substrate, and ions are implanted into the substrate for the formation of a diffused layer.例文帳に追加

基板に、ゲート絶縁膜と、ゲート電極とを形成した後、イオン注入をおこない拡散層を形成する。 - 特許庁

In the formation of the liner layer 12, uniformly excepting element isolation film 11, the interlayer insulating film 13 is formed thereon.例文帳に追加

ライナー層１２の形成に関し、素子分離膜１１上は一様に除いて、その上に層間絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the magnetic disk comprises the formation of a first and a second protective carbon layer on the magnetic disk.例文帳に追加

この磁気ディスクを製造する方法は、磁気ディスク上に第１及び第２保護炭素層を形成することを含む。 - 特許庁

Application of the semiconductive paint 50B facilitates formation of the shielding layer and results in the cost reduction of the wire.例文帳に追加

半導電性塗料50Bの塗布により容易にシールド層を形成することができ、電線コストの低減を実現できる。 - 特許庁

Then, in a recording part 110, image formation is performed so that the selected clear ink is superposed on the uppermost layer color ink.例文帳に追加

そして記録部110において、最上層カラーインクの上に該選択されたクリアインクを重ねるように画像形成を行う。 - 特許庁

The planarization layer provides a smooth surface for the formation of an electronic component such as a thin film electronic component.例文帳に追加

この平坦化層は、薄膜の電子的コンポーネントなどの電子的コンポーネントを形成するための滑らかな表面を設ける。 - 特許庁

The formation of the conductive layer 5 is performed so that the upper side thereof forms approximately the same plane as the upper side of the element 1.例文帳に追加

前記導体層５の形成は、その上面が素子１の上面とほぼ同一面を形成するように行われる。 - 特許庁

The semiconductor layer 13 is formed by an ion injection process and an activation annealing process in the semiconductor formation process.例文帳に追加

半導体層形成工程では、イオン注入工程と活性化アニール工程とで半導体層１３を形成している。 - 特許庁

Then, a lower resist layer 11 is etched, using the upper resist pattern 12' as a mask for the formation of a rectangular resist pattern 11'.例文帳に追加

次に、上層レジストパターン１２’をマスクにして下層レジスト１１をエッチングして、矩形なレジストパターン１１’を形成する。 - 特許庁

By optimizing correction value, accuracy of the drilling position is increased, and the accuracy of the formation position of an outer-layer land diameter is improved.例文帳に追加

補正値の最適化により、穴明け位置の精度をアップし外層ランド径の形成位置の精度が大幅に改善による。 - 特許庁

It is also preferable that the enhanced electromagnetic field formation layer is configured by arraying metallic fine particles at random.例文帳に追加

また、増強電磁場形成層が、金属微粒子がランダムに配列されてなる構成とされていることが好ましい。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a multilayer wiring substrate which uses a pattern formation method (a semi-additive method and a subtractive method) for each layer according to pattern width and pattern density of a wiring layer, by discriminating a layer with a fine wiring layer (such as a signal wiring layer) and a layer with a relatively rough layer appropriately, and to provide the multilayer wiring substrate.例文帳に追加

微細な配線層（例えば、信号配線層等）を有する層と比較的粗い配線層を有する層とに層別し、配線層のパターン幅及びパターン密度に応じて、層毎にパターン形成方法（セミアディテイブ法、ブトラクティブ法）を使い分ける多層配線基板の製造方法及び多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

A laminate for forming a wiring board is configured to include: a wiring board material in which a first metal layer for circuit formation, an insulating layer, and a second metal layer are laminated in this order; an adhesive layer provided on the second metal layer of the wiring board material; and a separator provided on the adhesive layer and having a heat-resistant resin layer.例文帳に追加

配線板形成用積層体を、回路形成用の第一の金属層、絶縁層及び第二の金属層がこの順に積層された配線板用材料と、前記配線板用材料の第二の金属層上に設けられた粘着剤層と、前記粘着剤層上に設けられ、耐熱性樹脂層を有するセパレータと、を含んで構成する。 - 特許庁

In the developing roll, a base rubber layer 2 on an outer peripheral surface of a shaft body, an intermediate layer 3 formed immediately on the outer periphery of the base rubber layer 2 or with another layer in between and a surface layer 4 formed on the outer periphery of the intermediate layer 3 are provided and particles 1 for formation of surface roughness are only dispersed in the intermediate layer 3.例文帳に追加

軸体の外周面にベースゴム層２と、上記ベースゴム層２の外周に直接もしくは他の層を介して形成された中間層３と、上記中間層３の外周に形成された表面層４とを備えた現像ロールであって、上記中間層３のみに表面粗さ形成用の粒子１を分散している。 - 特許庁

The method of peeling a layer to be peeled off comprises the steps of forming an oxide layer containing metal, forming a layer to be peeled off having thin-film transistors and the like on the oxide layer, and crystallizing the oxide layer by heat-treating the oxide layer, thereby giving rise to the formation of crystal strain or crystal defects in the crystallized oxide layer.例文帳に追加

金属を有する酸化物層を形成し、酸化物層上に薄膜トランジスタ等を有する被剥離層を形成し、酸化物層に対して加熱処理を行うことにより、酸化物層を結晶化し、結晶化された酸化物層に、結晶歪み、又は格子欠陥を生じさせることにより、被剥離層を剥がす方法である。 - 特許庁

A manufacturing method of an organic electroluminescent element which includes a first electrode, luminescent layer and second electrode in this order comprises the step of, after luminescent layer formation, forming a layer corresponding to the upper layer of the luminescent layer after heat treatment of the luminescent layer after elapse of six hours or more after forming the luminescent layer.例文帳に追加

第一の電極、発光層、及び第二の電極をこの順に設けてなる有機電界発光素子の製造方法であり、該発光層形成後、６時間以上経過後に該発光層に対して加熱処理を施した後、該発光層の上層にあたる層を形成することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。 - 特許庁

In the multilayer interconnection board, an insulating layer 2 made of an organic resin and a wiring conductor layer 3 laminating a foundation conductor layer 4 deposited onto the insulating layer 2 for formation and a main conductor layer 5 are laminated, and the side of the foundation conductor layer 4 retreats inward as compared with the side of the main conductor layer 5 in the wiring conductor layer 3 located between the insulating layers 2.例文帳に追加

有機樹脂からなる絶縁層２とこの絶縁層２上に被着形成された下地導体層４および主導体層５を積層して成る配線導体層３とを多層に積層して成り、絶縁層２間に位置する配線導体層３は、下地導体層４の側面を主導体層５の側面より内側に後退させた多層配線基板である。 - 特許庁

The light enhancement element is composed of a substrate, a high reflection layer formed on the substrate, a dielectric layer formed on the high reflection layer, and an enhanced electromagnetic field formation layer including multiple metallic fine particles formed on the dielectric layer, in which the thickness of the dielectric layer is 50 nm and more.例文帳に追加

この光増強素子は、基板と、この基板上に形成された高反射層と、この高反射層上に形成された誘電体層と、この誘電体層上に形成された、多数の金属微粒子による増強電磁場形成層とよりなり、誘電体層の厚みが５０ｎｍ以上とされている。 - 特許庁

An epitaxial wafer for light emission is provided with a light emitter configured of an n-type AlGaAs clad layer 3, an active layer 4, and a p-type AlGaAs clad layer 5 on an n-type GaAs substrate 1; and a p-type InGaAs contact layer 6 is formed as an electrode formation layer on the p-type AlGaAs clad layer 5.例文帳に追加

発光素子用エピタキシャルウエハは、ｎ型ＧａＡｓ基板１上に、ｎ型ＡｌＧａＡｓクラッド層３、活性層４及びｐ型ＡｌＧａＡｓクラッド層５からなる発光部を有し、ｐ型ＡｌＧａＡｓ型クラッド層５の上に、電極形成層として、ｐ型ＩｎＧａＡｓコンタクト層６が形成されている。 - 特許庁

Regarding the decorative sheet S formed by laminating a surface layer 2 of a polyolefin resin on a base layer 1, the base layer is constituted of an amorphous polyester resin, and easy adhesion treatment such as formation of an easy adhesion primer layer 3 is applied to the surface of the base layer on the side whereon the surface layer is not laminated.例文帳に追加

基材層１上にポリオレフィン系樹脂からなる表面層２を積層した化粧シートＳについて、基材層が非晶性ポリエステル樹脂からなり、且つ表面層が積層されていない側の基材層面に、易接着プライマー層３の形成等の易接着処理が施されている構成とする。 - 特許庁

When the body part of the container forming material is heated from the outside face, closed cells are formed in the resin layer by moisture in the base material 11 and by moisture in the granules contained in the starch layer 13 resulting in the formation of a foam layer 12a from the resin layer and of a foam layer 14a from the resin layer.例文帳に追加

容器形成材料が外面側から胴部を加熱されると、基材１１中の水分で樹脂層に、また、澱粉層１３に含まれる澱粉粒中の水分で樹脂層にそれぞれ独立気泡が形成され、樹脂層から発泡層１２ａが、樹脂層から発泡層１４ａが形成される。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes a preheating step of heating the surface of a silicon layer during formation of a metal film, when the metal film is formed on the silicon layer and then the silicon layer is heated to make the metal film react with the silicon layer and to form the silicide layer on the silicon layer.例文帳に追加

シリコン層の表面に金属膜を形成し、次いで、このシリコン層を加熱して金属膜とシリコン層とを反応させ、シリコン層の表面にシリサイド層に形成するに際し、金属膜の形成時にシリコン層の表面を加熱する前加熱工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Layer formation condition is set so that a depth of a barrier metal layer 6 may be larger than that of irregularity 11 produced on the surface of a heat sink metal layer 5, and the surface of the heat sink metal layer 5 is not exposed from the barrier metal layer 6 in the irregularity 11 area as a result.例文帳に追加

ヒートシンク用金属層５の表面に生じる凹凸１１の深さよりも、バリアメタル層６の厚さの方が厚く形成されるように層形成条件を設定し、凹凸１１部分においてヒートシンク用金属層５の表面をバリアメタル層６から露出させないようにする。 - 特許庁

By right, the hole injection layer 3 is formed of a laminate structure, comprising a first organic material layer consisting of a material to be used for the hole injection layer 3, and a second organic material layer, consisting of a material having the planarity upon film formation which is better than that of the first organic material layer.例文帳に追加

正孔注入層３は、本来、正孔注入層３に用いられるべき材料で構成された第１有機材料層と、第１有機材料層よりも成膜時の平坦性の良い材料で構成された第２有機材料層との積層構造により形成されている。 - 特許庁

Since the first current constriction layer 17 requiring the oxidation process is formed at a portion separated from the active layer 14, effect of strain (stress) incident to formation of an Al oxide layer 17B as the first current constriction layer 17 on the active layer 14 is reduced.例文帳に追加

酸化工程を要する第１の電流狭窄層１７が活性層１４から離れた部位に形成されるので、この第１の電流狭窄層１７としてのＡｌ酸化層１７Ｂを形成する際、その生成に伴う歪（応力）が活性層１４に与える影響が軽減される。 - 特許庁

In an UV-LED, on a substrate 10, an n-type GaN layer 12, an AlGaN cladding layer 14, a GaN light emission layer 16, an AlGaN cladding layer 18, and a p-type GaN electrode formation layer 20 are successively formed, and a p-type ohmic electrode 22 and an n-type ohmic electrode 24 are formed.例文帳に追加

ＵＶ−ＬＥＤは基板１０上に順次ｎ型ＧａＮ層１２、ＡｌＧａＮクラッド層１４、ＧａＮ発光層１６、ＡｌＧａＮクラッド層１８、ｐ型ＧａＮ電極形成層２０を形成し、ｐ型オーミック電極２２、ｎ型オーミック電極２４を形成して構成される。 - 特許庁

Further, a fine droplet of a colored layer solution is delivered onto the reflection layer 37 and the rugged surface 32 of a transmission region Rt, the droplet of the colored layer solution wide spread over the whole of the colored layer formation region 36 is formed and the colored layer 38R of a uniform shape is formed.例文帳に追加

そして、反射層３７及び透過領域Ｒｔの凹凸面３２上に、着色層溶液の微小液滴を吐出し、着色層形成領域３６全体に濡れ広がる着色層溶液の液滴を形成して、均一な形状の着色層３８Ｒを形成するようにした。 - 特許庁

The interconnect line has an adhesive layer containing oxidation reaction metal or silicide formation reaction metal and silver, a silver conductive layer formed on the adhesive layer, and a protective layer formed containing the oxidation reaction metal and the silver formed on the silver conductive layer.例文帳に追加

配線は、酸化反応性金属またはシリサイド化反応性金属、及び銀を含む接着層と、前記接着層上に形成される銀導電層と、前記銀導電層上に形成され、前記酸化反応性金属及び前記銀を含んで形成される保護層とを有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a composition for forming an organic antireflection layer, from which an organic antireflection layer can be formed on a substrate or at least one layer of a basecoat layer formed on the substrate surface while suppressing formation of cracks in the substrate or in the basecoat layer.例文帳に追加

基材あるいは下地層にクラックが形成されるのを抑制しつつ、基材の上、又はこの基材表面に形成された少なくとも１層の下地層の上に有機系の反射防止層を形成できる、有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

After the formation of a bibliographic informational and discriminating informational layer 106 on the image receiving layer 105 of the transfer foil 101, the cholesteric liquid crystal layer 104, the image receiving layer 105 and the bibliographic informational and discriminating informational layer 106 are transferred onto a card base material 110 in order to form an ID card 120.例文帳に追加

この転写箔１０１の受像層１０５上に、書誌情報及び識別情報層１０６を形成した後、カード基材１１０上にコレステリック液晶層１０４、受像層１０５、書誌情報及び識別情報層１０６を転写し、ＩＤカード１２０を作成する。 - 特許庁

For the formation of the conductive layer 10b on the insulating layer 10a, the application and drying of the solution of the photosensitive solder resist on the insulating layer 10a including the conductive layer 10b, and the stack of the transparent protective film Fi on the photosensitive solder resist layer SR they are attained by roll-to roll, for example.例文帳に追加

絶縁層１０ａ上への導体層１０ｂの形成、導体層１０ｂを含む絶縁層１０ａ上への感光性ソルダレジストの溶液の塗布および乾燥ならびに感光性ソルダレジスト層ＳＲ上への透明保護フィルムＦｉの積層は、例えば、ロールトゥロールにより行われる。 - 特許庁

A semiconductor device comprises, on a substrate, a first transistor including a single crystal semiconductor layer in a channel formation region, a second transistor separated from the first transistor via an insulation layer and including an oxide semiconductor layer in a channel formation region, and a diode including the single crystal semiconductor layer and the oxide semiconductor layer, and its manufacturing method is provided.例文帳に追加

基板上に、単結晶半導体層をチャネル形成領域に有する第１のトランジスタと、当該第１のトランジスタと絶縁層を介して分離され、酸化物半導体層をチャネル形成領域に有する第２のトランジスタと、当該単結晶半導体層及び酸化物半導体層を有するダイオードを有する半導体装置、及び、その作製方法に関する。 - 特許庁

The magnetic recording medium includes a substrate, an intermediate layer adjacent to the substrate, and a pattern formation layer adjacent to the intermediate layer and having a fine protruding and recessing pattern on its surface, wherein the intermediate layer is composed of an adhesive containing an ultraviolet ray transmitting silicone resin, and its elastic coefficient is smaller than that of the substrate and is smaller than that of the pattern formation layer.例文帳に追加

基材と、上記基材に隣接する中間層と、上記中間層に隣接し、表面に微細な凹凸パターンを有するパターン形成層とを備え、上記中間層が紫外線透過性のシリコーン樹脂を含有する接着剤からなり、その弾性率が、上記基材の弾性率よりも小さく、かつ、上記パターン形成層の弾性率よりも小さい。 - 特許庁

In a wafer-shaped SOI substrate 10, an epitaxial silicon layer 22, which is a convex formation material layer, is formed through an epitaxial growth method on a second silicon layer 16 constituting an SOI layer of the mark formation area 150, which is a scribe line area, and then the corresponding epitaxial silicon layer is etched to pattern a convex 22a as a positioning mark.例文帳に追加

ウェハ状のＳＯＩ基板１０のうち、スクライブライン領域であるマーク形成領域１５０のＳＯＩ層を構成する第２のシリコン層１６上に、エピタキシャル成長法によって凸部形成用材料層であるエピタキシャルシリコン層２２を形成した後、当該エピタキシャルシリコン層に対してエッチングを行って、位置合わせ用マークとしての凸部２２ａをパターニング形成する。 - 特許庁