例文 (257件) |
ion beam irradiationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 257件
ION BEAM IRRADIATION APPARATUS, AND ION BEAM MEASURING METHOD例文帳に追加
イオンビーム照射装置及びイオンビーム測定方法 - 特許庁
OPERATION METHOD FOR ION BEAM IRRADIATION APPARATUS, AND THE ION BEAM IRRADIATION APPARATUS例文帳に追加
イオンビーム照射装置の運転方法およびイオンビーム照射装置 - 特許庁
ION BEAM IRRADIATION DEVICE AND ION BEAM DIVERGENCE SUPPRESSION METHOD例文帳に追加
イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法 - 特許庁
ION ACCELERATION METHOD, ION ACCELERATION DEVICE, ION BEAM IRRADIATION DEVICE AND MEDICAL ION BEAM IRRADIATION DEVICE例文帳に追加
イオン加速方法、イオン加速装置、及び、イオンビーム照射装置、医療用イオンビーム照射装置 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR MEASURING ION BEAM, AND ION BEAM IRRADIATION DEVICE例文帳に追加
イオンビーム測定装置、測定方法およびイオンビーム照射装置 - 特許庁
POLYVALENT ION BEAM IRRADIATION METHOD AND DEVICE例文帳に追加
多価イオンビーム照射方法及び装置 - 特許庁
The irradiation control of the ion beam is made by scan speed control of ion beam.例文帳に追加
イオンビームの照射制御は、イオンビームの走査速度制御とする。 - 特許庁
METHOD OF OPERATING ION SOURCE AND IRRADIATION DEVICE OF ION BEAM例文帳に追加
イオン源の運転方法およびイオンビーム照射装置 - 特許庁
DEFLECTION ELECTROMAGNET AND ION BEAM IRRADIATION DEVICE例文帳に追加
偏向電磁石およびイオンビーム照射装置 - 特許庁
ION BEAM IRRADIATION EQUIPMENT AND HOLDER DRIVING GEAR例文帳に追加
イオンビーム照射装置およびホルダ駆動装置 - 特許庁
ION BEAM PARALLELIZING DEVICE, ION IRRADIATION DEVICE AND ION SCATTERING SPECTRAL INSTRUMENT例文帳に追加
イオンビームの平行化装置、イオン照射装置及びイオン散乱分光装置 - 特許庁
To provide an ion beam irradiation apparatus capable of controlling the diameter and intensity of an ion beam.例文帳に追加
イオンビームの径と強度を制御できるイオンビーム照射装置を提供する。 - 特許庁
ION BEAM IRRADIATION APPARATUS AND INSULATING SPACER FOR THE SAME例文帳に追加
イオンビーム照射装置及び当該装置用絶縁スペーサ - 特許庁
The irradiation is carried out with ultraviolet rays, an excimer laser beam, an electron beam, an ion beam or their combined beam as the energy beam 2.例文帳に追加
エネルギービームとしては、紫外線、エキシマレーザ、電子ビーム、イオンビームまたはこれらを組合せたビームを照射する。 - 特許庁
To provide an ion beam irradiation positioning device capable of nondestructively and highly accurately positioning the irradiation position of an ion beam.例文帳に追加
非破壊で且つ高精度にイオンビームの照射位置の位置決めが可能なイオンビーム照射位置決め装置を提供する。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF ION BEAM IRRADIATION DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
イオンビーム照射装置および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
CERAMIC NANOWIRE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME BY ION BEAM IRRADIATION例文帳に追加
セラミックナノワイヤー及びイオンビーム照射によるその製造法 - 特許庁
The ion beam device has a gas field ionization ion source, an ion irradiation light system, and a vacuum container.例文帳に追加
イオンビーム装置は、ガス電界電離イオン源とイオン照射光系と真空容器とを有する。 - 特許庁
This is the beam profile monitor 10 which has an irradiation face 10a opposing to an ion beam source and measures intensity distribution of an ion beam in an irradiation face.例文帳に追加
イオンビーム源に対向する照射面10aを有し照射面におけるイオンビームの強度分布を計測するビームプロファイルモニター10。 - 特許庁
A window 2a for ion beam irradiation is provided in the case 2.例文帳に追加
ケース2には集束イオンビーム照射用の窓2aを設ける。 - 特許庁
THERMOELECTRON GENERATING SOURCE AND ION BEAM IRRADIATION DEVICE HAVING IT例文帳に追加
熱電子発生源およびそれを備えるイオンビーム照射装置 - 特許庁
CHARGED VOLTAGE MEASURING DEVICE FOR SUBSTRATE AND ION BEAM IRRADIATION DEVICE例文帳に追加
基板の帯電電圧計測装置およびイオンビーム照射装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PENCIL TYPE ION BEAM FOR HIGH PRECISION THREE-DIMENSIONAL IRRADIATION例文帳に追加
高精度3次元照射用ペンシル型のイオンビーム形成法 - 特許庁
METHOD FOR CREATING FILAMENTOUS FUNGUS VARIANT USING ION BEAM IRRADIATION例文帳に追加
イオンビーム照射を用いた糸状菌の変異株作出方法 - 特許庁
MUTATION BREEDING METHOD FOR ASTERACEOUS PLANT INDIVIDUAL BY ION BEAM IRRADIATION例文帳に追加
イオンビーム照射によるキク科植物の突然変異育種法 - 特許庁
DEVICE FOR DISCHARGING LIQUID METAL ION, ION BEAM IRRADIATION DEVICE, PROCESSING UNIT PROVIDED WITH THE ION BEAM IRRADIATION DEVICE, ANALYZER AND MANUFACTURING METHOD FOR THE DEVICE FOR DISCHARGING LIQUID METAL ION例文帳に追加
液体金属イオン放出用装置、イオンビーム照射装置、該イオンビーム照射装置を備えた加工装置、分析装置、および液体金属イオン放出用装置の製造方法 - 特許庁
The ion beam irradiation device is provided with the ion source for bringing out an ion beam, and a target drive device for moving the target 14 to a direction along a y-axis in an irradiation region of the ion beam brought out from the ion source.例文帳に追加
このイオンビーム照射装置は、イオンビームを引き出すイオン源と、それから引き出されたイオンビームの照射領域内でターゲット14をy軸に沿う方向に移動させるターゲット駆動装置とを備えている。 - 特許庁
FILM REMOVING DEVICE OF BEAM IRRADIATION ELECTRODE IN ION SOURCE, ION SOURCE EQUIPPED WITH THIS, AND MEMBER FOR FILM REMOVING OF BEAM IRRADIATION ELECTRODE例文帳に追加
イオン源におけるビーム照射電極の被膜除去装置、これを備えたイオン源、及びビーム照射電極の被膜除去用部材 - 特許庁
Acceleration voltage of the ion beam when irradiation with the ion beam is performed in the milling step is in the range of 400 to 1,400 V.例文帳に追加
ミリング工程におけるイオンビームを照射する際のイオンビームの加速電圧は、400〜1400Vである。 - 特許庁
To provide an ion beam irradiation device which restrains the density of an ion beam from becoming uneven on a surface of a base plate even when the base plate is scanned in a state of slanted against ion beam irradiation direction.例文帳に追加
イオンビームの照射方向に対して傾斜した状態で基板を走査した場合であっても、イオンビームの濃度が基板の表面内において不均一となることを抑制する。 - 特許庁
To suppress charging of a substrate surface at ion beam irradiation.例文帳に追加
イオンビーム照射の際の基板表面の帯電をより小さく抑制する。 - 特許庁
In the device for processing a sample 2 by generating an ion beam 1, this plate for detecting an irradiation point of the ion beam 1 by irradiating it with the ion beam 1 is composed by using a material allowing the irradiation point of the ion beam 1 to be discriminated from its circumferential part without emitting gas by the ion beam irradiation.例文帳に追加
イオンビーム1を発生させて試料2を加工する装置において、イオンビーム1を照射してイオンビーム1の照射点を検出するための板であって、イオンビーム1の照射点と周囲の部位との区別がつくような材料であって、且つイオンビーム照射によりガス放出がない材料を用いて構成される。 - 特許庁
A dose Faraday 1 is installed outside a path of an ion beam 6 applied toward a wafer 4 of an ion irradiation object, and measures a beam current of the ion beam 6 during ion implantation treatment into the wafer 4.例文帳に追加
ドーズファラデー1は、イオン照射対象物のウェハ4に照射するイオンビーム6の軌道外に設けられ、ウェハ4へのイオン注入処理中のイオンビーム6のビーム電流を測定する。 - 特許庁
Ion plasma type electron beam irradiation equipment 100 generates an electron beam that irradiates a wide area.例文帳に追加
イオンプラズマ型電子ビーム照射装置100は、照射領域が広範な電子ビームを生成する。 - 特許庁
To provide ion beam irradiation equipment with which uniform alignment treatment is conducted in alignment treatment with ion beam irradiation.例文帳に追加
本発明の目的は、イオンビーム照射により配向処理をおこなう際に、均一な配向処理ができるイオンビーム照射装置を提供することにある。 - 特許庁
An ion beam is introduced from the synchrotron 4 to the irradiation field forming device 13.例文帳に追加
イオンビームはシンクロトロン4から照射野形成装置13に導かれる。 - 特許庁
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