「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL, MgO FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

ＭｇＯ蒸着材の製造方法、ＭｇＯ膜及びＭｇＯ膜の製造方法 - 特許庁

OBLIQUE VAPOR DEPOSITION APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SCREEN, AND DEVICE FOR CHANGING CONVEYING DIRECTION例文帳に追加

斜方蒸着装置、スクリーンの製造方法及び搬送方向変更装置 - 特許庁

UNDERCOAT PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION FOR METAL VAPOR DEPOSITION, AND CURED MATERIAL OF THE SAME例文帳に追加

金属蒸着用アンダーコート光硬化性樹脂組成物及びその硬化物 - 特許庁

To form a dense TiNx film having excellent barrier properties by using a vapor-deposition method.例文帳に追加

蒸着法で緻密かつバリア性に優れたＴｉＮｘ膜を形成する。 - 特許庁

To deposit a thin film having excellent film thickness uniformity by an vapor deposition process.例文帳に追加

膜厚均一性に優れた薄膜を蒸着法によって形成可能とする。 - 特許庁

A vapor deposition source 120 opposes to the one surface S1 of the holder 103a.例文帳に追加

蒸着源１２０はホルダ１０３ａの一方面Ｓ１に対向している。 - 特許庁

A second electrode layer 28 is formed on the organic EL vapor deposition layer 25.例文帳に追加

有機ＥＬ蒸着層２５上に第２電極層２８が設けられている。 - 特許庁

A system 10 forms pattern vapor deposition on a substrate 14 from a compression fluid.例文帳に追加

システム１０は、基板１４に圧縮流体からパターン蒸着を形成する。 - 特許庁

To provide a new indium compound suitable for use in indium vapor deposition.例文帳に追加

インジウム蒸着法における使用に好適な新規なインジウム化合物の提供。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION METHOD OF ELECTRON EMITTING CARBON FILM BY ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA例文帳に追加

電子サイクロトロン共鳴プラズマによる電子放出カ—ボンフィルムの蒸着方法 - 特許庁

ROD TARGET FOR ARC EVAPORATION SOURCE, ITS PRODUCTION METHOD AND ARC VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

アーク蒸発源用のロッドターゲット、その製造方法及びアーク蒸着装置 - 特許庁

AUGMENTED REACTOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF ULTRA-LONG CARBON NANOTUBE例文帳に追加

極めて長いカーボンナノチューブを化学蒸着させるための増強された反応器 - 特許庁

To provide a polypropylene film for vapor deposition having excellent wind-up properties and processability.例文帳に追加

巻取り性や加工性に優れた蒸着用ポリプロピレンフィルムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR EMBEDDING METALLIC MATERIAL USING COAXIAL VACUUM ARC VAPOR DEPOSITION SOURCE例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸着源を用いた金属材料の埋め込み方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING EXHAUST GAS CATALYST BY USING COAXIAL VACUUM ARC VAPOR DEPOSITION SOURCE例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸着源を用いた排ガス触媒の製造方法 - 特許庁

TANTALUM AND NIOBIUM COMPOUND AND THEIR USE FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (CVD) PROCESS例文帳に追加

タンタル及びニオブ化合物並びにそれらの化学蒸着（ＣＶＤ）での使用 - 特許庁

MASK FOR VAPOR DEPOSITION, ITS MANUFACTURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY DEVICE例文帳に追加

蒸着用マスクおよびその製造方法ならびに表示装置の製造方法 - 特許庁

The evaporation source in a vapor deposition apparatus has an actuator for moving a crucible up and down.例文帳に追加

蒸着装置の蒸着源に坩堝を昇降できる駆動部を設ける。 - 特許庁

METHODS FOR DEPOSITING HIGH-K DIELECTRIC MATERIAL USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

化学気相堆積プロセスを用いて高ｋ誘電物質を堆積させる方法 - 特許庁

To provide a ceramic vapor deposition film which is improved in the adhesive properties between a substrate and a ceramic vapor deposition layer when the ceramic vapor deposition layer is formed on the substrate of a plastic film, shuts off oxygen and water vapor, and is excellent in retort resistance and contents resistance.例文帳に追加

本発明は、プラスティックフィルムからなる基材にセラミック蒸着層を形成する際の基材とセラミック蒸着層の密着性を改善し、酸素や水蒸気を遮断する、耐レトルト性および耐内容物性に優れるセラミック蒸着フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a plasma vapor deposition method with which vapor deposition can be performed at an electric current lower than that in the conventional method, the reduction of energy can be achieved, a film deposition damage is reduced, and also, radiant heat to a base material can be reduced, and to provide a vapor deposition film deposited by the method.例文帳に追加

従来の方法に比べて低電流で蒸着することができ、低エネルギー化を図ることが可能であり、成膜ダメージを低減し、かつ基材への輻射熱の低減が可能な、プラズマ蒸着方法及び該方法により形成された蒸着膜を提供する。 - 特許庁

Vapor deposition is performed in a film deposition chamber 101 by moving or reciprocating a vapor deposition source holder 104 having a plurality of containers (crucibles) 106 with vapor deposition material sealed therein only in an X direction, and moving substrates 100 at a predetermined interval.例文帳に追加

本発明は、成膜室１０１内において、蒸着材料が封入された容器（ルツボ）１０６を複数個設置した蒸着源ホルダ１０４をＸ方向にのみ移動または往復させ、基板１００を一定間隔で移動しながら蒸着を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an evaporation source container in a vacuum deposition system with which a sublimable vapor deposition material solidified by the heating can stably be heated and evaporated by a resistance heating vapor deposition method without bursting the sublimable vapor deposition material.例文帳に追加

真空蒸着装置において、抵抗加熱蒸着法により昇華性蒸着材料を蒸発源により加熱するに際し、加熱により固形化する昇華性蒸着材料を破裂させることなく、安定良く加熱、蒸発させることが可能となる蒸発源容器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal vapor deposition layer-laminated film in which an additional optical effect is given to the metal vapor deposition layer, or a layer for protecting the metal deposition layer from oxidation is formed additionally on its surface and a metal vapor deposition film by the method.例文帳に追加

金属蒸着層に対してさらに光学的な効果を付与したり、金属蒸着層を酸化から守るための層をその表面にさらに設けた金属蒸着層を積層したフィルムの製造方法及び該方法による金属蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus which does not form vapor deposition spots on individual substrates even when vapor-deposited films are formed on many substrates at a time, and can manufacture a substrate having stable reflection properties.例文帳に追加

一度に多数の基板に蒸着膜を形成する場合においても、個々の基板に蒸着斑が生じず、安定した反射特性を有する基板を製造できる蒸着装置を提供する。 - 特許庁

A vapor deposition material 25 supplied from a vapor deposition source 20 is vapor-deposited on a substrate 200 on which geometric unevenness has been formed to form a transparent conductive film on the surface of the substrate 200.例文帳に追加

幾何学的な凹凸が形成された基板２００に蒸着源２０から供給される蒸着材料２５を蒸着させ、基板２００の表面に透明導導電膜を形成する。 - 特許庁

At least one of either vapor deposition pressure or vapor deposition power is adjusted so as to generate a prescribed upward stress when the metal films for the upper and lower electrodes are vapor-deposited.例文帳に追加

上部および下部電極用の金属膜の蒸着時に所定の上方向の応力が発するように蒸着圧力および蒸着パワーのうち少なくともいずれか１つを調整する。 - 特許庁

To provide a liquid raw material for a chemical vapor growth method which can realize the film deposition of a silicate compound of high quality, to provide a film deposition method by a chemical vapor growth method, and to provide a chemical vapor growth device.例文帳に追加

良質な珪酸塩化合物の成膜を実現可能な、化学気相成長法用液体原料、化学気相成長法による膜形成方法、および、化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device increasing quality stability and productivity of a vapor deposited film by promoting stabilization of an evaporation amount of a vapor deposition material.例文帳に追加

本発明の目的は、蒸着材料の蒸発量の安定化を図ることにより、蒸着フィルムの品質安定および生産性を向上させることができる蒸着装置を提供することにある。 - 特許庁

By subjecting the composite material for vapor deposition to vacuum deposition, a metal back film having a first vapor deposited layer of pure aluminum and a co-vapor deposited layer of aluminum and carbon formed thereon can be obtained.例文帳に追加

この蒸着用複合材料を真空蒸着することにより、純アルミニウムの第１の蒸着層とその上に形成されたアルミニウムとカーボンとの共蒸着層とを有するメタルバック膜が得られる。 - 特許庁

To provide a method of suppressing a splash when a vapor-deposited film such as an antireflective film is formed on an object of vapor deposition such as a plastic lens etc., by using a vapor deposition material such as tantalum oxide.例文帳に追加

酸化タンタルを含む蒸着材料を用いて、プラスチックレンズ等の被蒸着物に反射防止膜等の蒸着膜を形成する際にスプラッシュの発生を抑制する手段を提供すること。 - 特許庁

The temperature of a vapor deposition part 12a, where glass is vapor-deposited on a glass rod 12 being converted into a core rod is measured, and the temperature of the vapor deposition part 12a is controlled to be fixed at a prescribed temperature based on the measured temperature.例文帳に追加

コアロッドとなるガラス棒１２にガラスが蒸着する蒸着部１２ａの温度を測定し、測定温度に基づいて蒸着部１２ａの温度が所定温度で一定となるようにする。 - 特許庁

To prevent the deterioration of the quality of an AuSn layer due to the bumping of an AuSn alloy vapor deposition source when the AuSn layer is vapor-deposited on the surface of a light-emitting device opposite to the substrate using an AuSn alloy as the vapor deposition source.例文帳に追加

ＡｕＳｎ合金を蒸着源として発光素子の基板対向面へＡｕＳｎ層を蒸着させる際、ＡｕＳｎ合金蒸着源が突沸してＡｕＳｎ層の品質が低下する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition material capable of manufacturing an oxide film containing strontium and calcium under a stable condition by a physical vapor growth method such as an electron beam vapor deposition method, with low hygroscopicity.例文帳に追加

吸湿性が低く、電子ビーム蒸着法などの物理気相成長法により安定した条件でストロンチウムとカルシウムとを含む酸化物膜を製造することができる蒸着材を提供する。 - 特許庁

To provide a device for vapor-depositing CdS and CdTe layers on a substrate by a PVD method in the form of CSS which is suitable for large scale vapor deposition and continuous vapor deposition stages.例文帳に追加

本発明は、大規模蒸着と連続蒸着工程に適し、ＣＳＳの形でのＰＶＤ方法により、基板にＣｄＳ及びＣｄＴｅ層を蒸着させる装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The vacuum deposition apparatus includes: a vacuum chamber (10); a crucible (11) which is provided in the vacuum chamber (10) and stores a vapor deposition material; and a uniform heating mechanism (20) for heating the vapor deposition material provided in the crucible (11).例文帳に追加

真空チャンバー（１０）と、真空チャンバー（１０）内に設けられ、蒸着材料を収納するるつぼ（１１）と、るつぼ（１１）に設けた蒸着材料を加熱する均一加熱機構（２０）とを備える。 - 特許庁

The raw material for chemical vapor deposition is suitable for a raw material for depositing a silicon-containing thin film, preferably, a silicon oxide- containing thin film by the chemical vapor deposition method, in particular, an ALD (Atomic Layer Deposition) method on a substrate.例文帳に追加

該化学気相成長用原料は、基体上に化学気相成長法、特にＡＬＤ法により、ケイ素含有薄膜、好ましくは酸化ケイ素薄膜を形成する原料として好適である。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition apparatus capable of continuously executing vapor deposition of a vapor deposition material on a base material for a long period of time, and depositing a thin film of high quality on the base material.例文帳に追加

長時間連続して基材上に蒸着材料を蒸着させることができるとともに、品質の高い薄膜を基材上に形成することが可能な真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

The problem is solved by investigating the pretreatment method for a mica substrate and the conditions such as degree of vacuum, vapor deposition temperature, vapor deposition rate, and film thickness in the vacuum deposition method.例文帳に追加

真空蒸着法において、雲母基板の前処理方法および蒸着の際の真空度、蒸着温度、蒸着速度、膜厚等の条件を検討することにより、上記課題を解決した。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system, when a thin film is deposited by a vapor deposition process, a uniform and dense thin film can be deposited, and, for example, the effective utilization of a film deposition material is possible.例文帳に追加

蒸着法により薄膜を形成するに際し、均一かつ緻密な薄膜を形成することができるとともに、例えば、膜形成材料の有効利用が可能な蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

Further, after the vapor deposition holder is moved from the film deposition chamber to the installation chamber 103b, the parts of the vapor deposition holder, typically the film thickness monitor, shutter or the like, are subjected to cleaning.例文帳に追加

また、本発明は、蒸着ホルダを成膜室１０１から設置室１０３ｂに移動させた後、蒸着ホルダの部品（ルツボ１０６、膜厚モニタ１０５、シャッター）を大気に触れることなく設置する。 - 特許庁

To provide a coated film having an excellent metal vapor deposition appearance, and very excellent in adhesiveness to vapor-deposited metal, when vapor-deposited.例文帳に追加

金属蒸着された際に、優れた金属蒸着外観を有し、かつ蒸着金属との間の接着性が極めて良好な塗布フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system 1 which is excellent in maintenability capable of performing the maintenance of a film deposition system and the reregulation of a film deposition source in a short period of time.例文帳に追加

成膜装置の保守点検・成膜源の再調整を短時間で行うことができるメンテナンス性に優れた蒸着装置１を提供する。 - 特許庁

To achieve high productivity by realizing the whole deposition of a thin film or deposition continuous for a long time by providing sufficient vapor deposition source material.例文帳に追加

十分な蒸着源材料を提供して薄膜堆積全体あるいは長時間の継続した堆積を提供して高い生産性を達成する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF DETERMINING FILM DEPOSITION TIME, CHAMBER, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE AND BOAT THEREFOR, ETCHING DEVICE, AND FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

半導体装置の製造方法、成膜時間の決定方法、チャンバー、化学気相成長装置及びそのボート、エッチング装置、並びに成膜処理システム - 特許庁