意味 | 例文 (999件) |
Vapor Depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5223件
To provide a vapor deposition film with high suitability for practical use and excellent transparency and especially, high gas barrier properties, above all superior water vapor barrier properties as well as a packaging material using the vapor deposition film.例文帳に追加
本発明は、透明性に優れ、且つ特に水蒸気バリア性に優れた高いガスバリア性を有する、実用性の高い蒸着フィルムおよびその蒸着フィルムを用いた包装材料を提供することを目的とする。 - 特許庁
Also, regarding the composition of the alloy supplied for the vapor deposition source after the vapor deposition treatment, compared with the composition of the alloy film, the content of the metal having low vapor pressure is made low.例文帳に追加
更に、蒸着処理後に蒸着源に補充する合金の組成は、合金膜の組成に比較して、蒸気圧の小さい金属ほどその含有量を小さくすることを特徴とする真空蒸着法である。 - 特許庁
In the metal vapor deposition film manufacturing method, when conductive metal is continuously vapor-deposited on a base film with a predetermined wetting tension, at least a part of a margin formed on a metal vapor deposition film is formed by a print roll with a margin pattern engraved thereon, and the conductive metal is vapor-deposited at a predetermined vapor deposition rate.例文帳に追加
所定の濡れ張力を有するフィルム基材に導電性金属を連続蒸着する際に、金属蒸着フィルムに形成されたマージンのうち少なくとも一部をマージンパターンが彫刻された印刷ロールによって形成し、かつ、所定の蒸着速度により導電性金属が蒸着されることを特徴とする金属蒸着フィルムの製造方法。 - 特許庁
The vapor deposition material 111 adhered to the components such as a substrate holder 102, an vapor deposition mask 104, a mask holder 105 and an adhesion-preventive shield 106 provided inside the film deposition chamber 101 is subjected to heating treatment.例文帳に追加
成膜室101内に設けられた基板ホルダ102、蒸着マスク104、マスクホルダ105もしくは防着シールド106といった部品に付着した蒸着材料111に対して加熱処理を行う。 - 特許庁
To provide a vapor deposition material which contains silicon and silicon oxide and can inhibit a splash phenomenon, and an exellent gas-barrier vapor deposition film deposited by heating deposition using the material.例文帳に追加
スプラッシュ現象の発生が抑制できる珪素と珪素酸化物を含有する蒸着用材料と、それを用いて加熱蒸着により成膜されたガスバリア性に優れたガスバリア性蒸着フィルムを提供すること。 - 特許庁
To provide a vapor-deposition material of a tantalum oxide which hardly cause the lowering of a degree of vacuum in a vacuum vapor-deposition apparatus, and is less in the amount of splashing during a vaccum deposition and to provide a production method thereof.例文帳に追加
真空蒸着の際に、真空蒸着装置の真空度が落ち難く、且つ、スプラッシュ量が少ない酸化タンタル蒸着材およびその製造方法、並びに蒸着膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The vapor deposition system 10 comprises: a plurality of vapor deposition sources 210 for respectively vaporizing different stored film deposition materials; a plurality of blow-out mechanisms 110 for blowing the film deposition materials vaporized by the plurality of vapor deposition sources 210 from an outlet Op; and one or two or more partitions 120 for partitioning the adjacent blow-out mechanisms 110.例文帳に追加
蒸着装置10は、収納された異なる成膜材料をそれぞれ気化させる複数の蒸着源210と、複数の蒸着源210にて気化された成膜材料を吹き出し口Opから吹き出す複数の吹き出し機構110と、隣り合う吹き出し機構110を仕切る1または2以上の隔壁120と、有している。 - 特許庁
To provide a technique capable of reducing the unevenness of film thickness caused by the unevenness of vapor deposition and preventing a yield from lowering caused by a fine vapor deposition material and splashes in a film deposition method by which a vapor deposition material packed into a circular conveyor is irradiated with a beam and is evaporated to deposit a film in a film deposition chamber.例文帳に追加
成膜室内において循環搬送装置内に充填された蒸着材料にビームを照射して蒸発させて基板面上に膜を形成する成膜方法において、蒸着の不均一による膜厚ムラの低減、及び、小片蒸着材料・スプラッシュによる歩留まり低下の防止を実現できる技術を提供する。 - 特許庁
To improve a yield and productivity of a vapor deposited film by stabilizing the evaporation amount of a vapor deposition material.例文帳に追加
蒸着材料の蒸発量の安定化を図ることにより、蒸着フィルムの収率及び生産性を向上させること。 - 特許庁
To accurately predict film thickness of a film when the film is formed by vapor depositing a vapor deposition material from a plurality of vaporization sources.例文帳に追加
複数の蒸発源から蒸着材料を蒸着させて膜を形成する場合に、膜の膜厚を精度よく予測する。 - 特許庁
The vapor deposition apparatus vapor-deposits the material on a substrate 14, while charging or discharging another substrate 14 into or from vacuum chambers A or C, or aligning it with a mask.例文帳に追加
基板14を真空チャンバーA,Cに出入したりアライメントしたりする間に他の基板14を蒸着する。 - 特許庁
The inner surface of the main body part left in the movable mold (17) is covered with the chamber (25) for vapor deposition and vapor-deposited in the mold.例文帳に追加
可動金型(17)に残っている本体部の内表面を蒸着用チャンバー(25)で覆って金型内で蒸着する。 - 特許庁
To provide a vapor deposition system and vapor phase epitaxial growth method which raise a growing speed, without making a wafer rotate at a high speed.例文帳に追加
ウェハを高速回転させずに成長速度を高める気相成長装置および気相成長方法を提供する。 - 特許庁
The light shielding sheet 13 is provided with an aluminum vapor deposition layer 15 composed of a film 14 of which one or both surfaces are vapor deposited with aluminum.例文帳に追加
遮光シート13は、フィルム14の片面あるいは両面にアルミを蒸着させたアルミ蒸着層15を形成する。 - 特許庁
To provide a polyester film for vapor deposition suitable for obtaining a transparent vapor-deposited film excellent in oxygen and steam cutting-off properties.例文帳に追加
酸素および水蒸気の遮断性に優れた透明蒸着フィルムを得るに好適な蒸着用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
Regarding the composition of the vapor deposition source, compared with the composition of the alloy film, the content of the metal having low vapor pressure is made high.例文帳に追加
蒸着源の組成は、合金膜の組成に比較して、蒸気圧の小さい金属ほどその含有量を大きくする。 - 特許庁
Fine particles 3a-3f comprising an electric conductor and having ≤100 nm diameter are formed on the stepped part by vapor-depositing the electric conductor on the surface of the substrate 8 by electron beam vapor deposition.例文帳に追加
段差部に導電体からなり100nm以下の直径を有する微小粒子3a〜3fを形成する。 - 特許庁
To provide a thin film deposition method using an atomic layer deposi tion method by which a thin film can be deposited at a high vapor deposition rate.例文帳に追加
高い蒸着速度で形成することができる原子層蒸着法を用いた薄膜製造方法を提供する。 - 特許庁
Thereby, the alignment layer can be easily formed on a large area of a substrate through chemical vapor deposition or evaporation deposition.例文帳に追加
これにより、配向膜は、化学気相蒸着法や気化蒸着法を用いて広い面積の基板に容易に形成できる。 - 特許庁
In the deposit-up type sputtering vapor deposition, the substrate is not polluted, and the offset film deposition is also performed.例文帳に追加
このため、本願発明のデポアップ型スパッタ蒸着においては、基板を汚染することなく、また、オフセット成膜も可能である。 - 特許庁
To provide chemical vapor deposition apparatus and a method of using the apparatus.例文帳に追加
化学気相成長装置、及びその装置を用いた化学気相成長法を提供する。 - 特許庁
IN-SITU METAL FILM FORMING METHOD AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS USED THEREIN例文帳に追加
インサイチュー金属膜形成方法及びそれに使用される化学気相蒸着装置 - 特許庁
PLASMA JET CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM, AND METHOD FOR COATING NONPLANAR SURFACE WITH DIAMOND例文帳に追加
プラズマ噴流化学蒸着装置及び平面でない表面をダイヤモンド被覆する方法 - 特許庁
METHOD OF DEPOSITING VAPOR DEPOSITION FILM TO INSIDE FACE OF PLASTIC VESSEL, AND NON-PRESSURE RESISTING PLASTIC VESSEL例文帳に追加
プラスチック容器内面への蒸着膜の成膜方法及び非耐圧性プラスチック容器 - 特許庁
To provide a mask for a large scale high-precision vapor deposition.例文帳に追加
大型の高精度の蒸着用マスクを得ることができるようにすることを目的とする。 - 特許庁
An insulating layer may be applied between the substrate and the electrically conductive layer by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加
化学蒸着法により、絶縁層を基材と導電層との間に塗布してもよい。 - 特許庁
METHOD OF PREPARING PHOSPHOR OR SCINTILLATOR MATERIAL, AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS USED THEREFOR例文帳に追加
燐光体又はシンチレータ材料の形成方法及びそのために使用される蒸着装置 - 特許庁
VAPOR-DEPOSITION MATERIAL FOR FORMING THIN FILM, THIN SHEET INCLUDING THIN FILM, AND LAMINATED SHEET例文帳に追加
薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート - 特許庁
VAPOR DEPOSITION FILM FORMATION METHOD, PROTECTIVE FILM FORMATION METHOD, AND DEVICE FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加
蒸着膜の形成方法、保護膜の形成方法及びプラズマディスプレイパネル製造装置 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION MATERIAL FOR FORMING THIN FILM, THIN FILM SHEET HAVING THIN FILM, AND LAMINATED SHEET例文帳に追加
薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート - 特許庁
VAPOR DEPOSITION MATERIAL FOR FORMING THIN FILM, THIN FILM SHEET HAVING THE THIN FILM, AND LAMINATED SHEET例文帳に追加
薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート - 特許庁
FILM DEPOSITION SYSTEM, WATER VAPOR OXYGEN BARRIER STACKED BODY, OPTICAL FUNCTIONAL FILTER, AND OPTICAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
成膜装置、水蒸気酸素バリア積層体、光学機能性フィルタ及び光学表示装置 - 特許庁
To provide a heater for thin film vapor deposition whose manufacture is facilitated, and which stably acts.例文帳に追加
製造が容易にして、安定して作用する薄膜蒸着用ヒータを提供する。 - 特許庁
To provide a vapor deposition material having excellent thermal shock resistance, and to provide its production method.例文帳に追加
優れた耐熱衝撃性を有する蒸着材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION SYSTEM, EVAPORATION MATERIAL SCRAPING DEVICE, AND EVAPORATION MATERIAL FEEDER例文帳に追加
蒸着装置および蒸着材料擦り切り装置並びに蒸着材料供給装置 - 特許庁
An evaporation source 8 which becomes a material of the organic EL layer is arranged outside the vapor-deposition chamber.例文帳に追加
有機EL層の材料となる蒸発源8が蒸着室外に配置されている。 - 特許庁
To improve reliability of a liquid crystal display having an inorganic vapor deposition film used for an alignment layer.例文帳に追加
無機蒸着膜を配向層に用いた液晶表示装置の信頼性を改善する。 - 特許庁
To provide a method for recovering germanium from modified chemical vapor deposition(MCVD) processing wastes.例文帳に追加
MCVD加工廃棄物からゲルマニウムを回収する新規な方法を提供する。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR RADIATION IMAGE TRANSFORMATION PANEL, RADIATION IMAGE TRANSFORMATION PANEL, AND VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加
放射線画像変換パネルの製造方法、放射線画像変換パネル及び蒸着装置 - 特許庁
SUBSTRATE HEAT TREATMENT METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND DISPLAY例文帳に追加
基板熱処理方法、半導体装置の製造方法、化学気相堆積方法及ディスプレイ - 特許庁
PRODUCTION METHOD FOR SILICON NITRIDE FILM OR SILICON OXYNITRIDE FILM BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
化学気相成長法によるシリコン窒化物膜またはシリコンオキシ窒化物膜の製造方法 - 特許庁
INLINE VAPOR DEPOSITION APPARATUS, APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL APPARATUS例文帳に追加
インライン蒸着装置、有機EL装置の製造装置、有機EL装置の製造方法 - 特許庁
PRODUCTION METHOD FOR RARE EARTH ELEMENT-ADDED OPTICAL FIBER PREFORM, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND OPTICAL FIBER例文帳に追加
希土類元素添加光ファイバ母材の製造方法、蒸着装置及び光ファイバ - 特許庁
Thereafter, a termination structure oxide layer 150 is formed through vapor deposition, lithographic process and etching.例文帳に追加
蒸着、リソグラフィック及びエッチングプロセスにより、終端構造酸化層150を形成する。 - 特許庁
The weight measuring mechanism 4 measures the weight of the vapor deposition material in the container 1.例文帳に追加
重量測定機構4は、容器1内の蒸着材料の重量を測定する。 - 特許庁
CATALYTIC ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND FABRICATION METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE例文帳に追加
触媒強化化学気相蒸着装置及び有機電界発光素子の製造方法 - 特許庁
Preferably, the aluminum flakes are produced by vapor deposition.例文帳に追加
さらに、前記アルミニウムフレークは蒸着法により製造されたアルミニウムフレークであることが好ましい。 - 特許庁
To reduce the heating of substrates during plasma enhanced chemical vapor deposition.例文帳に追加
本発明は、プラズマ化学気相堆積時の基板の加熱を低減する目的に基づいている。 - 特許庁
SOLAR CELL MANUFACTURING METHOD MAKING USE OF INDUCTIVE COUPLING PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
誘導結合プラズマ化学気相蒸着法を利用した太陽電池の製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR VAPOR PHASE DEPOSITION, AND METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
気相堆積方法及び装置並びに半導体装置の製造方法及び装置 - 特許庁
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