「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a vapor deposition apparatus that uniformizes film thickness distribution of an epitaxial film.例文帳に追加

エピタキシャル膜の膜厚分布を均一にできる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

The coating is produced by physical vapor deposition processes such as cathode ray atomization.例文帳に追加

塗膜は、陰極線アトマイゼーションのような物理蒸着法により作製される。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING THIN FILM AND VAPOR DEPOSITION MATERIAL FOR CO-VAPOR DEPOSITION FOR FORMING THIN FILM, THIN FILM OBTAINED BY THE METHOD, THIN FILM SHEET HAVING THE THIN FILM, AND LAMINATED SHEET例文帳に追加

薄膜の製造方法及び薄膜形成用の共蒸着用蒸着材、該方法により得られる薄膜、該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート - 特許庁

The plasma-activated chemical vapor deposition method is carried out via electric discharge to gaseous argon.例文帳に追加

なおプラズマＣＶＤ法は、アルゴンガスに対する放電を介して行う構成とした。 - 特許庁

Shielding masks 20 and 21 intercept pathes between the substrates 11 and a vapor deposition source 12 to limit a range of an incidence angle of a vapor deposition material to be deposit on the substrates 11.例文帳に追加

遮蔽マスク２０及び２１は、基板１１と蒸着源１２との間を遮り、基板１１に付着する蒸着材料の入射角の範囲を制限する。 - 特許庁

Further, the drag (20) may be provided with an opening part for under coat and vapor deposition.例文帳に追加

なお、下型（２０）にも、アンダコートおよび蒸着のための開口部があってもよい。 - 特許庁

METAL-VAPOR-DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR STIRRING POWDERY CARRIER IN THE SAME APPARATUS例文帳に追加

金属蒸着装置および同装置における粉体状担体の撹拌方法 - 特許庁

To provide a screen mask for vapor deposition, capable of meeting the recent demand for high definition patterning and contributing to cost reduction, a vapor deposition method, and a method for manufacturing an organic EL(electroluminescent) device.例文帳に追加

高精細なパターニングに対応可能で、コスト低減に寄与することができる蒸着用スクリーンマスク、蒸着方法及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an equipment for chemical vapor deposition capable of equalizing a thickness of a film formed on the surface of a wafer, and to provide a method for chemical vapor deposition using the same.例文帳に追加

ウェハ面上に形成する薄膜の膜厚を均一にできる化学的気相成長装置およびそれを用いた気相成長方法を提供すること。 - 特許庁

The adhesion step is a vapor deposition step and, preferably, the evaporation step is a heating step for heating only the magnet material in a vacuum following to the vapor deposition step.例文帳に追加

付着工程は蒸着工程であり、蒸発工程は蒸着工程に続けて磁石材だけを真空中で加熱する加熱工程であると好ましい。 - 特許庁

To provide a cascaded selective pumping system for a chemical vapor deposition (CVD) chamber.例文帳に追加

化学気相堆積（CVD）チェンバーのためのカスケード式選択ポンピング・システムを提供する。 - 特許庁

To provide vapor-deposition paper and a vapor-deposition film which does not cause a change in glossiness, blurring of an image, and peeling of toner when used for printing in an electrophotographic copying machine and a printer.例文帳に追加

電子写真方式のコピー機並びにプリンター機で光沢の変化も無く、画像のぼやけやトナーの剥がれの無い蒸着紙、蒸着フイル厶を提供する。 - 特許庁

To provide a film coating system which has a process of forming a film by vapor deposition in normal-pressure plasma, and forms the thin film of high quality by vapor deposition in the atmospheric environment, and to provide an isolating device thereof.例文帳に追加

常圧プラズマ膜蒸着プロセスと高品質膜を有し、大気環境において薄膜蒸着を行う膜コーティングシステムとその隔離装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device and an operation decision method of the vapor deposition device, capable of reliably stopping the operation of the device when there is a problem in a sealing mechanism.例文帳に追加

シール機構に問題がある場合に確実に装置の稼働を停止させることが可能な気相成長装置及び気相成長装置の稼働判断方法を提供する。 - 特許庁

A substrate 30 as an object for vapor deposition is disposed facing the smooth surface of the vapor deposition source 10, and conducted to the electrode pattern 11 while keeping the prescribed distance.例文帳に追加

次いで、蒸着対象となる基板３０を蒸着源１０の平滑面に対向配置させ、所定の距離を保ったまま電極パターン１１に通電する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL OR VAPOR DEPOSITION MATERIAL MADE OF Ag-BASED ALLOY, AND THIN FILM例文帳に追加

Ａｇ基合金からなるスパッタリングターゲット材または蒸着材料および薄膜 - 特許庁

To provide a method for coating a vapor deposition film on an inner surface of a vessel which is useful for improving the gas barrier property of the vessel such as a plastic bottle, and to provide a vapor deposition heater used therefor.例文帳に追加

プラスチックボトル等の容器のガスバリア性を向上させるのに有用な容器内面の蒸着膜コート方法と、それに用いる蒸着ヒータを提供する。 - 特許庁

To prevent the sag and twist of a wire rod in a vapor deposition apparatus for continuously forming a vapor deposition film on the wire rod which travels several times between one pair of pulley parts.例文帳に追加

１対のプーリ部の間を複数回往復する線材に蒸着膜を連続的に形成する蒸着装置において、線材の弛みと捩れを防止すること。 - 特許庁

By using the metal mask for vapor deposition, the difference in the thermal expansion between the glass substrate and the mask is eliminated, and a vapor deposition pattern with high positional precision can be formed.例文帳に追加

この蒸着用メタルマスクを用いることにより、ガラス基板とマスクとの熱膨張差が無くなり、位置精度の良い蒸着パターンを形成することができる。 - 特許庁

To realize a method for controlling scan of an electron beam for vacuum vapor deposition, which can utilize a vapor deposition material and can form a thin film having uniform thickness.例文帳に追加

蒸着材料の有効利用を可能とするとともに、均一の厚さの薄膜を形成することができる真空蒸着用電子ビームのスキャン制御方法を実現する。 - 特許庁

An SiO2-GeO2 thin film 16 is formed by vapor deposition on a glass substrate 12.例文帳に追加

ガラス基板１２上にＳｉＯ_2−ＧｅＯ_2薄膜１６を蒸着で形成する。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR CONTINUOUS ARC VAPOR DEPOSITION BY A PLURALITY OF USABLE TARGETS例文帳に追加

複数の利用可能なターゲットによる連続的アーク蒸着の装置および方法 - 特許庁

The liquid crystal is aligned in the vertical direction by the vertical vapor deposition film 43A, in a region where the oblique vapor deposition alignment film 43B is not formed in the grooves between pixels.例文帳に追加

画素間溝における斜方蒸着配向膜４３Ｂが形成されていない領域では、垂直蒸着膜４３Ａによって液晶が垂直方向に配向される。 - 特許庁

Using a composite vapor deposition material in which chromium particles are dispersed into the axial region of a copper substrate, a film with a gradient composition changing from copper to chromium in single vapor deposition is produced.例文帳に追加

銅基体の軸領域にクロム粒子を分散させた複合蒸着材を用い、１回の蒸着で銅からクロムに組成が変化する組成傾斜膜を作製する。 - 特許庁

The particle involves physical vapor deposition of Mn_xV_yTa_zO_w and the chalcogenide glass layer.例文帳に追加

前記粒子は、Ｍｎ_xＶ_yＴａ_zＯ_wおよびカルコゲニドガラス層の物理蒸着により行なう。 - 特許庁

LASER VAPOR DEPOSITION APPARATUS HAVING FUNCTION FOR MODIFYING SURFACE AND INTERFACE OF MATERIAL例文帳に追加

材料の表面および界面を改質する機能を有するレーザ蒸着装置 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND OXYGEN OR OXYGEN- CONTAINING GAS SUPPLY APPARATUS例文帳に追加

蒸着装置、及びこの装置に用いる酸素又は酸素含有ガス供給装置 - 特許庁

To support a substrate by reducing the deflection of the substrate as much as possible without constricting vapor deposition on the substrate in a substrate supportier disposed in a vapor deposition system.例文帳に追加

蒸着装置に配設して使用される基板支持装置において、基板への蒸着を妨げることなく、基板の撓みをより小さく抑えてこの基板を支持する。 - 特許庁

This luminous layer 14 is obtained by vapor deposition of the above host material alone or by joint vapor deposition of a mixture of the host material and the guest material at a prescribed ratio.例文帳に追加

この発光層１４は、前記ホスト材料単独、及び、前記ホスト材料と前記ゲスト材料とを所定の混合比で混合したものを共蒸着して得る。 - 特許庁

A thin film having reduced light absorption is deposited by evaporating and depositing by using the hearth 1 for vapor deposition filled with the vapor deposition material 2.例文帳に追加

この蒸着材料２が充填された蒸着用のハース１を用いて蒸着し、成膜することにより、光の吸収の少ない薄膜を成膜することができる。 - 特許庁

To prevent the lowering of gas barrier properties caused by heat treatment or the like in a laminate constituted by laminating a base material on the inorganic vapor deposition surface of an inorganic vapor deposition film through an adhesive.例文帳に追加

無機質蒸着フィルムの無機質蒸着面に接着剤を介して基材を積層した積層体における、加熱等の処理によるガスバリア性の低下を防止する。 - 特許庁

The vapor deposition source 20 is constructed of heating lamps 21 that are installed on the ceiling of the vacuum chamber 11 and vapor deposition pots 22 that are arranged below the heating lamps 21.例文帳に追加

蒸着源２０は、真空室１１の天井面に設置された加熱ランプ２１と、加熱ランプ２１の下部位置に配設された蒸着坩堝２２とにより構成される。 - 特許庁

The inside of a vacuum chamber 1 is provided with: a first vapor deposition source 10 consisting of a crucible 12 with silicon dioxide as a vapor deposition material 11; and a second vapor deposition source 20 consisting of a crucible 22 with silicon as a vapor deposition material 21, and they are independently heated by first and second electron beam heating apparatuses 13 and 23, so that silicon dioxide and silicon are evaporated, respectively.例文帳に追加

真空チャンバ１内には、二酸化ケイ素を蒸着物質１１とする坩堝１２からなる第１の蒸着源１０と、ケイ素を蒸着物質２１とする坩堝２２からなる第２の蒸着源２０とが設けられて、第１，第２の電子ビーム加熱装置１３，２３により独立に加熱してそれぞれ二酸化ケイ素及びケイ素を蒸発させる。 - 特許庁

An oblique vapor deposition substrate 1 has a plurality of pixel parts 10a arranged apart from each other in two directions (a first direction a and a second direction b) linearly crossing each other, wherein each pixel part 10a is relatively rotated in a plane of the oblique vapor deposition substrate 1 in consideration of a distribution of vapor deposition directions of an oblique vapor deposition layer.例文帳に追加

本発明の斜方蒸着基板１は、複数の画素部１０ａが、直線的に交差した２方向（第１方向ａ、第２方向ｂ）に間隙を有して配列され、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、各画素部１０ａが斜方蒸着基板１の面内において相対的に回転されていることを特徴とする。 - 特許庁

The tool is provided with a vapor deposition mask 3 formed by a magnetic material and a mask holder 4 in which one side part of the vapor deposition mask 3 is fixed with two fixing parts, and a sheet magnet 1 is laminated on the vapor deposition mask 3 through the transparent substrate 2, thus the vapor deposition mask 3 is attracted by the magnetic force of the sheet magnet 1.例文帳に追加

磁性材料によって形成された蒸着マスク３と、この蒸着マスク３の一辺部を２箇所の固定部６で固定してなるマスクホルダー４とを備え、蒸着マスク３上に透明基板２を介してシートマグネット１を積層することにより、そのシートマグネット１の磁力で蒸着マスク３を引き付ける構成とする。 - 特許庁

Vapor deposition substance is evaporated and ionized by feeding high density plasma beams by the arc discharge toward a vapor deposition material mainly consisting of zinc oxide which is charged in a hearth disposed in a film deposition chamber as an anode, and the vapor-deposited substance is deposited on a surface of a substrate disposed facing the vapor deposition material to obtain a thin film.例文帳に追加

成膜室中に陽極として配置されたハースに装填された酸化亜鉛を主成分とする蒸着材料に向けてアーク放電による高密度プラズマビームを供給して蒸着物質を蒸発させてイオン化し、蒸着材料と対向して配置された基板の表面に蒸着物質を付着させて薄膜を得る。 - 特許庁

The method for producing a thin film is characterized by using a sublimable vapor deposition material composed of a first oxide and a meltable vapor deposition material composed of a second oxide, and then forming an oxide thin film constituted of the first oxide and the second oxide on a substrate by a co-vapor deposition method comprising simultaneously vapor depositing the oxides by a vacuum film deposition process.例文帳に追加

本発明の薄膜の製造方法は、第１酸化物からなる昇華性蒸着材と第２酸化物からなる溶融性蒸着材を用い、真空成膜法によって同時に蒸着する共蒸着法により、基材上に第１酸化物及び第２酸化物から構成された酸化物薄膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a vapor-deposition film with which the vapor-deposition thin film is formed as at least one side surface of a film base material composed of high polymer, especially, even in the case of spattering splash particles of a material for forming vapor-deposition thin film with splash, the vapor-deposition film can be obtained without developing pin hole.例文帳に追加

本発明は、高分子材料からなるフィルム基材の少なくとも一方の面に蒸着薄膜を設けてなる蒸着フィルムの製造方法、特にスプラッシュにより蒸着薄膜形成用材料のスプラッシュ粒子が飛散してもピンホールの発生なく蒸着フィルムが得られるようにした蒸着フィルムの製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a coating agent for a vapor deposition layer forming a coating excellent in close adhesion to a transparent vapor deposition layer comprising silicon oxide, etc., and in close adhesion of a printing ink, good in rupture property when opening a bag comprising a laminate film of a vapor deposition film coated with the coating film and other plastic film, and not deteriorating the gas barrier of the transparent vapor deposition film.例文帳に追加

酸化ケイ素等からなる透明蒸着層に対する密着性と印刷インキの密着性が優れた被膜が形成され、該被膜を形成した蒸着フィルムと他のプラスチックフィルムとの積層体フィルムからなる袋を開封する時、引裂性が良く、また、透明蒸着フィルムのガスバリアーが劣化しない蒸着層用のコーティング剤の提供。 - 特許庁

The duplex zone showerhead is constituted of a first shower zone which accommodates a vapor deposition source material supplied through a line into which the vapor deposition source material flows and injecting the vapor deposition source material into a reaction chamber through a vapor deposition source material injection nozzle and a second shower zone for injecting into the reaction chamber through a chemical injection nozzle.例文帳に追加

本発明に係るデュプレックスゾーンシャワーヘッドは、蒸着ソース材料流入ラインを介して蒸着ソース材料の供給を受けてこれを収容し、蒸着ソース材料噴射ノズルを介して反応チャンバに噴射する第１シャワーゾーンと、ケミカル噴射ノズルを介して反応チャンバに噴射する第２シャワーゾーンとから構成されることを特徴とする。 - 特許庁

The metal vapor deposition film 3 of the metallized film 1 is partitioned into unit metal vapor deposition electrodes by margins 5 and 6 without the vapor deposition metal, the fuse 7 is formed between the margins 6 and 6 of at least one side of the unit metal vapor deposition electrodes, and the narrowest part 8 of the fuse 7 is biased to the metalicon electrode side in the width direction of the margins 6 and 6.例文帳に追加

金属化フィルム１の金属蒸着膜３を蒸着金属のないマージン部５、６により単位金属蒸着電極に区分けし、かつ単位金属蒸着電極の少なくとも一辺のマージン部６、６間にヒューズ部７を形成すると共に、ヒューズ部７の最狭部８をマージン部６、６の幅方向でメタリコン電極側に偏らせた。 - 特許庁

During the vapor deposition of a photoconductive layer for recording which is relatively thick as large as 100-2,000 μm in thickness, by making the temperature of the substrate higher than a temperature during normal vapor deposition in the first half part of the vapor deposition time during which the influence of the bumping strongly appears, the surface of the vapor deposition layer is smoothed while preventing the crystallization of the amorphous selenium.例文帳に追加

膜の厚さが１００μｍ以上、２０００μｍ以下と比較的厚い記録用光導電層の蒸着時において、突沸の影響が大きく表れる蒸着時間の前半部で基板の温度を通常蒸着時温度よりも上昇させることにより、アモルファスセレンの結晶化を防止しつつ蒸着層の表面をなだらかにさせる。 - 特許庁

This invention relates to the vapor deposition source for vapor-depositing a film deposition material, and it includes a container having an aperture, a film deposition material storage unit for storing the film deposition material arranged in the container, and a heatable porous material part which is arranged between the film deposition material storage unit and the aperture of the vapor deposition source.例文帳に追加

成膜材料を蒸着させるための蒸着源であって、開口部を有する容器と、該容器内に配置された前記成膜材料を収容する成膜材料収容部と、前記成膜材料収容部と前記蒸着源の開口部との間に配置される、加熱可能な多孔質材部とを備えることを特徴とする蒸着源が提供される。 - 特許庁

This production apparatus employs a mask having a small opening which directs a desired vapor deposition region, and precisely moves the mask to vapor-deposit the material onto the all desired vapor deposition regions.例文帳に追加

本発明は、所望の蒸着領域に対して小さい開口を有するマスクを用い、該マスクを精密に移動させることによって、所望の蒸着領域全体に蒸着を行うことを特徴の一つとしている。 - 特許庁

On the surface of the protective glass plate 4b, a vapor deposition film 7 is formed by alternately vapor-depositing silicon dioxide and titanium dioxide, and the optical filter is formed to transmit only the visible rays by this vapor deposition film 7.例文帳に追加

保護用ガラス板４ｂの表面には、酸化ケイ素と酸化チタンを交互に蒸着して形成された蒸着膜７を有し、この蒸着膜７によって可視光のみを透過する光学フィルタが形成される。 - 特許庁