「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

The performance of the MMO1 catalyst is improved by a Te-submonolayer deposition onto its surface by vapor deposition.例文帳に追加

ＭＭＯ１触媒の性能は、蒸着によるその表面上へのＴｅのサブモノレイヤー堆積によって改善される。 - 特許庁

Consequently, no shadow of the columnar spacer 120 is formed on the surface of the substrate 101 in a vapor-deposition direction in a process of forming the alignment layer by the oblique vapor deposition and proper vapor deposition is performed over the entire surface of the substrate.例文帳に追加

このようにすれば、配向膜を斜方蒸着により形成する工程において、蒸着方向に対して基板１０１の表面に柱状スペーサー１２０の影が生じることがなく、基板全面に適切に蒸着が行われる。 - 特許庁

The vapor deposition method comprises forming a thin film of a vapor deposition material on a substrate arranged to face the opening of a nozzle by supplying the evaporated vapor deposition material to the nozzle and holding the material in the nozzle by a temperature fall.例文帳に追加

蒸着方法は、気化した蒸着材料をノズルに供給し、温度低下によりノズルに保持せしめ、蒸着材料をノズルの加熱により気化して、ノズルの開口に対向配置した基板に蒸着材料の薄膜を形成する。 - 特許庁

The poly-crystal magnesium oxide powders, whose specific surface areas are within 3 to 5 m^2/g in a BET method, are used for the material of the vapor deposition, thereby enhancing the production efficiency of the compact for the vapor deposition and preventing splash during the vapor deposition.例文帳に追加

ＢＥＴ法による比表面積が３〜５ｍ^２／ｇの範囲にある多結晶酸化マグネシウム粉末を蒸着材の材料とすることにより、蒸着材成型物の生産効率の向上と蒸着時のスプラッシュ防止を図る。 - 特許庁

A lengthy rectangular evaporation source holder 17 having a plurality of containers in which a vapor deposition material is enclosed is arranged in a vapor deposition chamber, and vapor deposition is carried out while moving the evaporation source holder to a substrate 13 at a certain pitch.例文帳に追加

本発明は、蒸着室内において、蒸着材料が封入された容器を複数個設置した細長い矩形形状の蒸着源ホルダ１７に設け、基板１３に対してあるピッチで移動しながら蒸着を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a film in which a metal vapor deposition layer with a layer for protecting the metal vapor deposition layer from oxidation formed on the surface is laminated and a metal vapor deposition film having the oxidation preventing layer by the method.例文帳に追加

金属蒸着層を酸化から守るための層をその表面にさらに設けた酸化防止層を備えた金属蒸着層を積層したフィルムの製造方法及び該方法による酸化防止層を備えた金属蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

The alignment layer is a single layer of an amorphous fluorocarbon film, and formed by using hydrocarbon gas, hydrogen gas, fluorocarbon hydrogen gas, or a mixture of them and performing oblique vapor-deposition on the substrates by a plasma enhanced chemical vapor-deposition or sputtering vapor-deposition.例文帳に追加

配向膜はアモルファスフッ化炭素膜の単一層で、炭化水素ガス、水素ガス、フッ化炭化水素ガス、或いはこれらの混合体を用い、プラズマエンハンスト化学蒸着法又はスパッタ蒸着法により、基板に斜め蒸着することによって作成する。 - 特許庁

There is included a vapor deposition process, in which a plurality of luminescent layers 30 composed of an organic material are formed on a circuit board 10 having a plurality of pixel electrodes 24 by means of vapor deposition using a vapor deposition mask 38 having a plurality of through holes 40.例文帳に追加

複数の画素電極２４を有する回路基板１０に、複数の貫通穴４０を有する蒸着マスク３８を使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層３０を形成する蒸着工程を含む。 - 特許庁

To provide a propylene polymer laminated film for vapor deposition improved in low temperature heat sealability and blocking properties without obstructing the adhesion and wetting properties with an inorganic compound vapor deposition film, and a propylene polymer vapor deposition laminated film.例文帳に追加

無機化合物蒸着膜との密着性、濡れ性が阻害されずに、低温ヒートシール性、ブロッキング性が改良された蒸着用プロピレン系重合体積層フィルム及びプロピレン系重合体蒸着積層フィルムを得ることを目的とする。 - 特許庁

Thus, during the vapor deposition, the downward deflection caused by the gravity of the vapor deposition mask 10 is absorbed by the thermal deformation of the support substrate 30 (the laminated substrate 30C), preventing the center portion of the vapor deposition mask 10 from being downwardly deflected due to gravity.例文帳に追加

それ故、蒸着時、蒸着マスク１０の自重による下方への撓みは、支持基板３０（積層基板３０Ｃ）の熱変形により吸収され、蒸着マスク１０の中央部分が自重により下方に撓むことを防止することができる。 - 特許庁

The thin film vapor deposition apparatus includes a substrate transfer unit configured to transfer a substrate 10 that is a vapor deposition object; the mask unit 200 configured to selectively pass vapor of a vapor deposition source toward the substrate; and the crucible unit 100 including a plurality of crucibles 110 storing the vapor deposition source and advancing along a circulation path extending through the mask unit.例文帳に追加

蒸着対象体である基板１０を移送するように備わった基板移送ユニットと、基板に向けて蒸着源の蒸気を選択的に通過させるように備わったマスク・ユニット２００と、蒸着源を収容し、マスク・ユニットを貫通する循環経路に沿って進む複数のクルーシブル１１０を含むクルーシブル・ユニット１００と、を具備する薄膜蒸着装置である。 - 特許庁

The vapor deposition system 1 for thin film formation comprises: an evaporation source 20 of heating and evaporating a vapor deposition material; a feed tube 30 of transferring the vapor deposition material of a vapor phase fed from the evaporation source; an opening/closing means of opening/closing the feed tube; and an jetting means connected to the feed tube and jetting the vapor deposition material toward a substrate.例文帳に追加

本発明による薄膜形成用蒸着装置は、蒸着材料を加熱して蒸発させる蒸発源と、前記蒸発源から供給された気相の蒸着材料を移送する送り管と、前記送り管を開閉する開閉手段と、前記送り管に連結され、前記蒸着材料を基板に向けて噴射する噴射手段とを含んでなる。 - 特許庁

A via hole is made in a ceramic substrate, and then a metal thin film is formed on the hole wall of the via hole by physical vapor deposition method or chemical vapor deposition method.例文帳に追加

セラミック基板にバイアホールを形成した後、バイアホールのホール壁上に物理気相堆積法あるいは化学気相堆積法により金属薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a device for vapor deposition of the metal oxide film on a substrate surface.例文帳に追加

基材表面に金属酸化物膜を蒸着せしめる装置を提供する。 - 特許庁

To realize continuous and efficient vapor deposition which forms a film with predetermined thickness onto a sample in a short time, without sharpening a tip of a carbon rod into a conical shape in every vapor deposition.例文帳に追加

蒸着の都度、カーボン棒先端形状を円錐状に削ることなく、連続的に効率良く短時間で試料に所定膜厚を蒸着できるようにする。 - 特許庁

A pair of second masks 25 for carrying out a restriction vapor deposition against all base plates or shielding a vapor deposition angle exceeding an incident angle (β_max) also rotate together with the main carrier 2.例文帳に追加

すべての基板に対して限定蒸着または入射角（β_max）を超える蒸着角を遮蔽する１組の第２マスク２５も主キャリヤ２と共転する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DEPOSITING OXIDE COMPOUND THIN FILM BY LASER ASSISTED VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

レーザ蒸着法による酸化物化合物薄膜の生成法および生成装置 - 特許庁

To provide a coaxial vacuum arc vapor deposition source capable of stabilizing the trigger discharge and suppressing occurrence of any trouble of the arc discharge, and a vapor deposition apparatus using the same.例文帳に追加

トリガ放電を安定化させ、アーク放電の不具合の発生を抑制可能な同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置を提供する。 - 特許庁

SUBSTRATE FOR FORMING OXIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM BY VAPOR DEPOSITION METHOD, AND METHOD FOR FORMING THE FILM例文帳に追加

気相法による酸化物半導体薄膜成膜用基板及び成膜方法 - 特許庁

To provide a highly reliable metallized film capacitor by providing a wire rod for vapor deposition that can suppress the generation of splash upon vapor deposition.例文帳に追加

蒸着時のスプラッシュの発生を抑制することが可能な蒸着用線材を提供することで信頼性の高い金属化フィルムコンデンサを提供することを目的とする。 - 特許庁

The damp-proofing laminate has a vapor deposition film 1 of at least two layers, and at least one moisture absorption layer 2 is held between the layers of the vapor deposition film 1 in the laminate.例文帳に追加

少なくとも２層の蒸着フィルム１を有し、蒸着フィルム１の層間に少なくとも１層の吸湿層２が挟持されてなる防湿性積層体である。 - 特許庁

To continuously execute mask vapor deposition of a metal layer while performing patterning to a roll-like substrate.例文帳に追加

ロール状の基板にパターニングしながら金属層を継続してマスク蒸着する。 - 特許庁

MANUFACTURE OF METAL WIRING OF INTEGRATED CIRCUIT, UTILIZING ALUMINUM CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

アルミニウム化学気相蒸着を利用した集積回路の金属配線製造方法 - 特許庁

Also, the vapor deposition is performed by fixing the substrate 124 and the mask frame 122 and moving a vapor deposition source in an X direction or Y direction.例文帳に追加

また、本発明において、基板１２４とマスク本体１２２は固定し、蒸着源をＸ方向またはＹ方向に移動させることによって蒸着を行うものとする。 - 特許庁

ALD THIN FILM VAPOR DEPOSITION APPARATUS PROVIDED WITH CLEANING APPARATUS AND CLEANING METHOD THEREOF例文帳に追加

クリーニング装置を備えたＡＬＤ薄膜蒸着装置及びそのクリーニング方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCTION OF ZnO VAPOR DEPOSITION MATERIAL, AND ZnO FILM OBTAINED BY THE METHOD例文帳に追加

ＺｎＯ蒸着材の製造方法及びこの方法で得られたＺｎＯ膜 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition by which an exact vapor deposition pattern can be formed and a structure less likely to generate bending by its own weight can be obtained.例文帳に追加

正確な蒸着パターンを形成することができ、しかも自重によって撓みが発生しづらい構造を得ることが可能な蒸着用マスクを提供すること。 - 特許庁

That is to say, the heat from a heater 4 is transferred through the inner cap 3 to the central part of the vapor deposition material 5, and the local lowering of the temperature of the vapor deposition material 5 is prevented.例文帳に追加

すなわち、中蓋３を介してヒーター４からの熱を蒸着材料５の中央部へ伝達し、蒸着材料５の局部的な降温を防ぐ。 - 特許庁

The odd-shaped pattern is formed by embossing the vapor deposition layer with a pattern original plate 4.例文帳に追加

模様原版４で蒸着層に型押しを施し、凹凸模様を形成する。 - 特許庁

COPPER RAW MATERIAL FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM USING THE SAME例文帳に追加

化学気相成長用銅原料及びこれを用いた薄膜の製造方法 - 特許庁

The vapor deposition apparatus 1 comprises a substrate-holding means (13), and a vapor deposition source (20) which is placed so as to face the substrate-holding means (13) and produces an evaporated raw material.例文帳に追加

基体保持手段（１３）と、基体保持手段（１３）に対向して設けられて原料蒸発物を発生させる蒸着源（２０）と、を備える蒸着装置１である。 - 特許庁

Further, the aluminum alloy and alloy material are suitable as the material for a CVD (chemical vapor deposition) system, a PVD (physical vapor deposition) system, an LCD (liquid crystal device) production system, and a semiconductor production system.例文帳に追加

また、前記アルミニウム合金および合金材は、ＣＶＤ装置用、ＰＶＤ装置用、ＬＣＤ製造装置用、半導体製造装置用の材料に適している。 - 特許庁

Vapor deposition may be made from the lateral direction by holding the substrate 15 vertically.例文帳に追加

基板１５を鉛直に保持し、横方向から蒸着させるようにしてもよい。 - 特許庁

To provide a double-side vapor-deposition polypropylene film developing less blocking in a handling step such as storage or a vapor-deposition process, and a capasitor comprising the film.例文帳に追加

保管などの取り扱い過程や蒸着加工工程でのブロッキングの発生が少ない両面蒸着用ポリプロピレンフィルム及びそれを用いてなるコンデンサを提供する。 - 特許庁

To provide a coaxial arc vapor deposition source capable of maintaining optimum discharge condition.例文帳に追加

最適な放電条件を維持できる同軸型アーク蒸着源を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus which is a vacuum vapor deposition apparatus suitable for manufacturing an organic EL device and deposits a film comprising a plurality of layers by a single apparatus.例文帳に追加

有機ＥＬ装置の製造に適した真空蒸着装置であり、一台の蒸着装置で複数層の膜を成膜することが可能な蒸着装置を提供する。 - 特許庁

Additionally, a barrier layer 15, which is composed of at least any one of MX nylon, a vapor deposition film of a metal oxide, a vapor deposition film of a metal, and aluminum foil, is appropriately used.例文帳に追加

また、ＭＸナイロン、金属酸化物の蒸着フィルム、金属の蒸着フィルム又はアルミニウム箔の少なくともいずれか一からなるバリア層１５が好適に用いられる。 - 特許庁

The raw material for chemical vapor deposition contains tri-isocyanate silane (HSi(NCO)_3).例文帳に追加

トリイソシアネートシラン（ＨＳｉ（ＮＣＯ）_3）を含有してなる化学気相成長用原料。 - 特許庁

PRECURSORY SUBSTANCE BLEND OF ORGANIC COPPER AND METHOD FOR DEPOSITING COPPER BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

有機銅の先駆物質ブレンド及び化学気相堆積による銅の堆積方法 - 特許庁

The SiN film which is thus formed by the catalyst chemical vapor deposition method has lower moisture absorptivity than an SiN film which is formed by plasma chemical vapor deposition like before.例文帳に追加

このように触媒化学気相成長で形成したＳｉＮ膜は、従来のようにプラズマ化学気相成長で形成したＳｉＮ膜に比べて吸湿性が低い。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING CARBON NANOTUBE AND PLASMA CVD(CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) APPARATUS FOR IMPLEMENTING THE METHOD例文帳に追加

カーボンナノチューブの作製方法及びその方法を実施するプラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

METAL-ORGANIC VAPORIZING AND FEEDING APPARATUS, METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, GAS FLOW RATE REGULATOR, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

有機金属気化供給装置、有機金属気相成長装置、有機金属気相成長方法、ガス流量調節器、半導体製造装置、および半導体製造方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR OBLIQUE VAPOR DEPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID CRYSTAL APPARATUS例文帳に追加

斜方蒸着装置、斜方蒸着方法及び液晶装置の製造方法 - 特許庁

THERMOCHEMICAL VAPOR PHASE DEPOSITION SYSTEM AND METHOD FOR SYNTHESIZING CARBON NANOTUBE USING THE SAME例文帳に追加

熱化学気相蒸着装置及びこれを用いた炭素ナノチューブの合成方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR GROWING EPITAXIAL LAYER ON WAFER BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

化学蒸着によりウェハ上にエピタキシャル層を成長させる装置および方法 - 特許庁