「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

Compositions containing an amido-group-containing vapor deposition precursor and a stabilizing additive are provided.例文帳に追加

アミド基含有蒸着前駆体及び安定化添加剤を含有する組成物が提供される。 - 特許庁

To effectively utilize the surface area of a wafer susceptor in a metal-organic chemical vapor deposition apparatus.例文帳に追加

有機金属化学気相堆積装置のウエハサセプタの表面の面積を有効に利用する。 - 特許庁

The reticulated material includes a ceramic, a metal material and a chemical vapor deposition element.例文帳に追加

そのような網状材料にはセラミック、金属材料および化学的蒸着要素が含まれ得る。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING FINE-PARTICLE FILM USING COAXIAL TYPE VACUUM-ARC VAPOR DEPOSITION SOURCE例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸着源を用いた微粒子膜の製造方法及び製造装置 - 特許庁

METHOD FOR FORMING METAL LAYER UTILIZING ATOMIC LAYER VAPOR DEPOSITION, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

原子層蒸着法を利用した金属層形成方法およびこれを用いた半導体素子 - 特許庁

The formulas 1 and 2 are similarly applicable in the case of using diagonal exposure in place of the diagonal vapor deposition.例文帳に追加

数式１，２は、斜め蒸着に代わり、斜め露光を用いる場合にも同様に適用できる。 - 特許庁

The boron-doped diamond thin film having superconductivity is deposited by chemical vapor deposition.例文帳に追加

化学気相成長法により形成された超電導性を有するホウ素ドープダイヤモンド薄膜。 - 特許庁

A Pt layer is formed on silicon layers 26 (gate) and 29 (source/drain) by a CVD (Chemical Vapor deposition) method.例文帳に追加

ＣＶＤ法を用いて、シリコン層２６（ゲート），２９（ソース・ドレイン）上にＰｔ層を形成する。 - 特許庁

RETAINING METHOD AND JIG OF METAL MASK FOR VACUUM VAPOR DEPOSITION USED FOR ORGANIC EL ELEMENT MANUFACTURING例文帳に追加

有機ＥＬ素子製造に用いる真空蒸着用金属マスクの保持方法及び治具 - 特許庁

Vapor deposition of the nanotube is performed by using a capillary of a range not more than a micrometer or a nanometer.例文帳に追加

ナノチューブの蒸着は、マイクロメータ以下又はナノメータの範囲の毛管を使用して行われる。 - 特許庁

To configure a physical vapor deposition target assembly to isolate a target-bonding layer from a processing region.例文帳に追加

物理蒸着ターゲットアセンブリを、ターゲットボンディング層が処理領域から分離するように構成する。 - 特許庁

After vapor deposition, an annealing step is performed to improve the thin film structure and photoelectron characteristics.例文帳に追加

蒸着後、薄膜構造と光電子特性を向上させるため、アニール工程が行われる。 - 特許庁

This film of the amorphous carbon is formed by physical vapor deposition in which graphite is made as a raw material.例文帳に追加

この非晶質カーボン膜は、グラファイトを原料とする物理的蒸着法により形成する。 - 特許庁

The amorphous ferromagnetic alloy can be deposited by a vapor deposition method or sputtering, for example.例文帳に追加

アモルファス強磁性合金は、例えば蒸着法或いはスパッタリング法を用いて形成可能である。 - 特許庁

Next, an aluminium film 8 is formed on the resist film 11 through electron beam vapor deposition.例文帳に追加

ついで、電子ビーム蒸着法により、レジスト膜１１の上からアルミニウム膜８を成膜する。 - 特許庁

To provide an ion-assisted vapor deposition apparatus 1 capable of minimizing the exhaust time.例文帳に追加

排気時間を最大限に短縮することが可能なイオンアシスト蒸着装置１を提供する。 - 特許庁

The carbon rod is made red-hot by the energizing, and carbon is evaporated, thus vapor deposition is performed.例文帳に追加

通電によりカーボン棒が赤熱し、カーボンが蒸発することにより蒸着が行なわれる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ZnO-BASED TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM BY USING MOCVD (ORGANO-METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) PROCESS例文帳に追加

ＭＯＣＶＤ（有機金属化学蒸着）法によるＺｎＯ系透明導電膜の製造方法 - 特許庁

To reduce heat radiation from a heating element 4 to a substrate 9 in a chemical vapor deposition apparatus.例文帳に追加

化学蒸着装置における発熱体４から基板９への熱輻射を低減させる。 - 特許庁

IN-SITU CHAMBER CLEANING PROCESS FOR REMOVING DEPOSIT OF BY-PRODUCT FROM CHEMICAL VAPOR DEPOSITION ETCHING CHAMBER例文帳に追加

化学蒸着エッチングチャンバから副生成物の堆積物を除去するインサイチュチャンバ洗浄プロセス - 特許庁

A PVD (physical vapor deposition) coating film of DLC (diamond-like carbon) or CrN is preferably formed between the peripheral grooves and the port.例文帳に追加

周溝とポート間に、ＤＬＣ又はＣｒＮのＰＶＤ被膜を形成するのがよい。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING COPPER WIRING THIN FILM BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS, AND RAW MATERIAL SOLUTION USED IN THE SAME例文帳に追加

化学気相成長法による銅配線薄膜の製造方法およびその原料溶液 - 特許庁

The vessel for metal vapor deposition consists of the electrically conductive ceramics.例文帳に追加

上記導電性セラミックスから構成されてなることを特徴とする金属蒸着用容器。 - 特許庁

Alternatively, the silicon oxide layer 102 can be deposited by CVD (Chemical Vapor Deposition).例文帳に追加

また、ＣＶＤ（科学的気相成長法）により、酸化シリコン層１０２のが形成可能である。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR FORMING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加

化学気相成長半導体膜形成装置および化学気相成長半導体膜形成方法 - 特許庁

The vapor deposition mask 10 has a constitution that a plurality of chips 20 are mounted on a support substrate 30.例文帳に追加

蒸着マスク１０は、支持基板３０に複数のチップ２０を取り付けた構成を有している。 - 特許庁

Furthermore, the vapor deposition holder 903 is transferred from an installation room 905 by a transfer mechanism 902b.例文帳に追加

また、蒸着ホルダ９０３には搬送機構９０２ｂにより設置室９０５から搬送する。 - 特許庁

The chemical vapor deposition apparatus is comprised of a CVD raw material vessel, a vaporizer and a reactor 11.例文帳に追加

化学気相成長装置は、ＣＶＤ原料容器、気化器、反応器１１を備えている。 - 特許庁

Lower film of aluminum vapor deposition film forming is applied to the fluorescent faces by a film application device 33.例文帳に追加

フィルム塗布装置33で蛍光面上にアルミニウム蒸着膜形成の下地フィルムを塗布する。 - 特許庁

ORGANOCOPPER COMPOUND FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND COPPER THIN FILM PREPARED BY USING THE SAME例文帳に追加

有機金属化学蒸着法用有機銅化合物及びそれを用いて作製した銅薄膜 - 特許庁

MASK FIXTURE FOR UNDER COAT AND FOR VAPOR DEPOSITION AND METHOD FOR DEPOSITING ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM USING THE SAME例文帳に追加

アンダコート用および蒸着用マスク治具と、これを用いた電磁波シールド膜の成膜方法 - 特許庁

In an alternative method of producing this thermal barrier coating, electron beam physical vapor deposition process is used.例文帳に追加

この遮熱コーティングを製造する別の方法では電子ビーム物理蒸着を使用する。 - 特許庁

To shorten a working hour for cleaning a vapor deposition chamber, and to show a sufficient cleaning effect.例文帳に追加

蒸着室のクリーニングのための作業時間を短縮でき、十分なクリーニング効果が得られる。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD OF DIAGNOSING RESIDUAL QUANTITY OF PRECURSOR IN CONTAINER DURING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

化学蒸着工程時、容器内の前駆体残存量の診断装置及び診断方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SILICON NITRIDE FILM OR SILICON OXYNITRIDE FILM BY THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

熱化学気相成長法によるシリコン窒化物膜またはシリコンオキシ窒化物膜の製造方法 - 特許庁

A zinc oxide film (f) is deposited on a base material W by a spin coat process, plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) or the like.例文帳に追加

基材Ｗに酸化亜鉛膜ｆをスピンコート法やプラズマＣＶＤ等で成膜する。 - 特許庁

At this time, vapor-phase growth such as vacuum deposition, sputtering, laser ablation, and ion plating is used.例文帳に追加

このとき、真空蒸着，スパッタリング，レーザーアブレーション，イオンプレーティング等の気相成長法を用いる。 - 特許庁

The first and second vapor deposition metals are solidified on the sacrificial layer 14 so as to form multilayer foil.例文帳に追加

第一及び第二の蒸着金属は、多層箔を形成する様に仮層14上で固化する。 - 特許庁

This silicon carbide layer is formed on a dielectric layer by vapor deposition including trimethylsilane.例文帳に追加

この炭化ケイ素層は、トリメチルシランを含む蒸着処理を用いて、誘電体層上に形成される。 - 特許庁

In some cases, the vapor deposition mask has the electrostatic chuck function to enhance the adhesivity.例文帳に追加

そして、場合によっては、蒸着マスクに静電チャック機能を有させて密着性を高める。 - 特許庁

The metal fine particles 3 are deposited on the fullerene polymer film 2 by sputtering, vapor deposition or coating.例文帳に追加

この金属微粒子３はスパッタ、蒸着又は塗布によりフラーレン重合体膜２に担持させる。 - 特許庁

NANOPARTICLE SUPPORT DEVICE EQUIPPED WITH SOURCE OF COAXIAL TYPE VACUUM ARC VAPOR DEPOSITION AND SUPPORTING METHOD OF NANOPARTICLE例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸着源を備えたナノ粒子担持装置およびナノ粒子坦持方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SOLID THIN FILM CONTAINING SILICON ACCORDING TO ATOMIC LAYER VAPOR DEPOSITION USING TRIS DIMETHYL AMINOSILANE例文帳に追加

トリスジメチルアミノシランを用いた原子層蒸着によるシリコン含有固体薄膜の製造方法 - 特許庁

Therein, the antireflection layer 12 can be formed according to a CVD method (chemical vapor deposition method).例文帳に追加

なお、反射防止層１２は、ＣＶＤ法（化学気相成長法）により形成することができる。 - 特許庁