「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

The gas barrier laminated film is formed by laminating a silicon compound vapor deposition film on one surface of a base material made of a plastic film, further a primer layer is provided on the silicon compound vapor deposition film and the silicon compound vapor deposition film has specific composition.例文帳に追加

プラスチックフィルムからなる基材の一方の面に、ケイ素化合物蒸着膜を積層したガスバリア性積層フィルムであって、ケイ素化合物蒸着膜の上にさらにプライマー層を設け、且つ、ケイ素化合物蒸着膜が特定の組成を有することを特徴とするガスバリア性積層フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a vapor-phase deposition apparatus capable of uniformizing the surface temperature of a substrate as compared with the conventional art when performing the film deposition by using the vapor-phase deposition method for the substrate as an object to be treated held by a holding member, and to provide a vapor-phase growth method.例文帳に追加

保持部材に保持される処理対象物としての基板に対して気相成長法を用いて成膜処理を行なうときに、基板の表面温度を従来よりも均一化することが可能な気相成長装置および気相成長方法を提供する。 - 特許庁

Further in the substrate with the antireflection film, an infrared antireflection film deposited on the substrate is provided with a surface antireflection film obtained by vapor-deposition while heating the substrate and a rear surface antireflection film obtained by vapor-deposition at a temperature 25 to 60°C lower than the temperature at which vapor-deposition onto the substrate is performed.例文帳に追加

また、反射防止膜付き基板は、基板に形成された赤外反射防止膜において、基板を加熱して蒸着した表面反射防止膜と、表面を蒸着した温度よりも25〜60℃低い温度で蒸着した裏面反射防止膜と、を備えるものである。 - 特許庁

This laminated vapor deposition film is obtained by applying the layer comprising an aqueous dispersion of an ethylene/unsaturated carboxylic acid copolymer using an amine as a dispersing solvent on the vapor deposition layer of a plastic film wherein the ceramic vapor deposition layer is provided on a base material through a gas barrier protective layer or without interposing the gas barrier protective layer.例文帳に追加

基材上にシリカやアルミナなどのセラミックの蒸着層を有するプラスチックフィルムの蒸着層面に、ガスバリア性保護層を介しまたは介することなくアミンを分散媒とするエチレン・不飽和カルボン酸共重合体の水性分散体をコーティングする。 - 特許庁

While moving a vapor-deposition source 20 relatively to a substrate 1 in the X direction in a process of forming the organic light-emitting element having the organic compound layer by a vapor-deposition method, an organic compound evaporated from the vapor-deposition source 20 is made to be coated on and adhered to the substrate 1 via a shadow mask 10.例文帳に追加

有機化合物層を有する有機発光素子を蒸着法により形成する工程で、蒸着源２０を基板１と相対的にＸ方向に移動させつつ、蒸着源２０からの蒸発する有機化合物をシャドウマスク１０を介して基板１に被着させる。 - 特許庁

Especially, if the coating layer of the paper layer is surface-treated, an undercoat layer is provided between the coating layer and the aluminum vapor deposition layer, and a topcoat layer is provided on the aluminum vapor deposition layer, this paper packaging material shows metal gloss or the like equal to that of a packaging material manufactured using a conventional aluminum vapor deposition film.例文帳に追加

特に、該紙層の被覆層を表面処理し、被覆層とアルミニウム蒸着層の間にアンダーコート層を、アルミニウム蒸着層の上にトップコート層を設けた構成にすると、従来のアルミニウム蒸着フィルムを用いて製造した包装材と同等の金属光沢等を示す。 - 特許庁

To provide an oxide sintered compact which does not brake or crack even when struck by electron beams in a large dose to be produced into an oxide transparent electroconductive film by a vacuum vapor deposition method such as an electron beam vapor deposition method, an ion plating method, or a high-density plasma-assisted vapor deposition method.例文帳に追加

電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、高密度プラズマアシスト蒸着法などの真空蒸着法で酸化物透明導電膜を製造する際に、大量の電子ビームを投入しても、割れやクラックが発生することのない酸化物焼結体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a vapor-deposition carbon fiber having small diameter with a simple apparatus in high efficiency and enabling easy recovery of the formed vapor-deposition carbon fiber and provide a vapor-deposition carbon fiber having small diameter and excellent electrical conductivity.例文帳に追加

簡単な設備を用いて微小直径を有する気相成長炭素繊維を効率よく製造でき、生成した気相成長炭素繊維を容易に回収できる気相成長炭素繊維の製造方法及び微小直径を有し導電性に優れた気相成長炭素繊維を提供すること。 - 特許庁

To provide a source gas feeding device where, upon thin film deposition by a chemical vapor deposition process, the flow rate of a source gas can be regulated.例文帳に追加

化学蒸着法による薄膜蒸着時に、ソースガスの流量を調節することができるソースガス供給装置を提供する。 - 特許庁

The respective vapor deposition sources 110 successively evaporate ≥95% of the packed materials per group in the film deposition of the respective layers.例文帳に追加

各蒸着源１１０は、充填された材料の９５％以上を、各層の成膜においてグループ毎に順次蒸発させる。 - 特許庁

To suppress the charging trouble of a film base material upon electron beam vapor deposition as much as possible, and to perform stable film deposition free from damage.例文帳に追加

電子ビーム蒸着を行うときにフィルム基材の帯電障害を極力抑え、損傷のない安定した成膜を行う。 - 特許庁

To provide a cleaning method for removing any vapor deposition material adhered to components inside a film deposition chamber without releas ing it into the atmosphere.例文帳に追加

成膜室内の部品に付着した蒸着材料を大気解放することなく除去するためのクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet wherein an adhesion defect between a metal vapor deposition layer and an adhesive agent layer generated when the adhesive agent layer is formed on the metal vapor deposited surface of a metal vapor deposition film by a transfer method is improved.例文帳に追加

金属蒸着フィルムの金属蒸着を施した面に、転写法により粘着剤層を形成する際に生じる金属蒸着層と粘着剤層との密着不良が改善された粘着シートを提供する。 - 特許庁

The vacuum vapor deposition apparatus (vapor deposition apparatus) 1 has a vacuum chamber 2 in which a substrate holding wall 3, four evaporation devices 5a, 5b, 5c and 5d, a vapor chamber 6, and four crucible installation chambers (evaporation device installation sections) 12a, 12b, 12c and 12d are incorporated.例文帳に追加

真空蒸着装置（蒸着装置）１は真空室２を有し、真空室２内に、基板保持壁３と、４台の蒸発装置５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄと蒸気チャンバー６及び４個の坩堝設置室（蒸発装置設置部）１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄを内蔵している。 - 特許庁

A thin film is deposition on a substrate by using an evaporation source provided with a vapor deposition cell having a longitudinal direction or a plurality of vapor deposition cells and moving the evaporation source in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the evaporation cell.例文帳に追加

長手方向を有する蒸着セルもしくは複数個の蒸着セルを設けた蒸着源を用い、この蒸着源を蒸着源の長手方向と垂直な方向に移動させることで基板上に薄膜を成膜する。 - 特許庁

The film deposition apparatus 10 includes a processing chamber 12 for housing a substrate S, a stage 14 for holding the substrate S, and a vapor deposition head 18c having a plurality of nozzles 16c for blowing gas G containing a vapor deposition material onto the substrate S.例文帳に追加

成膜装置１０は、基板Ｓを収容する処理チャンバ１２と、基板Ｓを保持するステージ１４と、蒸着材料を含むガスＧを基板Ｓに噴き付ける複数のノズル１６ｃを有する蒸着ヘッド１８ｃとを備える。 - 特許庁

In the vapor deposition method in which a vapor deposition material stored in a hearth is heated to evaporate and a thin film is deposited on a substrate, the hearth is formed of a hearth constituting material having a melting point higher than that of the vapor deposition material, and metal elements contained in the hearth constituting material are the same as at least part of metal elements contained in the vapor deposition material.例文帳に追加

ハースに収容された蒸着材料を加熱により蒸発させ、基板上に薄膜を形成させる蒸着方法において、前記ハースが、前記蒸着材料より高い融点を有するハース構成材料からなるハースであって、そのハース構成材料に含まれる金属元素が、前記蒸着材料に含まれている金属元素の少なくとも一部と同一である。 - 特許庁

The method for producing a thin film is characterized by using a sublimable vapor deposition material composed of a first oxide and a sublimable vapor deposition material composed of a second oxide different from the first oxide, and then forming an oxide thin film constituted of the first oxide and the second oxide on a substrate by a co-vapor deposition method comprising simultaneously vapor depositing the oxides by a vacuum film deposition process.例文帳に追加

本発明の薄膜の製造方法は、第１酸化物からなる昇華性蒸着材とこの第１酸化物とは異なる種類の第２酸化物からなる昇華性蒸着材を用い、真空成膜法によって同時に蒸着する共蒸着法により、基材上に第１酸化物及び第２酸化物から構成された酸化物薄膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus is an apparatus for conducting vapor deposition in a decompressed atmosphere, and comprises an insulative crucible 10 for accommodating an vapor deposition material therein; a high-frequency dielectric heating means 20 for vaporizing the vapor deposition material accommodated in the crucible 10; and a position control means 30 for changing a relative position between the crucible 10 and the high-frequency dielectric heating means 20.例文帳に追加

本発明の蒸着装置は、減圧雰囲気で蒸着を行うための蒸着装置であって、蒸着材料を収容する絶縁性の坩堝１０と、坩堝１０に収容された蒸着材料を蒸発させる高周波誘電加熱手段２０と、坩堝１０と高周波誘電加熱手段２０との相対位置を変化させる位置制御手段３０と、を備えている。 - 特許庁

The vapor deposition source consisting of alloyed AuSn is prepared, an Sn-rich first layer is formed onto the semiconductor light-emitting device by heating the vapor deposition source at a first temperature to selectively evaporate Sn from the AuSn alloy, and an Au-rich second layer is formed onto the first layer by heating the vapor deposition source at a second temperature higher than the first temperature to evaporate all of the vapor deposition source.例文帳に追加

合金化したＡｕＳｎからなる蒸着源を準備し、蒸着源を第１の温度で加熱してＡｕＳｎ合金からＳｎを選択的に蒸発させて半導体発光素子へＳｎリッチな第１の層を形成し、蒸着源を第１の温度より高い第２の温度で加熱して蒸発源を全て蒸発させて第１の層の上へＡｕリッチな第２の層を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent vapor-deposited film which can prevent troubles of wrinkles caused by the radiation heat from a vapor deposition source and can enhance the gas shielding performance of a transparent vapor-deposited film when continuously manufacturing a plastic film having an inorganic oxide layer on at least its one side by using a vapor deposition system.例文帳に追加

少なくとも片面に無機酸化物層を持つプラスチックフィルムを蒸着装置を用い連続的に製造するときにおいて蒸着源からの輻射熱でおこるシワなどが発生するトラブルを防ぎかつ、透明蒸着フィルムのガス遮断性能を向上させること。 - 特許庁

Furthermore, a peripheral wall of a container 5b to house the vapor deposition material 5a is installed in a protruded state, and this peripheral wall protruding part 20 is controlled in a temperature in which the vapor deposition material 5a is not accumulated, and the vapor molecules are made to function as a barrier and a guide to guide the vapor molecules toward the substrate 3.例文帳に追加

また、蒸着物質５ａを収容する容器５ｂの周壁を突出して設け、この周壁突出部分２０を蒸着物質５ａが堆積しない温度に制御し、前記蒸気分子を基板３の方へ導くバリアおよびガイドとして機能させる。 - 特許庁

The silicon nitride film is deposited by a chemical vapor deposition method, more particularly a catalytic CVD method.例文帳に追加

化学気相成長法、特に触媒ＣＶＤ法により成膜される窒化シリコン膜である。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device with a high utilization efficiency of an EL material and a superior uniformity of a film.例文帳に追加

ＥＬ材料の利用効率が高く、膜の均一性に優れた蒸着装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM, METHOD FOR MANUFACTURING WIRE ROD WITH THIN FILM, AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS WITH PULSED LASER例文帳に追加

薄膜の製造方法ならびに薄膜線材の製造方法およびパルスレーザ蒸着装置 - 特許庁

A vapor deposition apparatus 10 has a substrate-holding mechanism 15 for holding a plurality of substrates 11.例文帳に追加

蒸着装置１０には、複数の基板１１を保持する基板保持機構１５が設けられている。 - 特許庁

Alternatively, the silicon oxide layer 102 can be deposited by a CVD (Chemical Vapor Deposition method).例文帳に追加

また、ＣＶＤ（化学的気相成長法）により、酸化シリコン層１０２のが形成可能である。 - 特許庁

To provide an organic vapor deposition system where a substrate and a mask can be fused and fixed under uniform pressure.例文帳に追加

基板とマスクとを均一な圧力で合着し固定する有機物蒸着装置を提供する。 - 特許庁

In this way, deterioration of the vapor deposition film caused in a knocking process conventionally can be prevented.例文帳に追加

これにより、従来ノッキング処理中に起こっていた蒸着膜７の劣化が回避される。 - 特許庁

Vapor deposition can be performed on the whole surface of the substrate 1 by vertically moving the evaporation source.例文帳に追加

蒸発源を上下させることによって、基板1全面に蒸着を行うことが出来る。 - 特許庁

To provide an organic radical compound usable in a vacuum vapor deposition process, and an organic device employing the same.例文帳に追加

真空蒸着法が可能な有機ラジカル化合物、それを用いた有機デバイスの提供。 - 特許庁

To provide an ALD thin-film vapor deposition apparatus which effectively forms a high-quality thin film.例文帳に追加

高品質な薄膜を効率的に形成するＡＬＤ薄膜蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide an improved chemical vapor deposition system that offers coating on a glass sheet substrate.例文帳に追加

ガラスシート基板上にコーティングを提供する改良された化学蒸着システムを提供する。 - 特許庁

To provide a catalytic chemical vapor deposition apparatus that can increase the lifespan of catalytic wires.例文帳に追加

触媒線の長寿命化を図ることができる触媒化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an embedded bit line utilizing a selective non-electrolytic vapor deposition method.例文帳に追加

選択的無電解蒸着法を利用した埋め込みビットラインの形成方法を提供する。 - 特許庁

The sacrificial 14 is vapor-deposited with the vaporized first metal 22 to form into a deposition layer on the sacrificial layer 14.例文帳に追加

仮層14は、仮層14上の堆積層となる気化された第一金属22で蒸着される。 - 特許庁

To perform continuous operation for a long period of time while restraining the deterioration of a vapor deposition material.例文帳に追加

蒸着材料の劣化を防止しつつ、長期間にわたる連続運転を可能とする。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD OF VAPOR DEPOSITION THIN FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL PANEL USING IT例文帳に追加

蒸着薄膜のパターン形成方法およびそれを用いた有機ＥＬパネルの製造方法 - 特許庁

The mask part 13 is formed into a pattern reverse to a cathode vapor deposition pattern A by using an emulsion.例文帳に追加

マスク部１３は、乳剤を用いてカソード蒸着パターンＡの反転パターンに形成する。 - 特許庁

As a patterning layer 4, an aluminum vapor deposition layer with a thickness of 600 Å is formed.例文帳に追加

絵付け層４として膜厚６００Åのアルミニウムからなる蒸着層を形成した。 - 特許庁

METALLIC LAYER DEPOSITION SYSTEM FOR REDUCING PARTICLE FORMATION AND VAPOR PHASE RAW MATERIAL DISTRIBUTION SYSTEM AND METHOD例文帳に追加

パーティクルの形成を低減する金属層成膜システム、気相原料分配システムおよび方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PLASTIC MOLDING FOR VAPOR DEPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASTIC MOLDING WITH GAS BARRIER PROPERTIES例文帳に追加

蒸着用プラスチック成形体の製造方法及びガスバリア性プラスチック成形体の製造方法 - 特許庁

The thickness of the hydrophobic polymer laminated by chemical vapor deposition is 5-1,000 nm.例文帳に追加

また、ケミカルベーパーデポジションにより積層される疎水性重合体の厚みが５〜１，０００ｎｍである。 - 特許庁

This device is for sticking a ceramic film by an electron beam physical vapor deposition method(EBPVD).例文帳に追加

電子ビーム物理蒸着法（ＥＢＰＶＤ）によってセラミック皮膜を付着するための装置。 - 特許庁

To provide an apparatus for thermal and plasma enhanced vapor deposition and a method of operating.例文帳に追加

熱およびプラズマ増強蒸着のための装置および操作方法を提供することである。 - 特許庁